JPH0224209Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0224209Y2
JPH0224209Y2 JP1982095433U JP9543382U JPH0224209Y2 JP H0224209 Y2 JPH0224209 Y2 JP H0224209Y2 JP 1982095433 U JP1982095433 U JP 1982095433U JP 9543382 U JP9543382 U JP 9543382U JP H0224209 Y2 JPH0224209 Y2 JP H0224209Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
circuit
supplied
division
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1982095433U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59261U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP9543382U priority Critical patent/JPS59261U/ja
Publication of JPS59261U publication Critical patent/JPS59261U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0224209Y2 publication Critical patent/JPH0224209Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は走査電子顕微鏡等の像信号処理回路に
関し、特に2種の信号の除算信号を像信号として
用いるようにした走査電子顕微鏡等の像信号処理
回路に関する。
走査電子顕微鏡においては二次電子信号、透過
電子信号、反射電子信号等の各種の検出信号が得
られるが、その内の2種の信号を除算回路に導
き、2種の信号の除算された信号を陰極線管に供
給して像を表示することが行われている。この場
合、除算回路は有限の出力電圧を有しているから
この値になると飽和状態となる。すなわち、除算
回路の分子と分母に入力される信号の大きさが適
切でないと、該回路は容易に飽和状態となり、除
算信号による像観察が不可能になつてしまう。従
来飽和状態となつた際には、その都度、オペレー
タは像を観察しながら分子あるいは分母に入力さ
れる信号の大きさを調整していたが、この作業は
甚だ面倒である。
本考案は上述した点に鑑みてなされたもので、
面倒な調整作業を伴わず、検出信号の変動によつ
ても、除算回路が飽和せず、良好な像観察を可能
とする走査電子顕微鏡等の像信号処理回路を提供
することを目的とする。
本考案に基づく走査電子顕微鏡等の像信号処理
回路は、試料への荷電粒子線の照射に伴い、該試
料から得られる2種の異つた情報信号を除算回路
によつて除算し、該除算信号を像信号として表示
装置へ供給するようにした像信号処理回路におい
て、該2種の信号の内少くともいずれか一方の信
号を信号強度可変手段を介して該除算回路に供給
し、該除算回路の出力信号を基準信号と比較する
比較手段を設け、該比較手段からの信号に応じて
該信号強度可変手段を制御し、該除算回路に供給
される該2種の異なつた情報信号の強度比を変化
させるように構成している。
以下本考案の一実施例を添付図面に基づき詳述
する。
第1図は本考案の第1の実施例を示しており、
図中1及び2は像信号処理回路の入力端子であ
り、端子1には例えば二次電子検出信号が供給さ
れ、端子2には例えば反射電子検出信号が供給さ
れている。該端子1及び2は夫々減衰器3及び4
に供給され、任意の振幅に設定される。該減衰器
3及び4の出力は夫々可変減衰器5及び6に供給
される。該可変減衰器5の出力信号は除算回路7
の分子端子に供給され、他方の可変減衰器6の出
力信号はダイオードD及び抵抗R1及びR2の接続
点を経て除算回路7の分母端子に供給される。該
ダイオードD及び抵抗R1,R2は、可変減衰器6
の出力信号強度が零に近くなり、分子に比べて分
母が非常に小さくなつた場合に、該除算回路7の
出力が容易に飽和してしまうために、該除算回路
の分母入力が零になることを防ぐために設けられ
ている。該可変減衰器6の出力信号強度が抵抗
R1とR2との分割比で決められる電圧値以下とな
ると、該ダイオードDは非導通状態となり、該除
算回路7の分母入力には該抵抗の分割比で決めら
れる電圧が印加される。該除算回路7の出力信号
は陰極線管(図示せず)に接続されている端子T
に供給されると共に比較回路8にも供給され、基
準電源9からの基準電圧と比較される。該比較回
路8は除算回路7の出力電圧が該基準電圧を越え
た時パルスを発生する。該パルスはカウンター1
0に供給されるが、該カウンター10は供給され
たパルスに基づき前記可変減衰器5及び6の減衰
率を制御する。
上述した如き構成において、まず減衰器3及び
4が手動で調整され、適宜なる強度の信号が除算
回路7に供給される。又、比較回路8に供給され
る基準電圧源からの基準電圧値は、除算回路7の
飽和電流値より若干低く設定される。このような
状態で像の観察が行われるが、端子1及び2に供
給される二次電子信号及び反射電子信号は試料状
態に応じて変化し、例えば、ある時点で二次電子
信号が強くなると、それに伴つて除算回路7の出
力電圧が高くなる。該回路7の電圧が基準電圧源
9からの電圧値以上となると該比較回路8からは
パルスが発生しカウンター10に供給されるが該
カウンター10は供給されたパルスに基づいて可
変減衰器5,6を制御する。該可変減衰器5はカ
ウンター10にパルスが供給される毎に、所定量
ずつ該減衰率が高められるように制御され、可変
減衰器6はカウンター10にパルスが供給される
毎に、所定量ずつ減衰率が低められる。その結
果、除算回路7は飽和せず、常に良好なる像観察
を行うことができる。
第2図は本考案の他の実施例を示しており、第
1図の実施例と同一部分は同一番号を付し、その
詳細な説明を省略する。この実施例において除算
回路7の出力信号は比較回路8に供給されると共
に、第2の比較回路11に供給される。該比較回
路11は基準電圧源12からの基準電圧値と該除
算回路7の出力電圧とを比較し、該除算回路7の
出力電圧が基準電圧より低くなつた際にパルスを
発生する。該比較回路11はフリツプフロツプ回
路13に接続されているが、該フリツプフロツプ
回路13は比較回路11からのパルスの供給を受
けてローレベル信号を発生し、又、走査信号発生
回路(図示せず)に接続された端子14を介して
供給される走査画面の−フレーム終了毎の消去信
号によつてリセツトされる。該フリツプフロツプ
回路13は端子14からの消去信号が供給される
ゲート回路15に接続されており、該消去信号は
該フリツプフロツプ回路の出力がハイレベルに維
持されている時にのみ該ゲート回路15を通過し
てアツプダウン・カウンター16のアツプ端子に
供給される。該カウンター16のダウン端子には
比較回路8からのパルスが供給される。
上述した実施例は除算回路7の出力信号が小さ
くなつた場合に自動的にその出力を大きくするこ
とを可能とするもので、該基準電圧源12の電圧
値は基準電圧源9の電圧値より低く設定されてい
る。該端子14には第3図aに示す走査信号発生
回路からの消去信号パルスP1が供給されており、
該除算回路7の出力が基準電圧源12の電圧値以
上となると第3図bに示すパルスP2が比較回路
11から発生する。該パルスP2の供給を受けフ
リツプフロツプ回路13はローレベル信号を出力
し、その結果第3図aの消去信号パルスP1はゲ
ード回路を通過することができずカウンター16
の計数値に変化は無い。尚第3図cはフリツプフ
ロツプ回路13の出力を、第3図dはゲート回路
15の出力信号を示している。従つてこの状態で
は前記可変減衰器5,6による信号の減衰率にも
変化が無い。この状態の後、走査信号発生回路に
よる走査画面の1フレーム分の走査が終了し、消
去信号パルスが解除された直後にフリツプフロツ
プ回路13はリセツトされ、その出力はハイレベ
ルとなる。一方1フレーム走査の内に除算回路7
の出力が継続して基準電圧値より低い場合には、
比較回路11からはパルスが発生せず、従つてフ
リツプフロツプ回路13の出力はハイレベルに維
持される。その結果、消去信号パルスはゲート回
路15を通過し、カウンター16のダウン端子に
供給され、その計数値を低くする。このカウンタ
ー16の計数値が低くされたことに伴い、前記可
変減衰器5,6は制御され、該減衰器5は所定量
その減衰率が低くされ、減衰器6は所定量その減
衰率が高くされて、除算回路分子入力信号強度を
大きくし、分母入力信号強度を小さくして、結果
として除算回路出力を観察に適した信号レベルと
する。
以上本考案を詳述したが本考案は簡単な構成に
より観察に適した像信号を陰極線管の如き表示装
置に供給することができる。尚、本考案は上述し
た実施例に限定されることなく幾多の変形が可能
である。例えば、除算回路に供給される2種の信
号強度を共に制御するように構成したが、一方の
信号のみ制御しても良い。又走査電子顕微鏡を例
に本考案を説明したが、他の荷電粒子線装置にも
本考案を適用し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は夫々本考案の一実施例を示
すブロツク図、第3図は第2図に示した実施例を
説明するための信号波形を示す図である。 3,4:減衰器、5,6:可変減衰器、7:除
算回路、8:比較回路、9:基準電圧源、10:
カウンター。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料への荷電粒子線の照射に伴い、該試料から
    得られる2種の異なつた情報信号を除算回路によ
    つて除算し、該除算信号を像信号として表示装置
    へ供給するようにした像信号処理回路において、
    該2種の信号の内少なくともいずれか一方の信号
    を信号強度可変手段を介して該除算回路に供給
    し、該除算回路の出力信号を基準信号と比較する
    比較手段を設け、該比較手段からの信号に応じて
    該信号強度可変手段を制御し、該除算回路に供給
    される該2種の異なつた情報信号の強度比を変化
    させるように構成した像信号処理回路。
JP9543382U 1982-06-25 1982-06-25 像信号処理回路 Granted JPS59261U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9543382U JPS59261U (ja) 1982-06-25 1982-06-25 像信号処理回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9543382U JPS59261U (ja) 1982-06-25 1982-06-25 像信号処理回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59261U JPS59261U (ja) 1984-01-05
JPH0224209Y2 true JPH0224209Y2 (ja) 1990-07-03

Family

ID=30227902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9543382U Granted JPS59261U (ja) 1982-06-25 1982-06-25 像信号処理回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59261U (ja)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5586059A (en) * 1978-12-25 1980-06-28 Hitachi Ltd Ion micro analyser

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59261U (ja) 1984-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4277679A (en) Apparatus and method for contact-free potential measurements of an electronic composition
US2621292A (en) Electrical integrating circuit arrangement
DE2335304A1 (de) Abtastelektronenmikroskop
US4629889A (en) Potential analyzer
DE2318023A1 (de) Abtast-elektronenmikroskop
JPH0294345A (ja) 走査電子顕微鏡
RU2171547C2 (ru) Устройство и способ автоматической регулировки размера изображения в видеосистеме
US6489990B1 (en) Highlight compensation apparatus for monochrome cameras
DE69508017T2 (de) System zur Verminderung des Abstrahlung eines elektrischen Feldes für eine Kathoderstrahlröhre-Anzeigevorrichtung.
GB1567021A (en) Scanning transmission microscopes
JPH0224209Y2 (ja)
US3775637A (en) Cathode ray display intensity control circuit
US4480220A (en) Electron energy analyzing apparatus
US3987242A (en) Automatic dc restorer and gain control
US4160162A (en) Method for the pictorial display of a diffraction image in a transmission-type, scanning, corpuscular-beam microscope
US4752686A (en) Method and apparatus for emphasizing a specimen surface region scanned by a scanning microscope primary beam
US4972142A (en) Automatic frequency follow-up in particle beam metrology upon employment of a modulated primary beam
US6094473A (en) Digital automatic X-ray exposure control system
US3229087A (en) Electron microanalyzer and monitoring system
US4686466A (en) Method for automatically setting the voltage resolution in particle beam measuring devices and apparatus for implementation thereof
US2901664A (en) Circuit-arrangement for producing adjustable reference lines on the picture screens of cathode-ray tubes simultaneously with the curve of a phenomenon
JPH04104668A (ja) 撮像装置
DE2217501C3 (de) Vorrichtung zur Aufzeichnung von Diffraktogrammen
US4301393A (en) Automatic Y-axis offset system
JPH06197381A (ja) ビデオ信号処理装置