JPH0224348A - 耐候性ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents
耐候性ポリアセタール樹脂組成物Info
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- JPH0224348A JPH0224348A JP63175968A JP17596888A JPH0224348A JP H0224348 A JPH0224348 A JP H0224348A JP 63175968 A JP63175968 A JP 63175968A JP 17596888 A JP17596888 A JP 17596888A JP H0224348 A JPH0224348 A JP H0224348A
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- JP
- Japan
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- acid
- polyacetal resin
- weather
- resin composition
- acrylic oligomer
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L59/00—Compositions of polyacetals; Compositions of derivatives of polyacetals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L67/06—Unsaturated polyesters
- C08L67/07—Unsaturated polyesters having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は優れた耐候性を有するポリアセタール樹脂組成
物に関する。更に詳しくはポリアセタール樹脂に耐候(
光)安定剤とポリエステル型アクリル系オリゴマーを添
加配合することにより、極めて耐候性に優れたポリアセ
タール樹脂組成物及びその成形品を提供するものである
。
物に関する。更に詳しくはポリアセタール樹脂に耐候(
光)安定剤とポリエステル型アクリル系オリゴマーを添
加配合することにより、極めて耐候性に優れたポリアセ
タール樹脂組成物及びその成形品を提供するものである
。
周知の如く、ポリアセタール樹脂は、機械的性質、電気
的性質などの物理的特性、或いは耐薬品性、耐熱性など
の化学的特性が優れたエンジニアリング樹脂として近年
きわめて法尻な分野において利用されている。しかし、
ポリアセタール樹脂が利用される分野の拡大にともない
、その材料としての性質にもさらに特殊性が要求されて
いる。
的性質などの物理的特性、或いは耐薬品性、耐熱性など
の化学的特性が優れたエンジニアリング樹脂として近年
きわめて法尻な分野において利用されている。しかし、
ポリアセタール樹脂が利用される分野の拡大にともない
、その材料としての性質にもさらに特殊性が要求されて
いる。
このような特殊性の一つとして、耐候(光)性の一層の
向上が要求される場合がある。即ち自動車等の外装部品
や電気機器、事務機器等の部品は太陽光、風雨、螢光燈
、その他大気接触等、使用される雰囲気により変色した
り表面平滑性を失って光沢がなくなり、更に部品表面に
クラックが発生し、機械的性質が低下する等の不都合を
生じる場合がある。これらの欠点を防ぐため従来よりポ
リアセタール樹脂に対して各種の耐候(光)安定剤を添
加して、ポリアセタール樹脂の耐候(光)性の向上を図
ることが提案されている。
向上が要求される場合がある。即ち自動車等の外装部品
や電気機器、事務機器等の部品は太陽光、風雨、螢光燈
、その他大気接触等、使用される雰囲気により変色した
り表面平滑性を失って光沢がなくなり、更に部品表面に
クラックが発生し、機械的性質が低下する等の不都合を
生じる場合がある。これらの欠点を防ぐため従来よりポ
リアセタール樹脂に対して各種の耐候(光)安定剤を添
加して、ポリアセタール樹脂の耐候(光)性の向上を図
ることが提案されている。
−Cかし、これら従来から提案されている方法は一応の
効果は認められるものの、長期間、太陽光(紫外線)等
に暴露された場合、成形品の表面状態(クラック、光沢
等)n機械的性質等において必ずしも満足出来るもので
はなく、更に一層、耐候(光)安定性の優れたものが要
求される場合が多い。
効果は認められるものの、長期間、太陽光(紫外線)等
に暴露された場合、成形品の表面状態(クラック、光沢
等)n機械的性質等において必ずしも満足出来るもので
はなく、更に一層、耐候(光)安定性の優れたものが要
求される場合が多い。
ところが、かかる要求を満足すべく単に耐候(光)安定
剤の添加量を増加させても耐候(光)性の向上には限界
があり、又、安定剤の添加量の増加は機械的物性(例え
ば引張強度、曲げ強度等)の低下をもたらし、一方、成
形時においては金型に付着、堆積(いわゆるモールドデ
ポジット)することによる寸法不良、成形品の外観不良
等のため金型の清掃回数が増加する等、成形作業の効率
を悪化させたり、又、成形品表面へ安定剤が滲み出すこ
とによる外観不良等のトラブルが増加する等各種の欠点
、問題点を有している。
剤の添加量を増加させても耐候(光)性の向上には限界
があり、又、安定剤の添加量の増加は機械的物性(例え
ば引張強度、曲げ強度等)の低下をもたらし、一方、成
形時においては金型に付着、堆積(いわゆるモールドデ
ポジット)することによる寸法不良、成形品の外観不良
等のため金型の清掃回数が増加する等、成形作業の効率
を悪化させたり、又、成形品表面へ安定剤が滲み出すこ
とによる外観不良等のトラブルが増加する等各種の欠点
、問題点を有している。
本発明者らはこれらの欠点、問題点を生じることなく、
ポリアセタール樹脂の耐候(光)安定性を一層向上すべ
く鋭意研究を重ね、本発明を完成するに至ったものであ
る。
ポリアセタール樹脂の耐候(光)安定性を一層向上すべ
く鋭意研究を重ね、本発明を完成するに至ったものであ
る。
即ち本発明は、
(A) ポリアセタール樹脂に
(B)耐候(光)安定剤0.01〜5重看%(対全組成
物)と (C) ポリエステル型アクリル系オリゴマー0,0
1〜10重量%(対全組成物) を添加配合してなる耐候性ポリアセタール樹脂組成物に
関するものである。
物)と (C) ポリエステル型アクリル系オリゴマー0,0
1〜10重量%(対全組成物) を添加配合してなる耐候性ポリアセタール樹脂組成物に
関するものである。
本発明に用いられる(A) ポリアセタール樹脂はオキ
シメチレン基(−C1120−)を主たる構成単位とす
る高分子化合物で、ポリオキシメチレンホモポリマー、
オキシメチレン基以外に他の構成単位を少量含有するコ
ポリマー、ターポリマーブロックコポリマー何れにても
よく、又、分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有す
るものであってもよい。又、その重合度等に関しても特
−は制限はない。
シメチレン基(−C1120−)を主たる構成単位とす
る高分子化合物で、ポリオキシメチレンホモポリマー、
オキシメチレン基以外に他の構成単位を少量含有するコ
ポリマー、ターポリマーブロックコポリマー何れにても
よく、又、分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有す
るものであってもよい。又、その重合度等に関しても特
−は制限はない。
次に本発明において用いられる(B)耐候(光)安定剤
のうち好ましく用いられるものとしては、■ベンゾトリ
アゾール系物質、■ベンゾフェノン系物質、■芳香族ベ
ンゾエート系物質、■シアノアクリレート系物質、■蓚
酸アニリド系物質及び■ヒンダードアミン系物質よりな
る群から選ばれた1種又は2種以上である。
のうち好ましく用いられるものとしては、■ベンゾトリ
アゾール系物質、■ベンゾフェノン系物質、■芳香族ベ
ンゾエート系物質、■シアノアクリレート系物質、■蓚
酸アニリド系物質及び■ヒンダードアミン系物質よりな
る群から選ばれた1種又は2種以上である。
これらの物質の例を示すと次のものが挙げられる。
即ち、■ベンゾトリアゾール系物質としては、2−(2
°−ヒドロキシ−5°−メチル−フェニル)ペンゾトリ
アゾーノベ 2−(2″−ヒドロキシ−3’、5“−ジ
−t−ブチル−フェニル)ペンソトリアゾーノペ2−(
3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5
“ −ジ−イソアミル−フェニル)ベンゾトリアゾール
、2− C2−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α、α−
ジメチルベンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2
−(2’−ヒドロキシ−4°−オクトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール ■ベンゾフェノン系物質としては、2.4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフ
ェノン、2゜2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フェノン、2.2’−ジヒドロキシ−4,4′−ジメト
キシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ・トキシ
5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オキ
シベンジルベンゾフェノン ■芳香族ベンゾエート系物質としては、p −t−プチ
ルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサルシ
レート ■シアノアクリレート系物質としては、2エチルへキシ
ル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート、
エチル−2−シアノ−3,3’ジフエニルアクリレート ■蓚酸アニリド系物質としては、N−(2エーヂルーフ
弄ニル)−N’−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェ
ニル)蓚酸ジアミド、N−(2エチル−フェニル)−N
”−(2−エトキシフェニル)蓚酸ジアミド等である。
°−ヒドロキシ−5°−メチル−フェニル)ペンゾトリ
アゾーノベ 2−(2″−ヒドロキシ−3’、5“−ジ
−t−ブチル−フェニル)ペンソトリアゾーノペ2−(
3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5
“ −ジ−イソアミル−フェニル)ベンゾトリアゾール
、2− C2−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α、α−
ジメチルベンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2
−(2’−ヒドロキシ−4°−オクトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール ■ベンゾフェノン系物質としては、2.4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフ
ェノン、2゜2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フェノン、2.2’−ジヒドロキシ−4,4′−ジメト
キシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ・トキシ
5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オキ
シベンジルベンゾフェノン ■芳香族ベンゾエート系物質としては、p −t−プチ
ルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサルシ
レート ■シアノアクリレート系物質としては、2エチルへキシ
ル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート、
エチル−2−シアノ−3,3’ジフエニルアクリレート ■蓚酸アニリド系物質としては、N−(2エーヂルーフ
弄ニル)−N’−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェ
ニル)蓚酸ジアミド、N−(2エチル−フェニル)−N
”−(2−エトキシフェニル)蓚酸ジアミド等である。
また、ここで用いられる■ヒンダードアミン系物質とは
、立体障害性基を有するピペリジン誘導体で、その例を
示せば、4−アセトキシ−2、2,6,5−テトラメチ
ルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メト
キシ−2,2゜6.6−テトラメチルピペリジン、4−
ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、4−シクロヘキシルオキシ〜2.2.6.6−
テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェ
ニルカルバモイオキシ) −2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)オギザレート、ビス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)マロネート、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ア
ジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレ
ー)n1.2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジルオキシ)エタン、ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)へキサメチレン−1
,6−ジカルバメート、ビス(1−メチル−2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ト
リス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート等であ
る。
、立体障害性基を有するピペリジン誘導体で、その例を
示せば、4−アセトキシ−2、2,6,5−テトラメチ
ルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メト
キシ−2,2゜6.6−テトラメチルピペリジン、4−
ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、4−シクロヘキシルオキシ〜2.2.6.6−
テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェ
ニルカルバモイオキシ) −2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)オギザレート、ビス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)マロネート、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ア
ジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレ
ー)n1.2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジルオキシ)エタン、ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)へキサメチレン−1
,6−ジカルバメート、ビス(1−メチル−2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ト
リス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート等であ
る。
又、高分子■のピペリジン誘導体重縮金物、例えば、コ
ハク酸ジメチル・1−(2−ヒドロキシエチル)−4−
ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
重縮合物等も有効である。
ハク酸ジメチル・1−(2−ヒドロキシエチル)−4−
ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
重縮合物等も有効である。
これらの耐候(光)安定剤は少なくとも1種もしくは2
種以上配合するのが好ましく、特に前記■〜■の耐候安
定剤と■ヒンダードアミン系物質の併用が好ましい。
種以上配合するのが好ましく、特に前記■〜■の耐候安
定剤と■ヒンダードアミン系物質の併用が好ましい。
ここで用いられる耐候(光)安定剤(B) は0.01
〜5重量%(対全組成物)が適当であり、特に0.02
〜3重量%が好ましい。これらの成分は過少の場合には
効果が期待できず、又いたずらに過大に添加しても経済
的不利のみならず、前記の問題点、欠点(例えば、機械
的性質の低下、金型の汚染)をもたらす等の悪影響を生
じる。
〜5重量%(対全組成物)が適当であり、特に0.02
〜3重量%が好ましい。これらの成分は過少の場合には
効果が期待できず、又いたずらに過大に添加しても経済
的不利のみならず、前記の問題点、欠点(例えば、機械
的性質の低下、金型の汚染)をもたらす等の悪影響を生
じる。
本発明においては、斯かるポリアセタール樹脂(A)に
(B)耐候(光)安定剤と(C) ポリエステル型アク
リル系オリゴマーとを添加配合する点に特徴がある。
(B)耐候(光)安定剤と(C) ポリエステル型アク
リル系オリゴマーとを添加配合する点に特徴がある。
本発明において用いられるポリエステル型アクリル系オ
リゴマー(C) は、2価以上のアルコールと2価以上
のカルボン酸のエステルで、その末端がアクリル酸残基
又はメタアクリル酸残基の如きアクリル酸誘導体残基よ
りなる物質であり、中でも一般式(I)で示されるポリ
エステルオリゴマーが好ましい。
リゴマー(C) は、2価以上のアルコールと2価以上
のカルボン酸のエステルで、その末端がアクリル酸残基
又はメタアクリル酸残基の如きアクリル酸誘導体残基よ
りなる物質であり、中でも一般式(I)で示されるポリ
エステルオリゴマーが好ましい。
A−(M−N) l、−M−A (I )Aニ
アクリル酸残基又はその誘導体残基M:2価アルコール
残基 Nニジカルボン酸残基 n:1〜100 ここでポリエステル型アクリル系オリゴマー(C)を生
成する多価アルコールのうち好適な2価アルコールとし
ては、例えばエチレングリコ−)へジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ブタンジオール(1,3−1又は1.4−1又は2.3
−) 、1.6−ヘキサンジオール、オクタンジオール
、デカンジオール、ネオペンチルグリコール、水素化ビ
スフェノールA1シクロヘキサン−1,4−ジメタノー
ノペm−キシリデングリコール、ジェタノールアミン、
ジブロモネオペンチルグリコーノペ1.5−ペンタンジ
オーノ1、トリメチルベンタンジオール、ビスフェノー
ルジオキシエチルエーテル、ビスフェノールジオキシプ
ロビルエーテル、ヘキシレングリコール、ポリブタジェ
ンジオール、1.4−シクロヘキサンジオール、クロル
プロピレングリコール、2.2−ジエチルプロパンジオ
ール、2−エチル−1,4−ブタンジオールなどがあげ
られる。
アクリル酸残基又はその誘導体残基M:2価アルコール
残基 Nニジカルボン酸残基 n:1〜100 ここでポリエステル型アクリル系オリゴマー(C)を生
成する多価アルコールのうち好適な2価アルコールとし
ては、例えばエチレングリコ−)へジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ブタンジオール(1,3−1又は1.4−1又は2.3
−) 、1.6−ヘキサンジオール、オクタンジオール
、デカンジオール、ネオペンチルグリコール、水素化ビ
スフェノールA1シクロヘキサン−1,4−ジメタノー
ノペm−キシリデングリコール、ジェタノールアミン、
ジブロモネオペンチルグリコーノペ1.5−ペンタンジ
オーノ1、トリメチルベンタンジオール、ビスフェノー
ルジオキシエチルエーテル、ビスフェノールジオキシプ
ロビルエーテル、ヘキシレングリコール、ポリブタジェ
ンジオール、1.4−シクロヘキサンジオール、クロル
プロピレングリコール、2.2−ジエチルプロパンジオ
ール、2−エチル−1,4−ブタンジオールなどがあげ
られる。
又、好適な3価以上の多価アルコールの例としては、例
えばグリセリン、トリメチロールメタン、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、1.2.6−ヘキ
サンジオーノペ トリス(2−ヒドロキシエチル)イン
シアヌレート、キシリトーノペ トリメタノールアミン
、トリエタノールアミン、ダルシトール、マンニトール
、ペンタエリスリトール、ソルビトール、エリスリトー
ノペアラビトール、グリセリンのモノ(又はジ又はトリ
)ポリエチレングリコールエーテル、グリセリンのモノ
(又はジ又はトリ)ポリプロピレングリコールエーテ
ルなどが挙げられる。中でも2価アルコールが好ましく
、より好適にはエチレングリコール、ジエチレングリコ
ールベ トリエチレングリコーノペテトラエチレングリ
コーノペプロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ノL/、ネオペンチルグリコール、1.3−ブタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、1,4−ブタンジオ
ーノペ1.5−ベンタンジオールなど及びこれらのエス
テル形成性誘導体が用いられる。
えばグリセリン、トリメチロールメタン、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、1.2.6−ヘキ
サンジオーノペ トリス(2−ヒドロキシエチル)イン
シアヌレート、キシリトーノペ トリメタノールアミン
、トリエタノールアミン、ダルシトール、マンニトール
、ペンタエリスリトール、ソルビトール、エリスリトー
ノペアラビトール、グリセリンのモノ(又はジ又はトリ
)ポリエチレングリコールエーテル、グリセリンのモノ
(又はジ又はトリ)ポリプロピレングリコールエーテ
ルなどが挙げられる。中でも2価アルコールが好ましく
、より好適にはエチレングリコール、ジエチレングリコ
ールベ トリエチレングリコーノペテトラエチレングリ
コーノペプロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ノL/、ネオペンチルグリコール、1.3−ブタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、1,4−ブタンジオ
ーノペ1.5−ベンタンジオールなど及びこれらのエス
テル形成性誘導体が用いられる。
次ニポリエステル型アクリル系オリコ−7−(C)の構
成成分である多価カルボン酸としては、コハク酸、マレ
イン酸、シトラコン酸、イタコン酸、ムコン酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸、テトラヒドロフクル酸、フタル酸、ハ
イミック酸く3.6−ニンドメチレンテトラヒドロフタ
ル酸)nエンド酸(3,6−ニンドイソプロピリデンテ
トラヒドロフタル酸)nテトラクロルフタル酸、テトラ
ブロモフタル酸、ヘット酸(1,4,5,6,7,7−
へキサクロロ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン
酸)及びこれらの無水物のような二塩基酸類及びその無
水物、蓚酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、セバ
シン酸、1.12−ドデカン二酸、フマル酸、メサコン
酸、ダイマー酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ポリブ
タジェンジカルボン酸、トリメチルアジピン酸、メチレ
ングルタル酸、アセチレンジカルボン酸、チオジグリコ
ール酸、チオジバレリアン酸、スルホニルジ酢酸、スル
ホニルジバレリアン11,4,3゜6、7.7−ヘキサ
ブロモ−エンド−5−ノルボネン−2,3−ジカルボン
酸、2.4−ベンゾフェノンジカルボン酸、レゾルシノ
ール酢酸、トランス−1,4−シクロヘキセンジカルボ
ン酸、1.3−(又は1.4−)テトラヒドロフタル酸
、1.3−一(又は1.4−) へキサヒドロフタル酸
、α−メチルイタコン酸、α、α−ジメチルイタコン酸
、α−ケトグルタル酸、2.2−(又は2.3−)ジメ
チルコハク酸、2−メチルコハク酸、ヘキシルコハク酸
、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、3.3−(
又は2.2−) ジメチルグルタル酸、3.3−(又
は2.2−) ジエチルグルタル酸、1.1−シクロ
ブタジェンジカルボン酸、ジグリコール酸、リンゴ酸、
シクロペンクンジカルボン酸、ジヒドロフタル酸、シク
ロヘキサンジカルボン酸、α−メチルグルタル酸、ハロ
ゲン化テトラヒドロフタル酸などの二塩基酸があり、又
3価以上の多価カルボン酸としては、例えばトリメリッ
ト酸、アコニット酸、ブタントリカルボン酸、ブテント
リカルボン酸、6−メチル−シクロヘキセン−4−1,
2,3−トリカルボン酸のような三塩基酸及びその無水
物、ピロメリット酸、ブタンテトラカルボン酸、ペンゾ
ールテトラカルボン酸、ナフタリンポリカルボン酸のよ
うな四塩基酸以上の多塩基酸及びその無水物がある。中
でも2価カルボン酸が好ましく、より好ましくはコハク
酸、アジピン酸、−l!/”シ:’L 1.12−ドデ
カンニ酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコ
ン酸、シトラコン酸、ムコン酸、フタル酸、1.3−(
又は1゜4−)テトラヒドロフタル酸、1.3− (又
1!1゜4−)へキサヒドロフタル酸、ハイミック酸、
ギンド酸、ヘット酸及びこれらの無水物又はエステル形
成性誘導体が用いられる。
成成分である多価カルボン酸としては、コハク酸、マレ
イン酸、シトラコン酸、イタコン酸、ムコン酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸、テトラヒドロフクル酸、フタル酸、ハ
イミック酸く3.6−ニンドメチレンテトラヒドロフタ
ル酸)nエンド酸(3,6−ニンドイソプロピリデンテ
トラヒドロフタル酸)nテトラクロルフタル酸、テトラ
ブロモフタル酸、ヘット酸(1,4,5,6,7,7−
へキサクロロ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン
酸)及びこれらの無水物のような二塩基酸類及びその無
水物、蓚酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、セバ
シン酸、1.12−ドデカン二酸、フマル酸、メサコン
酸、ダイマー酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ポリブ
タジェンジカルボン酸、トリメチルアジピン酸、メチレ
ングルタル酸、アセチレンジカルボン酸、チオジグリコ
ール酸、チオジバレリアン酸、スルホニルジ酢酸、スル
ホニルジバレリアン11,4,3゜6、7.7−ヘキサ
ブロモ−エンド−5−ノルボネン−2,3−ジカルボン
酸、2.4−ベンゾフェノンジカルボン酸、レゾルシノ
ール酢酸、トランス−1,4−シクロヘキセンジカルボ
ン酸、1.3−(又は1.4−)テトラヒドロフタル酸
、1.3−一(又は1.4−) へキサヒドロフタル酸
、α−メチルイタコン酸、α、α−ジメチルイタコン酸
、α−ケトグルタル酸、2.2−(又は2.3−)ジメ
チルコハク酸、2−メチルコハク酸、ヘキシルコハク酸
、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、3.3−(
又は2.2−) ジメチルグルタル酸、3.3−(又
は2.2−) ジエチルグルタル酸、1.1−シクロ
ブタジェンジカルボン酸、ジグリコール酸、リンゴ酸、
シクロペンクンジカルボン酸、ジヒドロフタル酸、シク
ロヘキサンジカルボン酸、α−メチルグルタル酸、ハロ
ゲン化テトラヒドロフタル酸などの二塩基酸があり、又
3価以上の多価カルボン酸としては、例えばトリメリッ
ト酸、アコニット酸、ブタントリカルボン酸、ブテント
リカルボン酸、6−メチル−シクロヘキセン−4−1,
2,3−トリカルボン酸のような三塩基酸及びその無水
物、ピロメリット酸、ブタンテトラカルボン酸、ペンゾ
ールテトラカルボン酸、ナフタリンポリカルボン酸のよ
うな四塩基酸以上の多塩基酸及びその無水物がある。中
でも2価カルボン酸が好ましく、より好ましくはコハク
酸、アジピン酸、−l!/”シ:’L 1.12−ドデ
カンニ酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコ
ン酸、シトラコン酸、ムコン酸、フタル酸、1.3−(
又は1゜4−)テトラヒドロフタル酸、1.3− (又
1!1゜4−)へキサヒドロフタル酸、ハイミック酸、
ギンド酸、ヘット酸及びこれらの無水物又はエステル形
成性誘導体が用いられる。
次にポリエステル型アクリル系オリゴマー(C)の末端
基を構成する成分であるアクリル酸残基及びその誘導体
残基は、原料としてアクリル酸又はメタアクリル酸の他
に、例えば(メタ)アクリル酸の低級アルキルエステル
、(メタ)アクリル酸ハライドなどのようにエステル交
換反応や縮合反応によってエステル化を起こすような(
メタ)アクリル酸のエステル形成性誘導体も使用される
得る。
基を構成する成分であるアクリル酸残基及びその誘導体
残基は、原料としてアクリル酸又はメタアクリル酸の他
に、例えば(メタ)アクリル酸の低級アルキルエステル
、(メタ)アクリル酸ハライドなどのようにエステル交
換反応や縮合反応によってエステル化を起こすような(
メタ)アクリル酸のエステル形成性誘導体も使用される
得る。
本発明で用いるポリエステル型アクリル系オリゴマー(
C)は、上記原料化合物である2価以上のアルコーノへ
2価以上のカルボン酸及び(メタ)アクリル酸又はそれ
らのエステル形成性誘導体の3種以上の成分を、通常の
エステル化触媒の存在下でエステル化することにより得
られる。
C)は、上記原料化合物である2価以上のアルコーノへ
2価以上のカルボン酸及び(メタ)アクリル酸又はそれ
らのエステル形成性誘導体の3種以上の成分を、通常の
エステル化触媒の存在下でエステル化することにより得
られる。
ここで用いられるポリエステル型アクリル系オリゴマー
(C)の添加量は0.01〜10重量%(対全組成物)
の範囲である。添加量が少ないと耐候(光)性、特に成
形品表面のクラックの発生防止に十分な効果を発揮せず
、又いたずらに過大に添加しても機械的性質や熱安定性
にも好ましくない影響を生じる。又、ポリエステル型ア
クリル系オリゴマーの粘度としては、常温(25℃)に
おいて20000CPS以下が好ましい。またさらに好
ましくは5000CPS以下のものが主とじて加工性、
分散性等の点から好適である。
(C)の添加量は0.01〜10重量%(対全組成物)
の範囲である。添加量が少ないと耐候(光)性、特に成
形品表面のクラックの発生防止に十分な効果を発揮せず
、又いたずらに過大に添加しても機械的性質や熱安定性
にも好ましくない影響を生じる。又、ポリエステル型ア
クリル系オリゴマーの粘度としては、常温(25℃)に
おいて20000CPS以下が好ましい。またさらに好
ましくは5000CPS以下のものが主とじて加工性、
分散性等の点から好適である。
また、本発明で用いられるアクリル系オリゴマー(C)
のうち、粘度が高いために取り扱いが困難なものを用い
る場合には、その低粘度化を目的として、適当な溶剤類
、例えば低粘度のアクリレート類を稀釈剤として添加す
ることも可能である。
のうち、粘度が高いために取り扱いが困難なものを用い
る場合には、その低粘度化を目的として、適当な溶剤類
、例えば低粘度のアクリレート類を稀釈剤として添加す
ることも可能である。
かかるポリエステル型アクリル系オリゴマー(C) は
、耐候(光)安定剤と併用することにより、相乗的に耐
候(光)性が向上する。
、耐候(光)安定剤と併用することにより、相乗的に耐
候(光)性が向上する。
本発明の組成物は更に公知の各種安定剤を添加し、熱安
定性等を補強することが望ましく、q切目的のため公知
の酸化防止剤や窒素含有化合物、アルカリ又はアルカリ
土類金属化合物等を1種又は2種以上組合わせて使用す
ることが望ましい。
定性等を補強することが望ましく、q切目的のため公知
の酸化防止剤や窒素含有化合物、アルカリ又はアルカリ
土類金属化合物等を1種又は2種以上組合わせて使用す
ることが望ましい。
又本発明の組成物は各種カーボンブラック、その他各種
の染顔料を適宜添加し、任意の色に着色することも出来
る。
の染顔料を適宜添加し、任意の色に着色することも出来
る。
本発明による耐候(光)安定剤とボリエステ用型アクリ
ル系オリゴマーとの組合せは、樹脂素材そのものに耐候
性を付与するのに有効であるのみならず、樹脂に加えら
れる各種染顔料等の褪色、変色に対しても極めて有効で
あり、この点で着色製品の外観品位を維持するのに極め
て有効である。
ル系オリゴマーとの組合せは、樹脂素材そのものに耐候
性を付与するのに有効であるのみならず、樹脂に加えら
れる各種染顔料等の褪色、変色に対しても極めて有効で
あり、この点で着色製品の外観品位を維持するのに極め
て有効である。
又カーボンブラックとの併用は耐候(光)安定性を更に
一層向上せしめる効果がある。
一層向上せしめる効果がある。
本発明組成物には更にその目的に応じ所望の特性を付与
するため、従来公知の添加物、例えば滑剤、核剤、離形
剤、帯電防止剤その他の界面活性剤、或いは有機高分子
材料、無機又は有機の繊維状、粉粒状、板状の充填剤等
を1種又は2種以上添加含有させることも可能である。
するため、従来公知の添加物、例えば滑剤、核剤、離形
剤、帯電防止剤その他の界面活性剤、或いは有機高分子
材料、無機又は有機の繊維状、粉粒状、板状の充填剤等
を1種又は2種以上添加含有させることも可能である。
本発明の組成物は、一般に合成樹脂組成物の調製法とし
て公知の設備と方法により調製することができる。即ち
、必要な成分を混合し、1軸又は2軸の押出機を使用し
て混練し、押出して成形用ペレットとした後成形するこ
とができ、又組成物の調製を成形機にて成形と同時に行
うことも可能である。また各成分の分散混合をよくする
ため樹脂成分の一部又は全部を粉砕し、混合して溶融押
出したペレットを成形する方法等、いずれも可能である
。
て公知の設備と方法により調製することができる。即ち
、必要な成分を混合し、1軸又は2軸の押出機を使用し
て混練し、押出して成形用ペレットとした後成形するこ
とができ、又組成物の調製を成形機にて成形と同時に行
うことも可能である。また各成分の分散混合をよくする
ため樹脂成分の一部又は全部を粉砕し、混合して溶融押
出したペレットを成形する方法等、いずれも可能である
。
又、前記安定剤、添加剤等の配合物は任意のいかなる段
階で加えてもよく、又最終成形品を得る直前で添加、混
合することも勿論可能である。
階で加えてもよく、又最終成形品を得る直前で添加、混
合することも勿論可能である。
また、本発明に係る樹脂組成物は、押出成形、射出成形
、圧縮成形、真空成形、吹込成形、発泡成形のいずれに
よっても成形可能である。
、圧縮成形、真空成形、吹込成形、発泡成形のいずれに
よっても成形可能である。
月下本発明を実施例について説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
らの実施例に限定されるものではない。
尚実施例に於いて耐候性等特性値の評価に用いた方法は
以下の通りである。
以下の通りである。
1) クラック発生時間
ウェザ−メータ〔スガ試験機■製、WBL−3UN−H
CH型〕により83℃のフェード条件下で試験片に紫外
線を照射後、試験片の表面のクラック発生の有無を10
倍のルーペで観察し、初めてクラックが発生した時間を
もってクラックの発生時間とした。値が大きい程耐候性
が良好であることを示す。
CH型〕により83℃のフェード条件下で試験片に紫外
線を照射後、試験片の表面のクラック発生の有無を10
倍のルーペで観察し、初めてクラックが発生した時間を
もってクラックの発生時間とした。値が大きい程耐候性
が良好であることを示す。
2) 引張強伸度
上記ウェザ−メータによる照射前と一定時間照射後の試
験片について常法(ASTM−0638)により引張強
伸度を測定した。
験片について常法(ASTM−0638)により引張強
伸度を測定した。
3) 表面状態の変化
上記ウェザ−メータにより試験片に紫外線を600時間
照射し、照射前後における試験片の色相の変化、及び光
沢の変化を観察し、それぞれについてその変化の程度を
5段階に評価した。数字の小なる程変化少、即ち光沢の
低下、変色が少ないことを意味する。
照射し、照射前後における試験片の色相の変化、及び光
沢の変化を観察し、それぞれについてその変化の程度を
5段階に評価した。数字の小なる程変化少、即ち光沢の
低下、変色が少ないことを意味する。
実施例1〜14及び比較例1〜11
表1に示す如<(A)ポリアセタール樹脂〔ポリプラス
チックス■製、商品名「ジュラコン(M2O)」)に(
B)耐候(光)安定剤と(C)ポリエステル型アクリル
系オリゴマー〔東亜合成化学工業■製、商品名「アロエ
ックス」〕を添加し、混合後、30+++m 2軸押比
機を用いて溶融混練し、ペレット状の組成物を調製した
。次いでこのペレットから射出成形機を用いて試験片を
成形し、耐候性その他の特性を測定し評価した。又比較
のため(B)耐候(光)安定剤、もしくは(C) ポリ
エステル型アクリル系オリゴマーを各単独で添加した場
合について同様に調製し評価した。
チックス■製、商品名「ジュラコン(M2O)」)に(
B)耐候(光)安定剤と(C)ポリエステル型アクリル
系オリゴマー〔東亜合成化学工業■製、商品名「アロエ
ックス」〕を添加し、混合後、30+++m 2軸押比
機を用いて溶融混練し、ペレット状の組成物を調製した
。次いでこのペレットから射出成形機を用いて試験片を
成形し、耐候性その他の特性を測定し評価した。又比較
のため(B)耐候(光)安定剤、もしくは(C) ポリ
エステル型アクリル系オリゴマーを各単独で添加した場
合について同様に調製し評価した。
B−1; 2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾール B−2;2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α。
キシフェニル)ベンゾトリアゾール B−2;2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α。
α−ジメチルベンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール
B−3; 2−ヒドロキシ−4−オキシベンジルベンゾ
フェノン B−4;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)セバケート B−5;コハク酸ジメチル・1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−チトラメチル
ピペリジン重縮合物 C−1;−アロニックスM6300 (商品名)粘度
平均150CPS/25℃ 両末端がメタアクリル酸 メタアクリル酸/2価アルコール/ジカルボン酸を構成
成分とする。
フェノン B−4;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)セバケート B−5;コハク酸ジメチル・1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−チトラメチル
ピペリジン重縮合物 C−1;−アロニックスM6300 (商品名)粘度
平均150CPS/25℃ 両末端がメタアクリル酸 メタアクリル酸/2価アルコール/ジカルボン酸を構成
成分とする。
C’−2;アロニックスM6100 (商品名)粘度
平均350CPS/25℃ 両末端がアクリル酸 アクリル酸/2価アルコール/ジカルボン酸を構成成分
とする。
平均350CPS/25℃ 両末端がアクリル酸 アクリル酸/2価アルコール/ジカルボン酸を構成成分
とする。
C−3;アロニックスM8030 (商品名)粘度 平
均1000CPS/25℃ 末端がアクリル酸 アクリル酸/多価アルコール/多価カルボン酸を構成成
分とする。
均1000CPS/25℃ 末端がアクリル酸 アクリル酸/多価アルコール/多価カルボン酸を構成成
分とする。
以上の説明及び実施例により明らかなように、耐候(光
)安定剤を含むポリアセタール樹脂に特定のポリエステ
ル型アクリル系オリゴマーを添加配合させてなる本発明
の組成物は、アクリル系オリゴマーを用いない従来の組
成物に比べ紫外線に長時間暴露した時の表面状態、特に
クラックの発生時間が極めて遅くなり、又引張強度伸度
の低下も大幅に改善されるという顕著な効果を示し、且
つ従来の問題点の助長或いは新たなる問題の発生等も認
められない。
)安定剤を含むポリアセタール樹脂に特定のポリエステ
ル型アクリル系オリゴマーを添加配合させてなる本発明
の組成物は、アクリル系オリゴマーを用いない従来の組
成物に比べ紫外線に長時間暴露した時の表面状態、特に
クラックの発生時間が極めて遅くなり、又引張強度伸度
の低下も大幅に改善されるという顕著な効果を示し、且
つ従来の問題点の助長或いは新たなる問題の発生等も認
められない。
従って本発明の耐候性ポリアセタール樹脂組成物は耐候
(光)性を要求されるあらゆる分野の成形部品、即ち自
動車の内・外装部品(例えば、アウターハンドル、イン
ナーハンドル等)n電気機器、コンピュータ等の事務機
器、カメラ、その他諸工業等の部品、建材配管、雑貨、
家庭用品等の太陽光、風雨等の大気或いは蛍光灯等の雲
囲気に長時間曝される用途等に好適に使用し得る。
(光)性を要求されるあらゆる分野の成形部品、即ち自
動車の内・外装部品(例えば、アウターハンドル、イン
ナーハンドル等)n電気機器、コンピュータ等の事務機
器、カメラ、その他諸工業等の部品、建材配管、雑貨、
家庭用品等の太陽光、風雨等の大気或いは蛍光灯等の雲
囲気に長時間曝される用途等に好適に使用し得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (A)ポリアセタール樹脂に (B)耐候(光)安定剤0.01〜5重量%(対全組成
物)と (C)ポリエステル型アクリル系オリゴマー0.01〜
10重量%(対全組成物) を添加配合してなる耐候性ポリアセタール樹脂組成物。 2 (B)耐候(光)安定剤がベンゾトリアゾール系物
質、ベンゾフェノン系物質、芳香族ベンゾエート系物質
、シアノアクリレート系物質、蓚酸アニリド系物質及び
ヒンダードアミン系物質よりなる群から選ばれた1種又
は2種以上である請求項1記載の耐候性ポリアセタール
樹脂組成物。 3 (B)耐候(光)安定剤がベンゾトリアゾール系物
質、ベンゾフェノン系物質、芳香族ベンゾエート系物質
、シアノアクリレート系物質又は蓚酸アニリド系物質と
ヒンダードアミン系物質の共存系よりなる請求項1又は
2記載の耐候性ポリアセタール樹脂組成物。 4 (C)ポリエステル型アクリル系オリゴマーが、2
価以上のアルコールと2価以上のカルボン酸のエステル
であり、かつその末端がアクリル酸残基又はその誘導体
残基よりなるものである請求項1記載の耐候性ポリアセ
タール樹脂組成物。 5 (C)ポリエステル型アクリル系オリゴマーが粘度
20000(CPS/25℃)以下のものである請求項
1又は4記載の耐候性ポリアセタール樹脂組成物。 6 (C)ポリエステル型アクリル系オリゴマーが主と
して一般式( I )で示されるものよりなる請求項1、
4又は5記載の耐候性ポリアセタール樹脂組成物。 A−(M−N)_n−M−A( I ) A:アクリル酸残基又はその誘導体残基 M:2価アルコール残基 N:ジカルボン酸残基 n:1〜100
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63175968A JPH07110917B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 耐候性ポリアセタール樹脂組成物 |
| US07/377,453 US5079282A (en) | 1988-07-14 | 1989-07-10 | Weather-resistant polyacetal resin composition |
| KR1019890009858A KR920009391B1 (ko) | 1988-07-14 | 1989-07-11 | 내후성 폴리아세탈 수지조성물 |
| CN89106708A CN1016178B (zh) | 1988-07-14 | 1989-07-14 | 耐候性聚缩醛树脂组合物 |
| EP19890307168 EP0351235A3 (en) | 1988-07-14 | 1989-07-14 | Weather-resistant polyacetal resin composition |
| BR898903478A BR8903478A (pt) | 1988-07-14 | 1989-07-14 | Composicao de resina de poliacetal resistente as condicoes climaticas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63175968A JPH07110917B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 耐候性ポリアセタール樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224348A true JPH0224348A (ja) | 1990-01-26 |
| JPH07110917B2 JPH07110917B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=16005400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63175968A Expired - Lifetime JPH07110917B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 耐候性ポリアセタール樹脂組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5079282A (ja) |
| EP (1) | EP0351235A3 (ja) |
| JP (1) | JPH07110917B2 (ja) |
| KR (1) | KR920009391B1 (ja) |
| CN (1) | CN1016178B (ja) |
| BR (1) | BR8903478A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135238A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-05-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 変色性の改良された界面活性剤含有耐候性樹脂組成物 |
| JP2016222753A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | 旭化成株式会社 | ポリオキシメチレン製部品 |
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| JP2971911B2 (ja) * | 1990-05-07 | 1999-11-08 | ポリプラスチックス株式会社 | 耐候性ポリアセタール樹脂組成物 |
| US5149723A (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions containing a mixture of hals having tertiary functionality |
| US5232965A (en) * | 1991-03-22 | 1993-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions |
| ES2111585T3 (es) * | 1991-06-21 | 1998-03-16 | Hoechst Ag | Composicion de poli(oximetileno) y su utilizacion. |
| DE4229760A1 (de) * | 1992-09-05 | 1994-03-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
| US5969003A (en) * | 1998-02-02 | 1999-10-19 | Xerox Corporation | Ink compositions |
| US20080160299A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Achilles Corporation | Heat shielding sheet |
| US9090769B2 (en) | 2011-04-05 | 2015-07-28 | Ticona Llc | Molded articles having a swirl-like or marble-like appearance and compositions for producing same |
| JP6592288B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2019-10-16 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4521488A (en) * | 1978-10-25 | 1985-06-04 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Polyacetal resin composition excellent in heat stability and surface processability and process for surface treating same |
| GB2035335B (en) * | 1978-10-25 | 1983-01-19 | Asahi Chemical Ind | Polyacetal resin composition excellent in heat stability and surface processability and process for surface treating same |
| US4464435A (en) * | 1978-10-25 | 1984-08-07 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Polyacetal resin composition excellent in heat stability and surface processability and process for surface treating same |
| US4477614A (en) * | 1979-01-25 | 1984-10-16 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl]-2H-benzotriazole stabilized compositions |
| JPS5774369A (en) * | 1980-10-28 | 1982-05-10 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Coating composition |
| US4565850A (en) * | 1981-08-03 | 1986-01-21 | Allied Corporation | Thermoplastic composition containing nematic oligomer |
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