JPH0224134A - 金属・プラスチックラミネートテープの製造方法 - Google Patents
金属・プラスチックラミネートテープの製造方法Info
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- JPH0224134A JPH0224134A JP17426488A JP17426488A JPH0224134A JP H0224134 A JPH0224134 A JP H0224134A JP 17426488 A JP17426488 A JP 17426488A JP 17426488 A JP17426488 A JP 17426488A JP H0224134 A JPH0224134 A JP H0224134A
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- B32—LAYERED PRODUCTS
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- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
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- B32B2398/00—Unspecified macromolecular compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、金属テープとプラスチックテープを連続的に
接着して金属・プラスチックラミネートテープを製造す
る方法に関し、とくに接着される材料の相違から従来不
可避であった内部応力の残留を最小限となし得る改良さ
れた!!!遣方法に関するものである。
接着して金属・プラスチックラミネートテープを製造す
る方法に関し、とくに接着される材料の相違から従来不
可避であった内部応力の残留を最小限となし得る改良さ
れた!!!遣方法に関するものである。
[従来の技術]
近年ICの高集積化・高密度化は著しいものがあり、す
でにMビット時代が到来しようとしている。
でにMビット時代が到来しようとしている。
このようなICを搭載させるリードフレームも必然的に
多ピン化が必要であり、すでに100ピン以上のリード
フレームも実用化の域に入りつつある。
多ピン化が必要であり、すでに100ピン以上のリード
フレームも実用化の域に入りつつある。
多ピン化は即ちリードの微細化・精密化に直結するもの
であり、そのような要請に対して従来の金属薄板から加
工したリードフレームでは対応が囲器となってきた。そ
のために、これまでにもいくつかの提案が試みられてい
る。
であり、そのような要請に対して従来の金属薄板から加
工したリードフレームでは対応が囲器となってきた。そ
のために、これまでにもいくつかの提案が試みられてい
る。
TABあるいはテープキャリアと呼ばれている面実装型
バヅゲージは、上記した多ピン化に適切に対応できるも
のとして提案されたものであり、すでにICカードなど
において実用化が図られている。
バヅゲージは、上記した多ピン化に適切に対応できるも
のとして提案されたものであり、すでにICカードなど
において実用化が図られている。
第13図に示すものは、そのようなTABテープ20の
具体的構成を示す説明平面図である6例えばポリイミド
テープ21に必要に応じデバイスホール24や送り孔2
5あるいはアウターリード接合ホール23などを形成し
、このようなポリイミドテープ21と例えば銅箔を接着
剤を介してラミネートする。その後フォトレジスト法に
より銀箔をエツチングし、銅箔パターン22.22より
なるリードを形成させるものである。実装においてはデ
バイスホール24内にIC素子(図示してない)を格納
させ、IC素子のバンプと銅箔パターンよりなるリード
を接合させボッティングレジンによる封止を行なうのが
通常である。
具体的構成を示す説明平面図である6例えばポリイミド
テープ21に必要に応じデバイスホール24や送り孔2
5あるいはアウターリード接合ホール23などを形成し
、このようなポリイミドテープ21と例えば銅箔を接着
剤を介してラミネートする。その後フォトレジスト法に
より銀箔をエツチングし、銅箔パターン22.22より
なるリードを形成させるものである。実装においてはデ
バイスホール24内にIC素子(図示してない)を格納
させ、IC素子のバンプと銅箔パターンよりなるリード
を接合させボッティングレジンによる封止を行なうのが
通常である。
第8〜10図は、上記のように構成される1゛ABテー
プを製造するための3様の金属・プラスチックラミネー
トテープ4を示す見取図であり、1は金属テープ、2は
プラスチックテープ、3は接着剤である。
プを製造するための3様の金属・プラスチックラミネー
トテープ4を示す見取図であり、1は金属テープ、2は
プラスチックテープ、3は接着剤である。
上記ラミネートテープ4は、従来は第7図に示すような
方法で製造するのがもっとも一般的であった。すなわち
、加熱されている圧着ロール12゜12の間に予め接着
面が塗布されている金属テープ1およびプラスチックテ
ープ2を導入し、圧着温度を例えば120〜160℃程
度に設定して前記圧着ロール12.12により圧下接着
させるものである。この場合、必要に応じ従来は図に示
すように加熱装置7によりプラスチックテープ2を圧着
ロールの直前部で予熱することも行なわれていた。
方法で製造するのがもっとも一般的であった。すなわち
、加熱されている圧着ロール12゜12の間に予め接着
面が塗布されている金属テープ1およびプラスチックテ
ープ2を導入し、圧着温度を例えば120〜160℃程
度に設定して前記圧着ロール12.12により圧下接着
させるものである。この場合、必要に応じ従来は図に示
すように加熱装置7によりプラスチックテープ2を圧着
ロールの直前部で予熱することも行なわれていた。
[発明が解決しようとする課題1
上記のようにして例えば150℃程度の圧着温度で接着
されたラミネートテープは、その後常温まで冷却して収
縮する。しかし、ラミネートテープの構成材料は片側は
金属であり片側はプラスチックという異種材料であるか
ら、それぞれその収縮量にも差異かある。一般にその収
aXはプラスチックの方が金属よりも大きい、従って、
常温までに冷却したラミネートテープにあっては、金属
テープに圧縮の内部応力が残留し、プラスチックテープ
には引張りの内部応力が残留する結果となる。この際の
収縮における挙動は、金属テープ側は熱膨張係数に基く
収縮が主となるが、プラスチックテープは温度を上げて
冷却したときに生ずる材料固有の熱収縮現象および熱膨
張係数に基く収縮か主となり、さらにラミネートすると
きに両テープに加わる張力に起因する伸びの回復に伴う
弾性縮みも関与し、複雑な様相がある。
されたラミネートテープは、その後常温まで冷却して収
縮する。しかし、ラミネートテープの構成材料は片側は
金属であり片側はプラスチックという異種材料であるか
ら、それぞれその収縮量にも差異かある。一般にその収
aXはプラスチックの方が金属よりも大きい、従って、
常温までに冷却したラミネートテープにあっては、金属
テープに圧縮の内部応力が残留し、プラスチックテープ
には引張りの内部応力が残留する結果となる。この際の
収縮における挙動は、金属テープ側は熱膨張係数に基く
収縮が主となるが、プラスチックテープは温度を上げて
冷却したときに生ずる材料固有の熱収縮現象および熱膨
張係数に基く収縮か主となり、さらにラミネートすると
きに両テープに加わる張力に起因する伸びの回復に伴う
弾性縮みも関与し、複雑な様相がある。
上記のような収縮量の差異によって生じた残留応力は、
その後のラミネートテープの加工などにおいて少なから
ず障害となる。
その後のラミネートテープの加工などにおいて少なから
ず障害となる。
すなわち、先に説明したように、TABテープに加工す
るには、上記のようにして接合させた金属テープにエツ
チング加工を施し、リードパターンを形成するが、この
エツチングにより金属テープの一部が溶解除去されて分
離されると、それまで応力のバランスを保っていた金属
側の容積が減少する結果、内部応力のバランスに変化が
生ずる。
るには、上記のようにして接合させた金属テープにエツ
チング加工を施し、リードパターンを形成するが、この
エツチングにより金属テープの一部が溶解除去されて分
離されると、それまで応力のバランスを保っていた金属
側の容積が減少する結果、内部応力のバランスに変化が
生ずる。
これによって内部応力の解放に基く寸法変化が発生する
のである。
のである。
ICパッケージ用等に使用される微細パターンは、上記
のような内部応力の変化に由来する程度のわずかな寸法
変化であっても、大きな障害となり得る0例えば、前記
のようにして金属・プラスチックラミネートテープの金
属テープをエツチングにより部分的に除去すると、前記
圧縮の内部応力を有していた金属部分が減少するため、
引張りの内部応力を持っていたプラスチック部分はそれ
によって収縮する。この収縮率は現実にはO11〜0.
3%程度であるが、これを30−の長さについてみたと
きには30〜90μmの収縮量となり、場合によっては
ほぼリードピッチに6敞する数値となるのであり、今日
のICCパラゲージTABJTf[Iパターンリードフ
レームにとっては非常に問題のある値である。
のような内部応力の変化に由来する程度のわずかな寸法
変化であっても、大きな障害となり得る0例えば、前記
のようにして金属・プラスチックラミネートテープの金
属テープをエツチングにより部分的に除去すると、前記
圧縮の内部応力を有していた金属部分が減少するため、
引張りの内部応力を持っていたプラスチック部分はそれ
によって収縮する。この収縮率は現実にはO11〜0.
3%程度であるが、これを30−の長さについてみたと
きには30〜90μmの収縮量となり、場合によっては
ほぼリードピッチに6敞する数値となるのであり、今日
のICCパラゲージTABJTf[Iパターンリードフ
レームにとっては非常に問題のある値である。
また、それとは別に、第10図に示すようにプラスチッ
クテープ2に例えばデバイスホール24を予め打抜いて
おいてこれに金属テープ1をラミネートした場合、ラミ
ネートさせた後の両者の収縮量の差異から、第11図に
示すようにデバイスホール24部分で金属テープ1に深
さdなる落ち込み1aが形成されたり、あるいは第12
図に示すようにデバイスホール24部分で金属テープ1
にとび出し1bが形成されたりする場合がある。
クテープ2に例えばデバイスホール24を予め打抜いて
おいてこれに金属テープ1をラミネートした場合、ラミ
ネートさせた後の両者の収縮量の差異から、第11図に
示すようにデバイスホール24部分で金属テープ1に深
さdなる落ち込み1aが形成されたり、あるいは第12
図に示すようにデバイスホール24部分で金属テープ1
にとび出し1bが形成されたりする場合がある。
このように落ち込み1aやとび出し1bのあるところに
エツチングのためのレジストを塗布する場合、レジスト
の均一厚さでの塗布が困難になったり、そこにパターン
を形成するために露光する際前記落ち込み1aやとび出
し1b部分のピントがぼけ鮮明なパターンの形成を妨げ
るといった問題も起り得る。
エツチングのためのレジストを塗布する場合、レジスト
の均一厚さでの塗布が困難になったり、そこにパターン
を形成するために露光する際前記落ち込み1aやとび出
し1b部分のピントがぼけ鮮明なパターンの形成を妨げ
るといった問題も起り得る。
本発明の目的は、上記したような従来技術の問題点を解
消し、金属テープとプラスチックテープのラミネートに
おいて、内部残留応力の発生を最小限にとどめ、エツチ
ング加工における前記した障害を解消し得る金属・プラ
スチックラミネートテープの製造方法を提供しようとす
るものである。
消し、金属テープとプラスチックテープのラミネートに
おいて、内部残留応力の発生を最小限にとどめ、エツチ
ング加工における前記した障害を解消し得る金属・プラ
スチックラミネートテープの製造方法を提供しようとす
るものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、金属テープとプラスチックテープの圧着を行
なうに際し、金属テープを圧着温度よりも高温に加熱し
ておくか、あるいは逆にプラスチックテープを圧着温度
よりも低温に冷却しておくか、あるいはこれを共に行な
い、その状態で圧着させるものである。
なうに際し、金属テープを圧着温度よりも高温に加熱し
ておくか、あるいは逆にプラスチックテープを圧着温度
よりも低温に冷却しておくか、あるいはこれを共に行な
い、その状態で圧着させるものである。
[作用]
金属テープの温度が圧着温度以上に加熱されていること
は、それだけ余分に熱膨張を与えておくことであり、プ
ラスチックテープを圧着温度より低温に冷却することは
熱膨張ないし加熱による材料固有の収縮を出来る限り小
さく抑えておくことである。従って、そのような状態で
ラミネニトされた材料は熱収縮量が共に近接してきて結
果的に従来例にみちれたような大きな残留応力の発生が
防止されるのである。
は、それだけ余分に熱膨張を与えておくことであり、プ
ラスチックテープを圧着温度より低温に冷却することは
熱膨張ないし加熱による材料固有の収縮を出来る限り小
さく抑えておくことである。従って、そのような状態で
ラミネニトされた材料は熱収縮量が共に近接してきて結
果的に従来例にみちれたような大きな残留応力の発生が
防止されるのである。
[実施例]
以下に、本発明について実施例を参照し、順次説明する
。
。
第1図は、本発明に係る方法によりラミネートテープ4
を製造している様子を示す説明図であり、1が金属テー
プ、2がプラスチックテープである。
を製造している様子を示す説明図であり、1が金属テー
プ、2がプラスチックテープである。
本発明においては、前記第7図の従来例におけるように
上下の圧着ロール12.12が共に加熱されるのではな
く、金属テープ1側の圧着ロール5は加熱されるがプラ
スチックテープ2@の圧着ロール6は加熱されることな
く低温に維持される。
上下の圧着ロール12.12が共に加熱されるのではな
く、金属テープ1側の圧着ロール5は加熱されるがプラ
スチックテープ2@の圧着ロール6は加熱されることな
く低温に維持される。
のみならず、金属テープ1が高温圧着ロール5と接触す
る接触部Aから圧着部Cに至る中間に熱風ノズル11が
配置され、圧着部Cに到達する前に金属テープ1は加熱
される。この加熱によって金属テープ1は圧着部Cにお
ける圧着に先立って圧着温度以上の高温状態とされ圧着
部Cに導入される。
る接触部Aから圧着部Cに至る中間に熱風ノズル11が
配置され、圧着部Cに到達する前に金属テープ1は加熱
される。この加熱によって金属テープ1は圧着部Cにお
ける圧着に先立って圧着温度以上の高温状態とされ圧着
部Cに導入される。
一方、グラスチックテープ2は低温の圧着ロール6との
接触部Bと前記圧着部Cとの間で冷風ノズルlOにより
冷却される。前記第7図に示した従来例においてはプラ
スチックテープ2はむしろ加熱されたのであり、それに
反し本発明にあっては逆に冷却するところに特徴を有す
る。これによって、プラスチックテープ2は圧着に先立
って圧着温度以下に冷却された状態で圧着部Cに導入さ
れる。
接触部Bと前記圧着部Cとの間で冷風ノズルlOにより
冷却される。前記第7図に示した従来例においてはプラ
スチックテープ2はむしろ加熱されたのであり、それに
反し本発明にあっては逆に冷却するところに特徴を有す
る。これによって、プラスチックテープ2は圧着に先立
って圧着温度以下に冷却された状態で圧着部Cに導入さ
れる。
上記の通り、本発明によれば金属テープ1は加熱により
高温状態とされ従来よりも熱膨張された状態においてラ
ミネートテープに圧着され、またプラスチックテープは
従来よりも熱膨張などの抑制された状態で圧着されるこ
ととなる。その結果、圧着後常温に戻ったラミネートテ
ープ4のそれぞれの収縮量がより近接せしめられること
となり、常温に冷却したラミネートテープ4に前記従来
例にみられたような大きな残留応力は発生しない。
高温状態とされ従来よりも熱膨張された状態においてラ
ミネートテープに圧着され、またプラスチックテープは
従来よりも熱膨張などの抑制された状態で圧着されるこ
ととなる。その結果、圧着後常温に戻ったラミネートテ
ープ4のそれぞれの収縮量がより近接せしめられること
となり、常温に冷却したラミネートテープ4に前記従来
例にみられたような大きな残留応力は発生しない。
従って、その後金属テープ1をエツチングにより部分的
に除去したとしても、内部応力に大きな変動は生ぜず、
前記従来例にみられたような残留応力の解放に起因する
プラスチックテープの収縮量は大巾に低減され、つねに
安定した寸法精度を維持することができる。
に除去したとしても、内部応力に大きな変動は生ぜず、
前記従来例にみられたような残留応力の解放に起因する
プラスチックテープの収縮量は大巾に低減され、つねに
安定した寸法精度を維持することができる。
第2図は、本発明に係る別な実施例を示すものである0
本実施例では、前記した冷風ノズルlOおよび熱風ノズ
ル11に代え、金属テープ1rfIJに加熱装置7を設
置して金属テープを当該装置内を通過させ、さらに圧着
部Cの直前で第2加熱装置7−で加熱し、金属テープ1
の加熱を安定かつ確実ならしめる一方、プラスチックテ
ープ211IIには冷却装置8を配置してその冷却をよ
り確かなものとしている。
本実施例では、前記した冷風ノズルlOおよび熱風ノズ
ル11に代え、金属テープ1rfIJに加熱装置7を設
置して金属テープを当該装置内を通過させ、さらに圧着
部Cの直前で第2加熱装置7−で加熱し、金属テープ1
の加熱を安定かつ確実ならしめる一方、プラスチックテ
ープ211IIには冷却装置8を配置してその冷却をよ
り確かなものとしている。
第3〜6図は、本発明に係るさらに別な実施例を示すも
のであり、単に加熱冷却による内部応力のバランスの調
整に止まらず、ロール部分においてR械的な調整をも実
施させようとするものである。
のであり、単に加熱冷却による内部応力のバランスの調
整に止まらず、ロール部分においてR械的な調整をも実
施させようとするものである。
すなわち、前記第1および2図におけように圧着ロール
による圧@後、ラミネートテープ4をロール表面から直
ちにallffさせず、当該ラミネートテープ4を金属
テープ1を圧着するロール5側の外周面に沿ってそれぞ
れの図中CからDまでの円周長さだけ移行させてから離
間させる。このようにすれば、プラスチックテープ2が
外側となった分だけ金属テープ1よりも長さが長い状態
で圧着が行なわれるから、ラミネートテープ4が常温に
戻ったときには、収縮量の小さい金属テープ1と収縮量
の大きいプラスチックテープとの長さの差が少くなり、
それによって内部残留応力を小さくすることができる。
による圧@後、ラミネートテープ4をロール表面から直
ちにallffさせず、当該ラミネートテープ4を金属
テープ1を圧着するロール5側の外周面に沿ってそれぞ
れの図中CからDまでの円周長さだけ移行させてから離
間させる。このようにすれば、プラスチックテープ2が
外側となった分だけ金属テープ1よりも長さが長い状態
で圧着が行なわれるから、ラミネートテープ4が常温に
戻ったときには、収縮量の小さい金属テープ1と収縮量
の大きいプラスチックテープとの長さの差が少くなり、
それによって内部残留応力を小さくすることができる。
なお、第3〜9図における加熱、冷却装3f7゜8や冷
風ノズル10については先に第1および2図において説
明したと同じ作用を期待するものであることはいうまで
もない、第5および6図においてはラミネートに圧着後
押付はロール9による押付けを付加しているが、上記し
たロール円周上CからDにおける金属テープ1とプラス
チックテープ2の長短差効果をより確実ならしめるなめ
のものである。その押付けを第5図のようにロールより
の離間部り点で行なうか第6図のように中間部E点で行
なうかは適宜に選択すればよいものである。
風ノズル10については先に第1および2図において説
明したと同じ作用を期待するものであることはいうまで
もない、第5および6図においてはラミネートに圧着後
押付はロール9による押付けを付加しているが、上記し
たロール円周上CからDにおける金属テープ1とプラス
チックテープ2の長短差効果をより確実ならしめるなめ
のものである。その押付けを第5図のようにロールより
の離間部り点で行なうか第6図のように中間部E点で行
なうかは適宜に選択すればよいものである。
実施例14
厚さ35μm、巾25市の銅テープと厚さ125μm、
巾25市のポリイミドテープを第8図に示すようにラミ
ネートした。接着剤はエポキシ系のものを用い、予めポ
リイミドテープに塗布した6両テープの圧着部の圧着温
度は約140°C1圧着部に送り込まれる直前部での銅
テープおよびポリイミドテープの温度は各々約200℃
および約60℃であった。その時の銅テープおよびポリ
イミドテープの張力(バックテンション)は各々1.0
hHおよび0.5ktであった。ラミネート後1日経過
してから銅テープを全てエツチングで剥離除去し、剥離
前後における長さの変化率を測定した。その結果、上記
供試材の収縮率は0.04%以下であることか判明した
。一方、上記の同じテープを用い従来のラミネート法で
圧着してラミネートテープを作製し、上記と同じ測定を
行なった。その結果は、0.17〜0.26%の収縮率
であり、上記本発明に係る方法で作製したラミネートテ
ープの内部残留応力は従来のものに比べ非常に小さくな
っていることが明らがとなった。
巾25市のポリイミドテープを第8図に示すようにラミ
ネートした。接着剤はエポキシ系のものを用い、予めポ
リイミドテープに塗布した6両テープの圧着部の圧着温
度は約140°C1圧着部に送り込まれる直前部での銅
テープおよびポリイミドテープの温度は各々約200℃
および約60℃であった。その時の銅テープおよびポリ
イミドテープの張力(バックテンション)は各々1.0
hHおよび0.5ktであった。ラミネート後1日経過
してから銅テープを全てエツチングで剥離除去し、剥離
前後における長さの変化率を測定した。その結果、上記
供試材の収縮率は0.04%以下であることか判明した
。一方、上記の同じテープを用い従来のラミネート法で
圧着してラミネートテープを作製し、上記と同じ測定を
行なった。その結果は、0.17〜0.26%の収縮率
であり、上記本発明に係る方法で作製したラミネートテ
ープの内部残留応力は従来のものに比べ非常に小さくな
っていることが明らがとなった。
実施例2゜
厚さ35μ、巾25rmの銅テープと、厚さ125μ、
巾35nu+のポリイミドテープを用い、ポリイミドテ
ープには予め第10図に示すようなデバイホール24お
よび送り孔25に相当する打抜き孔をつけておいてラミ
ネートした。デバイスホール24の寸法は一辺8mの正
方形とした。ラミネート時の温度および張力の条件は上
記実施例1と同じにした。比較のため、全く同じ寸法の
両テープを用い、従来のラミネート法によるラミネート
テープをも作った。ラミネート後1日経過した時点で第
11および12図に示したようなデバイスホール部の銅
テープの変形の発生状況を調べた。その結果、従来法に
よるものでは、約0. 1關の別テープの落ち込みが見
られたが、本発明の方法によるものでは、約0.02m
mの落ち込みしかなく、非常に小さいことが確認された
。
巾35nu+のポリイミドテープを用い、ポリイミドテ
ープには予め第10図に示すようなデバイホール24お
よび送り孔25に相当する打抜き孔をつけておいてラミ
ネートした。デバイスホール24の寸法は一辺8mの正
方形とした。ラミネート時の温度および張力の条件は上
記実施例1と同じにした。比較のため、全く同じ寸法の
両テープを用い、従来のラミネート法によるラミネート
テープをも作った。ラミネート後1日経過した時点で第
11および12図に示したようなデバイスホール部の銅
テープの変形の発生状況を調べた。その結果、従来法に
よるものでは、約0. 1關の別テープの落ち込みが見
られたが、本発明の方法によるものでは、約0.02m
mの落ち込みしかなく、非常に小さいことが確認された
。
[発明の効果]
以上の通り、本発明に係るラミネート法によって製造さ
れる金属・グラスチックラミネートテープにおいては、
従来のものと比べて内部残留応力が大巾に低減ないし存
在しなくなるものであり、その後の種々の高精度加工や
エツチング加工などにおいて精度の著しい向上が期待で
きるなど、その工業的価値は非常に大きなものがある。
れる金属・グラスチックラミネートテープにおいては、
従来のものと比べて内部残留応力が大巾に低減ないし存
在しなくなるものであり、その後の種々の高精度加工や
エツチング加工などにおいて精度の著しい向上が期待で
きるなど、その工業的価値は非常に大きなものがある。
第1から6図は本発明に係る製造方法のそれぞれの実施
例を示す説明図、第7図は従来の製造方法を示す説明図
、第8から10図は3様のラミネートテープの構成を示
す見取図、第11および12図はデバイスホール部にお
ける銅チー1の変形状況を示す断面図、第13図はTA
Bテーグの具体例を示す説明平面図である。 に金属テープ、 2ニブラスチツクテープ、 3:接着剤、 4:ラミネート法−1, 5:高温圧着ロール、 6二低温圧着ロール、 7:加熱装置、 8:冷却装置、 10:冷風ノズル、 11:熱風ノズル、 20:TABテープ、 24:デバイスホール。
例を示す説明図、第7図は従来の製造方法を示す説明図
、第8から10図は3様のラミネートテープの構成を示
す見取図、第11および12図はデバイスホール部にお
ける銅チー1の変形状況を示す断面図、第13図はTA
Bテーグの具体例を示す説明平面図である。 に金属テープ、 2ニブラスチツクテープ、 3:接着剤、 4:ラミネート法−1, 5:高温圧着ロール、 6二低温圧着ロール、 7:加熱装置、 8:冷却装置、 10:冷風ノズル、 11:熱風ノズル、 20:TABテープ、 24:デバイスホール。
Claims (3)
- (1)金属テープとプラスチックテープを接着剤を介し
てロールで圧着し、金属とプラスチックのラミネートテ
ープを連続的に製造する方法において、圧着部に送り込
まれる直前部で金属テープを加熱し、圧着温度よりも高
温となるようにして圧着せしめる金属・プラスチックラ
ミネートテープの製造方法。 - (2)金属テープとプラスチックテープを接着剤を介し
てロールで圧着し、金属とプラスチックのラミネートテ
ープを連続的に製造する方法において、圧着部に送り込
まれる直前部でプラスチックテープを冷却し、圧着温度
よりも低温となるようにして圧着せしめる金属・プラス
チックラミネートテープの製造方法。 - (3)ラミネートテープに圧着した後、当該ラミネート
テープを金属テープ圧着側のロール外周面に所要円周長
さ沿わせて移行させる請求項1又は2記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17426488A JPH0224134A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 金属・プラスチックラミネートテープの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17426488A JPH0224134A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 金属・プラスチックラミネートテープの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224134A true JPH0224134A (ja) | 1990-01-26 |
Family
ID=15975601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17426488A Pending JPH0224134A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 金属・プラスチックラミネートテープの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0224134A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705017A (en) * | 1993-06-10 | 1998-01-06 | Kawatetsu Galvanizing Co., Ltd. | Method for the production of steel sheet coated with a fluororesin film |
| JP2001079946A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Kuraray Co Ltd | 片面金属張積層板の製造方法 |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP17426488A patent/JPH0224134A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705017A (en) * | 1993-06-10 | 1998-01-06 | Kawatetsu Galvanizing Co., Ltd. | Method for the production of steel sheet coated with a fluororesin film |
| JP2001079946A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Kuraray Co Ltd | 片面金属張積層板の製造方法 |
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