JPH0223605A - レチクル移動交換機 - Google Patents
レチクル移動交換機Info
- Publication number
- JPH0223605A JPH0223605A JP63173020A JP17302088A JPH0223605A JP H0223605 A JPH0223605 A JP H0223605A JP 63173020 A JP63173020 A JP 63173020A JP 17302088 A JP17302088 A JP 17302088A JP H0223605 A JPH0223605 A JP H0223605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- cassette
- cassettes
- carrier
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
本発明はウェハ基板上にレジストパターンを得るため露
光するレチクルを載置したカセットを収納しておき、所
望のレチクルを能率良く搬送させるレチクル移動交換機
に関し、 レチクル移動交換機からレチクル搬送を出来るだけ短い
経路で短時間に行うことにより、ゴミなどの異物付着を
少なくしたレチクル移動交換機を提供することを目的と
し、 複数のレチクルカセットを所定状態に並べ、特定のカセ
ットを搬送具により引き出してレチクルセント台上に移
動させるレチクル移動交換機において、複数のレチクル
カセットを平板上で略同心円上に配置し、且つ搬送具に
よる引き出し位置をレチクルセット台の近傍とするよう
に前記平板を回転可能の構成としたことを特徴とする。
光するレチクルを載置したカセットを収納しておき、所
望のレチクルを能率良く搬送させるレチクル移動交換機
に関し、 レチクル移動交換機からレチクル搬送を出来るだけ短い
経路で短時間に行うことにより、ゴミなどの異物付着を
少なくしたレチクル移動交換機を提供することを目的と
し、 複数のレチクルカセットを所定状態に並べ、特定のカセ
ットを搬送具により引き出してレチクルセント台上に移
動させるレチクル移動交換機において、複数のレチクル
カセットを平板上で略同心円上に配置し、且つ搬送具に
よる引き出し位置をレチクルセット台の近傍とするよう
に前記平板を回転可能の構成としたことを特徴とする。
［産業上の利用分野］
本発明はウェハ基板上にレジストパターンを得るため露
光するレチクルを載置したカセットを収納しておき、所
望のレチクルを能率良く搬送させるレチクル移動交換機
に関する。
光するレチクルを載置したカセットを収納しておき、所
望のレチクルを能率良く搬送させるレチクル移動交換機
に関する。
従来のレチクル移動交換機はレチクルカセットを水平板
上に載置して、それを縦方向に重ねて構成し、上下左右
に動くロボットアームなどの搬送具により所望のレチク
ルをレチクルセット台上に移動させていた。そのためレ
チクルを交換する時間を長く要し、且つレチクルセット
台上に移動させるとき、ゴミが付くことがあった。その
ため短時間で交換可能で且つゴミの付き難い構成とする
ことが要望された。
上に載置して、それを縦方向に重ねて構成し、上下左右
に動くロボットアームなどの搬送具により所望のレチク
ルをレチクルセット台上に移動させていた。そのためレ
チクルを交換する時間を長く要し、且つレチクルセット
台上に移動させるとき、ゴミが付くことがあった。その
ため短時間で交換可能で且つゴミの付き難い構成とする
ことが要望された。
［従来の技術］
半導体素子による大規模集積回路を製造するため、レジ
ストの塗布によるホトリソグラフィ技術を多用している
。そのときレチクル上のパターンを１１５または１／１
０に縮小してウェハ基板上にパターンを作る。レチクル
はしたがってウェハ上の原寸パターンの５〜１０倍の大
きさで製作されることが多く、ガラス基板上にクロムな
どの金属でパターンを形成している。また半導体デバイ
スを作製して行くのにレジストパターニング時、複数の
レチクルが必要となる。更に他品種の半導体デバイスを
作製するに当たっても異なるレチクルが必要になる。第
３図はそのような複数のレチクルを移動交換する移動交
換機を示す概要図である。
ストの塗布によるホトリソグラフィ技術を多用している
。そのときレチクル上のパターンを１１５または１／１
０に縮小してウェハ基板上にパターンを作る。レチクル
はしたがってウェハ上の原寸パターンの５〜１０倍の大
きさで製作されることが多く、ガラス基板上にクロムな
どの金属でパターンを形成している。また半導体デバイ
スを作製して行くのにレジストパターニング時、複数の
レチクルが必要となる。更に他品種の半導体デバイスを
作製するに当たっても異なるレチクルが必要になる。第
３図はそのような複数のレチクルを移動交換する移動交
換機を示す概要図である。
第３図において、１はレクチル移動交換機を全体的に示
すもの、２はレチクルセット台、３はロボットのような
レチクル搬送具、４１．４２−はレチクル、５１，５２
−はレチクルを内蔵したレチクルカセット、６は縮小レ
ンズ、７はウェハ基板を示す。レチクル移動交換機１は
レチクル搬送ソ１−５１． ５２−−をそれぞれ載置し
た棚板８１．８２−を有している。ウェハ基板７に所定
の露光を与えるため、レチクルカセットの所定のもの例
えば５２をレチクルセット台２のレチクル置き場へ搬送
具３が上下左右へ動き、図示しない動力源の動力により
レチクル４２をレチクルセット台２のレチクル置き場に
搬送する。図示しない光源からの照明光をレンズ６を介
してウェハ基板７上にレチクルパターンを照射する。
すもの、２はレチクルセット台、３はロボットのような
レチクル搬送具、４１．４２−はレチクル、５１，５２
−はレチクルを内蔵したレチクルカセット、６は縮小レ
ンズ、７はウェハ基板を示す。レチクル移動交換機１は
レチクル搬送ソ１−５１． ５２−−をそれぞれ載置し
た棚板８１．８２−を有している。ウェハ基板７に所定
の露光を与えるため、レチクルカセットの所定のもの例
えば５２をレチクルセット台２のレチクル置き場へ搬送
具３が上下左右へ動き、図示しない動力源の動力により
レチクル４２をレチクルセット台２のレチクル置き場に
搬送する。図示しない光源からの照明光をレンズ６を介
してウェハ基板７上にレチクルパターンを照射する。
第４図はレチクルと搬送具の関係を示す概略上面図であ
る。第４図において第３図と同一符号は同様のものを示
し、１般送具としての）般送棒がレチクル４２の下方に
入り込んだ状態を示している。
る。第４図において第３図と同一符号は同様のものを示
し、１般送具としての）般送棒がレチクル４２の下方に
入り込んだ状態を示している。
［発明が解決□しようとする課題］
第３図・第４図の構成において、搬送具３か所定の位置
に上下動してから、レチクルカセット内のレチクルを取
り出し、レチクルセット台上に搬送するまでには、可成
りの距離と時間を要する。
に上下動してから、レチクルカセット内のレチクルを取
り出し、レチクルセット台上に搬送するまでには、可成
りの距離と時間を要する。
そのため作業環境をクリーンにしていても、ゴミがレチ
クル上に付着する欠点があった。また次のレチクルと交
換するため、−旦、カセットへ戻して、次のレチクルカ
セットを持ち上げるか引き下げるかして搬送する必要が
あり、作業に長時間を要した。
クル上に付着する欠点があった。また次のレチクルと交
換するため、−旦、カセットへ戻して、次のレチクルカ
セットを持ち上げるか引き下げるかして搬送する必要が
あり、作業に長時間を要した。
本発明の目的は前述の欠点を改善し、レチクル移動交換
機からレチクル搬送をできるだけ短い経路で短時間に行
うことにより、ゴミなどの異物付着を少なくしたレチク
ル移動交換機を提供することにある。
機からレチクル搬送をできるだけ短い経路で短時間に行
うことにより、ゴミなどの異物付着を少なくしたレチク
ル移動交換機を提供することにある。
し課題を解決するための手段コ
本発明のレチクル移動交換機は、複数のレチクルカセッ
トを平板上で略同心円上に配置し、且つ搬送具による引
き出し位置をレチクル用基板の露光台の近傍とするよう
に前記平板を回転可能の構成としたことが特徴点である
。
トを平板上で略同心円上に配置し、且つ搬送具による引
き出し位置をレチクル用基板の露光台の近傍とするよう
に前記平板を回転可能の構成としたことが特徴点である
。
［作用］
レチクルカセットは回転可能な平板上で略同心上に配置
されているから、所望のレチクルカセットをレチクルセ
ット台上の近傍となる位置に回転させて、そのイ装置で
カセットからレチクルを引き出す。レチクルセント台上
へは僅かの距離だけ搬送すれば良いからゴミの付着する
恐れが少なく、また短時間で交換ができる。
されているから、所望のレチクルカセットをレチクルセ
ット台上の近傍となる位置に回転させて、そのイ装置で
カセットからレチクルを引き出す。レチクルセント台上
へは僅かの距離だけ搬送すれば良いからゴミの付着する
恐れが少なく、また短時間で交換ができる。
［実施例コ
第１図は本発明の実施例の構成を示す平面図、第２図は
その要部の側面図を示す。第１図・第２図において、２
はレチクルセント台、３はロボットのような搬送具を示
し、５１．５２− はレチクルカセットで内部にレチク
ルを収納している。９は平板、１０は平板回転用動力源
、１１は搬送具駆動用動力源で、矢印のように各方向へ
移動可能のものを示す。レチクルカセット５１．５２−
は平板９上で略、同心円周上に配置されている。レチク
ルカセット５１．５２− のうち所望のもの例えば５２
をレチクルセット台２に最も近い位置へ来るように平板
９を動力源１０により回転させる。
その要部の側面図を示す。第１図・第２図において、２
はレチクルセント台、３はロボットのような搬送具を示
し、５１．５２− はレチクルカセットで内部にレチク
ルを収納している。９は平板、１０は平板回転用動力源
、１１は搬送具駆動用動力源で、矢印のように各方向へ
移動可能のものを示す。レチクルカセット５１．５２−
は平板９上で略、同心円周上に配置されている。レチク
ルカセット５１．５２− のうち所望のもの例えば５２
をレチクルセット台２に最も近い位置へ来るように平板
９を動力源１０により回転させる。
次に搬送具３を動力ｆｉｌｌにより動かしてレチクルカ
セット５２の内部カセット４２について、例えば下方か
ら少し持ち上げて後、水平方向に押し出し、レチクルセ
ット台２の上方にセットする。
セット５２の内部カセット４２について、例えば下方か
ら少し持ち上げて後、水平方向に押し出し、レチクルセ
ット台２の上方にセットする。
セットの後マスク用基板に露光してから、搬送具３によ
りレチクル４２をカセット５２内に戻す。
りレチクル４２をカセット５２内に戻す。
なお、カセット５２は平板９の上に爪と爪受は部を用い
て固定して置く。
て固定して置く。
第１図において、平板９の縁とレチクルセット台２とは
、十分に接近する構造とすることが望ましい。
、十分に接近する構造とすることが望ましい。
また、搬送具３としては搬送棒を使用する以外に、レチ
クルカセットの蓋を開き、レチクルの四角を吸着してか
ら移動する形のものであっても良い。
クルカセットの蓋を開き、レチクルの四角を吸着してか
ら移動する形のものであっても良い。
［発明の効果コ
このようにして本発明によると、レチクルカセットから
レチクルを取り出してレチクルセット台上にセットする
までの搬送距離が短縮されているので、レチクルにゴミ
の付着する可能性が低くなる。そのためウェハ基板上に
異物を転写することが無くなり、製品の歩留まりを大い
に向上することが出来る。
レチクルを取り出してレチクルセット台上にセットする
までの搬送距離が短縮されているので、レチクルにゴミ
の付着する可能性が低くなる。そのためウェハ基板上に
異物を転写することが無くなり、製品の歩留まりを大い
に向上することが出来る。
第１図は本発明の実施例の構成を示す平面図、第２図は
第１図の主要部の側面図、 第３図は従来のレチクル移動交換機の概要を示す図、 第４図は第３図のレチクルと搬送具の関係を示す図であ
る。 １−レチクル移動交換機 ２−・・レチクルセット台 ３−搬送具 ４１．４２− レチクル ５１．５２−・・レチクルカセット ９−・−平板 特許出願人 富士通株式会社 代 理 人 弁理士 鈴木栄祐 レチクル移動交換才人 第３因
第１図の主要部の側面図、 第３図は従来のレチクル移動交換機の概要を示す図、 第４図は第３図のレチクルと搬送具の関係を示す図であ
る。 １−レチクル移動交換機 ２−・・レチクルセット台 ３−搬送具 ４１．４２− レチクル ５１．５２−・・レチクルカセット ９−・−平板 特許出願人 富士通株式会社 代 理 人 弁理士 鈴木栄祐 レチクル移動交換才人 第３因
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数のレチクルカセット（５１）（５２）・・・・・を
所定状態に並べ、特定のカセット（５２）を搬送具（３
）により引き出してレチクルセット台（２）上に移動さ
せるレチクル移動交換機において、 複数のレチクルカセット（５１）（５２）・・・・・を
平板（９）上で略同心円上に配置し、且つ搬送具（３）
による引き出し位置をレチクルセット台（２）の近傍と
するように前記平板（９）を回転可能の構成としたこと
を特徴とするレチクル移動交換機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173020A JPH0223605A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173020A JPH0223605A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223605A true JPH0223605A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15952720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173020A Pending JPH0223605A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | レチクル移動交換機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0223605A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4575635A1 (en) * | 2023-12-21 | 2025-06-25 | Brooks Automation (Germany) GmbH | Stocker system with a stack of reticle storage pods with prevention of storage pod horizontal movement |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS546866A (en) * | 1977-06-20 | 1979-01-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Treating apparatus for gas containing malodorant |
| JPS59117130A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-06 | Hitachi Ltd | ロ−ド・アンロ−ド装置 |
| JPS60243658A (ja) * | 1984-05-09 | 1985-12-03 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | マスク交換装置 |
| JPS61177726A (ja) * | 1985-02-01 | 1986-08-09 | Hitachi Ltd | 半導体用露光装置 |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63173020A patent/JPH0223605A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS546866A (en) * | 1977-06-20 | 1979-01-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Treating apparatus for gas containing malodorant |
| JPS59117130A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-06 | Hitachi Ltd | ロ−ド・アンロ−ド装置 |
| JPS60243658A (ja) * | 1984-05-09 | 1985-12-03 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | マスク交換装置 |
| JPS61177726A (ja) * | 1985-02-01 | 1986-08-09 | Hitachi Ltd | 半導体用露光装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4575635A1 (en) * | 2023-12-21 | 2025-06-25 | Brooks Automation (Germany) GmbH | Stocker system with a stack of reticle storage pods with prevention of storage pod horizontal movement |
| WO2025131381A1 (en) * | 2023-12-21 | 2025-06-26 | Brooks Automation (Germany) Gmbh | Stocker system for storage of reticles, corresponding storage stocker and methods and devices for retrieving reticle pods or reticles from a stack of reticle pods or for storing them therein |
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