JPH0224380B2 - - Google Patents
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- JPH0224380B2 JPH0224380B2 JP60214774A JP21477485A JPH0224380B2 JP H0224380 B2 JPH0224380 B2 JP H0224380B2 JP 60214774 A JP60214774 A JP 60214774A JP 21477485 A JP21477485 A JP 21477485A JP H0224380 B2 JPH0224380 B2 JP H0224380B2
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- light
- wafer
- amount
- reference light
- lights
- Prior art date
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Description
この発明はウエハの非接触位置決め装置に関す
る。
る。
今日、集積回路の高密度化は進むばかりで、そ
の集積回路のベースとなるウエハの製造もそれに
伴つてますます高い精密度が要求されてきてい
る。そして製造工程上、パターン露光器で製造さ
れた後のウエハは、次の工程として、顕微鏡その
他の測定器へ搬送されてその精密度を厳密に検査
測定されるようになつている。そして、この検査
測定時におけるウエハの測定器へのセツト〔位置
決め〕も、ウエハ上の非常に微小な測定目標を検
査測定するため、製造時と同様に非常に高精度で
行われなくてはならないものである。 ところで、この検査測定時においてウエハの正
確な位置決めを為し得るため、ウエハには「オリ
フラ(オリエンテーシヨンフラツト)」と呼ばれ
る直線状の切欠き部が形成されているので、ウエ
ハの中心位置決め操作〔センタリング〕と、この
オリフラを所定の方向へ位置合わせさせる操作
〔オリフラ合わせ〕の双方を正確且つ確実に行わ
なくてはならない。 そこで、そのようなウエハの位置決めを高精度
で行える装置が必要となるが、この種の装置とし
ては、既に光学機器メーカーより幾つかの装置が
製造販売されており、これら従来のものは基本的
には第5図に示されるような位置決め手段を採用
している。 1は供給カセツトで、図示してないが25枚のウ
エハ2を上下多段式に収納可能であり、全体が上
下に移動自在とされている。この供給カセツト1
内のウエハ2は搬送ベルト3にて1枚づつ取出さ
れ、またウエハ2が1枚取出されるごとに供給カ
セツト1が下方へ一段づつ下がつて次のウエハ2
を取出す準備を整えるようになつている。 そして搬送ベルト3にて取出されたウエハ2
は、そのまま搬送ベルト3にて搬送され、搬送ベ
ルト3の他端側にある湾曲ガイド部4へ当接せし
められる。この湾曲ガイド部4の内側面5はウエ
ハ2の湾曲周縁部6に相応する湾曲度となつてお
り、ウエハ2はその湾曲周縁部6をこの内側面5
へ当接させることにより、ウエハ2の中心点Sを
常に一定位置へ位置決め〔センタリング〕せんと
するものである。 7はオプトセンサーで、ウエハ2のオリフラ8
の位置(向き)検出を行うために湾曲ガイド部6
の内側隣接位置に2ケ所設けられている。そして
このオプトセンサー7は図示せぬ回転機構を作動
させて、センタリングされた後のウエハ2を回動
させ、オリフラ8を一定の方向へ位置合わせ〔オ
リフラ合わせ〕できる。 このように、センタリング及びオリフラ合わせ
の双方が行われてはじめてウエハ2は全体的に位
置決めされたことになる。位置決めの済んだウエ
ハ2は、3本のアーム9a〜9cを持つ移動装置
10の1本のアーム9aにて下側から持ち上げら
れ、そのまま正確に回転して測定ステージ11ま
で運ばれる。ウエハ2は既に正確な位置決めが為
されているので、測定ステージ11へは常に同じ
位置にセツトされ、測定ステージ11での測定を
容易且つ正確に行うことができる。 測定ステージ11での測定が終了したウエハ2
は、移動装置10の同じアーム9aにて別の搬送
ベルト12上へ運ばれ、そのまま搬送されて収納
カセツト13へ収納されていく。移動装置10は
3本のアーム9a〜9cを有するので、以上の操
作は順次連続して行われるものである。
の集積回路のベースとなるウエハの製造もそれに
伴つてますます高い精密度が要求されてきてい
る。そして製造工程上、パターン露光器で製造さ
れた後のウエハは、次の工程として、顕微鏡その
他の測定器へ搬送されてその精密度を厳密に検査
測定されるようになつている。そして、この検査
測定時におけるウエハの測定器へのセツト〔位置
決め〕も、ウエハ上の非常に微小な測定目標を検
査測定するため、製造時と同様に非常に高精度で
行われなくてはならないものである。 ところで、この検査測定時においてウエハの正
確な位置決めを為し得るため、ウエハには「オリ
フラ(オリエンテーシヨンフラツト)」と呼ばれ
る直線状の切欠き部が形成されているので、ウエ
ハの中心位置決め操作〔センタリング〕と、この
オリフラを所定の方向へ位置合わせさせる操作
〔オリフラ合わせ〕の双方を正確且つ確実に行わ
なくてはならない。 そこで、そのようなウエハの位置決めを高精度
で行える装置が必要となるが、この種の装置とし
ては、既に光学機器メーカーより幾つかの装置が
製造販売されており、これら従来のものは基本的
には第5図に示されるような位置決め手段を採用
している。 1は供給カセツトで、図示してないが25枚のウ
エハ2を上下多段式に収納可能であり、全体が上
下に移動自在とされている。この供給カセツト1
内のウエハ2は搬送ベルト3にて1枚づつ取出さ
れ、またウエハ2が1枚取出されるごとに供給カ
セツト1が下方へ一段づつ下がつて次のウエハ2
を取出す準備を整えるようになつている。 そして搬送ベルト3にて取出されたウエハ2
は、そのまま搬送ベルト3にて搬送され、搬送ベ
ルト3の他端側にある湾曲ガイド部4へ当接せし
められる。この湾曲ガイド部4の内側面5はウエ
ハ2の湾曲周縁部6に相応する湾曲度となつてお
り、ウエハ2はその湾曲周縁部6をこの内側面5
へ当接させることにより、ウエハ2の中心点Sを
常に一定位置へ位置決め〔センタリング〕せんと
するものである。 7はオプトセンサーで、ウエハ2のオリフラ8
の位置(向き)検出を行うために湾曲ガイド部6
の内側隣接位置に2ケ所設けられている。そして
このオプトセンサー7は図示せぬ回転機構を作動
させて、センタリングされた後のウエハ2を回動
させ、オリフラ8を一定の方向へ位置合わせ〔オ
リフラ合わせ〕できる。 このように、センタリング及びオリフラ合わせ
の双方が行われてはじめてウエハ2は全体的に位
置決めされたことになる。位置決めの済んだウエ
ハ2は、3本のアーム9a〜9cを持つ移動装置
10の1本のアーム9aにて下側から持ち上げら
れ、そのまま正確に回転して測定ステージ11ま
で運ばれる。ウエハ2は既に正確な位置決めが為
されているので、測定ステージ11へは常に同じ
位置にセツトされ、測定ステージ11での測定を
容易且つ正確に行うことができる。 測定ステージ11での測定が終了したウエハ2
は、移動装置10の同じアーム9aにて別の搬送
ベルト12上へ運ばれ、そのまま搬送されて収納
カセツト13へ収納されていく。移動装置10は
3本のアーム9a〜9cを有するので、以上の操
作は順次連続して行われるものである。
しかしながらこのような従来の装置にあつて
は、ウエハ2の湾曲周縁部6を湾曲ガイド部4の
内側面5へ当接させることによつて、つまり機械
(メカ)的な当接によつてウエハ2のセンタリン
グを図つていたため、そのセンタリング精度には
おのずと限界があり、従つてオプトセンサー7で
正確なオリフラ合わせを行つたとしても、ウエハ
2の全体的な位置決め精度はある程度までしか期
待できないものであつた。 この発明はこのような従来の技術に着目して成
されたもので、ウエハの全体的な位置決めをより
高精度で行うことのできるウエハの非接触位置決
め装置を提供せんとするものである。
は、ウエハ2の湾曲周縁部6を湾曲ガイド部4の
内側面5へ当接させることによつて、つまり機械
(メカ)的な当接によつてウエハ2のセンタリン
グを図つていたため、そのセンタリング精度には
おのずと限界があり、従つてオプトセンサー7で
正確なオリフラ合わせを行つたとしても、ウエハ
2の全体的な位置決め精度はある程度までしか期
待できないものであつた。 この発明はこのような従来の技術に着目して成
されたもので、ウエハの全体的な位置決めをより
高精度で行うことのできるウエハの非接触位置決
め装置を提供せんとするものである。
上記の目的を達成するためのこの発明の構成
を、実施例に対応する第1図〜第4図〔特に第1
図〕を用いて説明する。 光源27、プリズム28、コリメータレンズ3
0により「第1基準光照射機構」が構成され、単
一の光源27から4本の第1基準光Aが取り出さ
れている。この第1基準光Aはセンタリング用
で、支持部36上で水平載置されているウエハ2
0の湾曲周縁部52を各々照射するように、基準
軸αから同じ距離を隔てて通過する互いに平行で
光量の等しい光としてある。 33は「第1基準光検出機構」としてのフオト
トランジスタ又はフオトダイオードからなる光セ
ンサーで、ウエハ20の湾曲周縁部52にて一部
遮蔽される各第1基準光Aの透過光(反射光でも
可)を受光し得る位置に備えられ、前記第1基準
光Aにおける透過光の光量を検出し、該光量に応
じた電流を変位信号として出力するものである。 39は「水平移動機構」としてのXYスライダ
ー装置で、光センサー33からの変位信号を受け
て、前記第1基準光Aにおける透過光の光量を全
て等しくすべき方向へ、支持部36をウエハ20
ごと水平移動させ、ウエハ20の中心点Sと第1
基準光Aの基準軸αとを合致・位置決めするもの
である。 そして、光源27、プリズム29、コリメータ
レンズ31により「第2基準光照射機構」が構成
され、単一の光源27から2本の第2基準光Bが
取り出されている。この第2基準光Bはオリフラ
合わせ用で、支持部36上で水平載置されている
ウエハ20のオリフラ32を各々照射するよう
に、基準直線β上を通過する互いに平行で光量の
等しい光としてある。 35は「第2基準光検出機構」としてのフオト
トランジスタ又はフオトダイオードからなる光セ
ンサーで、ウエハ20のオリフラ32にて一部遮
蔽される各第2基準光Bの透過光(反射光でも
可)を受光し得る位置に備えられ、前記第2基準
光Bにおける透過光の光量を検出し、該光量に応
じた電流を変位信号として出力するものである。 そして、53は「回動機構」としての回動装置
で、光センサー35からの変位信号を受けて、前
記第2基準光Bにおける透過光の光量を全て等し
くすべき方向へ、前記支持部36をウエハ20ご
と回動させ、ウエハ20のオリフラ32を第2基
準光Bの基準直線βと平行に位置合わせするもの
である。
を、実施例に対応する第1図〜第4図〔特に第1
図〕を用いて説明する。 光源27、プリズム28、コリメータレンズ3
0により「第1基準光照射機構」が構成され、単
一の光源27から4本の第1基準光Aが取り出さ
れている。この第1基準光Aはセンタリング用
で、支持部36上で水平載置されているウエハ2
0の湾曲周縁部52を各々照射するように、基準
軸αから同じ距離を隔てて通過する互いに平行で
光量の等しい光としてある。 33は「第1基準光検出機構」としてのフオト
トランジスタ又はフオトダイオードからなる光セ
ンサーで、ウエハ20の湾曲周縁部52にて一部
遮蔽される各第1基準光Aの透過光(反射光でも
可)を受光し得る位置に備えられ、前記第1基準
光Aにおける透過光の光量を検出し、該光量に応
じた電流を変位信号として出力するものである。 39は「水平移動機構」としてのXYスライダ
ー装置で、光センサー33からの変位信号を受け
て、前記第1基準光Aにおける透過光の光量を全
て等しくすべき方向へ、支持部36をウエハ20
ごと水平移動させ、ウエハ20の中心点Sと第1
基準光Aの基準軸αとを合致・位置決めするもの
である。 そして、光源27、プリズム29、コリメータ
レンズ31により「第2基準光照射機構」が構成
され、単一の光源27から2本の第2基準光Bが
取り出されている。この第2基準光Bはオリフラ
合わせ用で、支持部36上で水平載置されている
ウエハ20のオリフラ32を各々照射するよう
に、基準直線β上を通過する互いに平行で光量の
等しい光としてある。 35は「第2基準光検出機構」としてのフオト
トランジスタ又はフオトダイオードからなる光セ
ンサーで、ウエハ20のオリフラ32にて一部遮
蔽される各第2基準光Bの透過光(反射光でも
可)を受光し得る位置に備えられ、前記第2基準
光Bにおける透過光の光量を検出し、該光量に応
じた電流を変位信号として出力するものである。 そして、53は「回動機構」としての回動装置
で、光センサー35からの変位信号を受けて、前
記第2基準光Bにおける透過光の光量を全て等し
くすべき方向へ、前記支持部36をウエハ20ご
と回動させ、ウエハ20のオリフラ32を第2基
準光Bの基準直線βと平行に位置合わせするもの
である。
先ず、ウエハ20を既知の搬送手段によつて4
本の第1基準光A内へ仮セツトする。この時点に
おいては、ウエハ20の中心点S位置とオリフラ
32の位置(向き)は、共に正規の位置から多少
ズレた状態にある〔第3図参照〕。従つて、4本
の第1基準光Aが湾曲周縁部52により遮蔽され
る割合もその第1基準光Aによつて各々相違して
いる。そしてその相違の度合により受光量も各光
センサー33ごとに違つてくるので、各光センサ
ー33からはその受光量の度合(バランス)に見
合う変位信号が出力される。次に、この変位信号
を受けてXYスライダー装置39が、第1基準光
Aにおける遮蔽割合を全て等しくすべき方向へ、
つまり各光センサー33における受光量を全て等
しくする方向へ、前記支持部36をウエハ20ご
と水平移動させるので、ウエハ20の中心点Sは
常に第1基準光Aの基準軸αへ合致・位置決めさ
れることになる。〔第4図参照〕。 また、第1基準光Aの場合と同様に、2本の第
2基準光Bがウエハ20のオリフラ32により遮
蔽される割合も、最初の仮セツトの段階では各々
相違しているので、各光センサー35ごとに受光
量が相違し、各光センサー35からはその受光量
の割合(バランス)に見合う変位信号が出力され
る。そしてこの変位信号を受けて、回動装置53
が第2基準光Bにおける遮蔽割合を全て等しくす
べく方向へ、つまり2つの光センサー35におけ
る受光量を等しくする方向へ、前記支持部36を
ウエハ20ごと回動させるので、オリフラ32は
第2基準光Bの基準直線βと平行に位置合わせさ
れることになる。 このように、ウエハ20の中心点Sは常に第1
基準光Aの基準軸αに合致・位置決めされること
になり、且つ、オリフラ32が第2基準光Bの基
準直線βと平行に位置合わせさせるのでオリフラ
32の向きが決定され、従つてウエハ20は全体
として正確な位置決めが為されることになり、顕
微鏡による測定検査その他を容易且つ確実に行う
ことができる。
本の第1基準光A内へ仮セツトする。この時点に
おいては、ウエハ20の中心点S位置とオリフラ
32の位置(向き)は、共に正規の位置から多少
ズレた状態にある〔第3図参照〕。従つて、4本
の第1基準光Aが湾曲周縁部52により遮蔽され
る割合もその第1基準光Aによつて各々相違して
いる。そしてその相違の度合により受光量も各光
センサー33ごとに違つてくるので、各光センサ
ー33からはその受光量の度合(バランス)に見
合う変位信号が出力される。次に、この変位信号
を受けてXYスライダー装置39が、第1基準光
Aにおける遮蔽割合を全て等しくすべき方向へ、
つまり各光センサー33における受光量を全て等
しくする方向へ、前記支持部36をウエハ20ご
と水平移動させるので、ウエハ20の中心点Sは
常に第1基準光Aの基準軸αへ合致・位置決めさ
れることになる。〔第4図参照〕。 また、第1基準光Aの場合と同様に、2本の第
2基準光Bがウエハ20のオリフラ32により遮
蔽される割合も、最初の仮セツトの段階では各々
相違しているので、各光センサー35ごとに受光
量が相違し、各光センサー35からはその受光量
の割合(バランス)に見合う変位信号が出力され
る。そしてこの変位信号を受けて、回動装置53
が第2基準光Bにおける遮蔽割合を全て等しくす
べく方向へ、つまり2つの光センサー35におけ
る受光量を等しくする方向へ、前記支持部36を
ウエハ20ごと回動させるので、オリフラ32は
第2基準光Bの基準直線βと平行に位置合わせさ
れることになる。 このように、ウエハ20の中心点Sは常に第1
基準光Aの基準軸αに合致・位置決めされること
になり、且つ、オリフラ32が第2基準光Bの基
準直線βと平行に位置合わせさせるのでオリフラ
32の向きが決定され、従つてウエハ20は全体
として正確な位置決めが為されることになり、顕
微鏡による測定検査その他を容易且つ確実に行う
ことができる。
以下、この発明の好適な一実施例を第1図〜第
4図を参照して説明する。 尚、説明の都合上、この発明に係るウエハの非
接触位置決め装置を詳細に説明する前に、このウ
エハの非接触位置決め装置を組み込んだウエハ搬
送装置の全体的な構造及び動作を第2図を用いて
先に説明する。 このウエハ搬送装置14は、主に供給部15、
位置決めセツト部16、測定部17、収納部18
から成つている。供給部15には上下多段収納式
の供給カセツト19が備えられており、この供給
カセツト19内のウエハ20は、1枚づつ供給用
アーム21にて位置決めセツト部16へ搬送可能
とされている。この供給用アーム21はL型形状
をしており、供給部15と位置決めセツト部16
との間を往復移動するものである。また、先端に
は複数の真空吸引孔22が備えられており、供給
カセツト19内のウエハ20を、下側から真空吸
着にて取り出してそのまま位置決めセツト部16
まで搬送し、そこで真空吸引を解除してウエハ2
0を位置決めセツト部16上に仮セツトするもの
である。 次に、この位置決めセツト部16に仮セツトさ
れたウエハ20は、そこで後述する位置決め手段
によりセンタリング及びオリフラ合わせの双方が
高精度で行われて全体的な位置決めが為されるも
のである。 位置決めセツト部16にて正確に位置決めされ
たウエハ20は、次に回転アーム23にて測定部
17へ搬送される。この回転アーム23は全体が
「ヘラ」形状をしたもので、その先端には先の供
給アーム21と同様に真空吸引孔24が複数備え
られてあり、位置決めされた後のウエハ20を下
側から真空吸着したまま持ち上げ、そのまま水平
に回転してウエハ20を測定部17上にセツトす
るものである。この回転アーム23はウエハ20
をほとんど位置ズレなくできるもので、位置決め
セツト部16にて正確に位置決めされたウエハ2
0をそのまま高精度で測定部17上の常に同じ位
置へセツトするものである。 そして、測定部17にて検査測定が終了したウ
エハ20は再度回転アーム23て位置決めセツト
部16へ戻される。そして位置決めセツト部16
へ戻されたこのウエハ20は、先の供給アーム2
1と同じ構造をした収納アーム25にて収納部1
8の収納カセツト26内へ収納される。このウエ
ハ搬送装置14は、以上説明した操作を順次繰り
返して行うものである。 さて次に、このウエハ搬送装置14の主要部分
である「ウエハの非接触位置決め装置」としての
位置決めセツト部16の構造を説明する。 27は光源で、この単一の光源27から4つの
プリズム28により4本の第1基準光Aが等角度
(90度)で取り出され、更に別に設けた1つのプ
リズム29から2本の第2基準光Bが取り出され
ている。そして取り出された第1基準光A及び第
2基準光Bは対応するコリメータレンズ30,3
1にて各々平行光線にされる。また、第1基準光
A同士は互いに平行であると共に光量も等しく、
一定の基準軸αから同じ距離を隔てて通過すると
共に、この基準軸αともそれぞれ平行である。第
2基準光Bも、ちようどウエハ20のオリフラ3
2を照射すべく設定された基準直線β上を通過す
るようにされている。そして、上記説明した構造
のうち、その機能上、第1基準光Aを得るための
光源27、プリズム28、コリメータレンズ30
を「第1基準光照射機構」とし、第2基準光Bを
得るための光源27、プリズム29、コリメータ
レンズ31を「第2基準光照射機構」としてい
る。 33は「第1基準光検出機構」としての光セン
サーで、四角形状をしており、簡単に言えば、構
造は太陽電池と同じで受光量に相応する電流を変
位信号として出力するようになつており、この実
施例ではフオトトランジスタ(フオトダイオード
でも可)を採用している。この光センサー33は
4インチ径のウエハ20用で、その外側には5イ
ンチ径用の光センサー34も備えられており、ウ
エハ20の大きさに合わせて選択的に使用できる
ようになつている。「第2基準光検出機構」とし
ての光センサー35も、先の光センサー33と構
造は同であるが、形状は各々長円形状でやや光セ
ンサー33よりも小サイズである。 36は支持部で、ウエハ20を水平載置するも
ので、その先端載置面37には中央に真空吸引孔
38が備えれており、ウエハ20を下側から真空
吸着により固定できるようになつている。 39は「水平移動機構」としてのXYスライダ
ー装置で、このXYスライダー装置39のXスラ
イダー40における可動部41の上面に前記支持
部36の下端が固定されている。このXスライダ
ー40の可動部41には伝達ロツド42が水平に
備えられていると共に、この可動部41自体は伝
達ロツド42が備えてある方へ、図示せぬ内蔵ス
プリングにより常に固定部43に対して付勢力が
付与されている。そしてこの伝達ロツド42の先
端部はサーボモータ44にて回転するカム45に
より、内蔵スプリングの付勢方向とは逆方向に押
出自在されるので、可動部41はサーボモータ4
4の回転量及び回転方向に相応する水平移動がで
きるようになつている。また、このXスライダー
40の固定部43は、互いに直角交差方向にある
Yスライダー46の上面に固定されている。この
Yスライダー46の可動部47にも伝達ロツド4
8が水平に備えられており、サーボモータ49に
て回転するカム50により、先のXスライダー4
0の場合と同様、固定部51に対して水平移動自
在とされている。このような構造をしたXYスラ
イダー装置39は前記第1基準光A用の光センサ
ー33からの変位信号を受けて作動するもので、
しかも光センサー33での受光量を全て等しくす
る方向、即ちウエハ20の湾曲周縁部52にて第
1基準光Aが遮蔽される割合を全て等しくする方
向へ、前記支持部36を水平移動させるものであ
る。 そして更に、このXYスライダー装置39の下
方には「回動機構」として回動装置53が備えら
れてある。即ち、Yスライダー46の固定部51
下面には、下端に回転ギヤ54を備えた回動シヤ
フト55が固定されている。この回転ギヤ54に
はサーボモータ56から伝達ベルト57が掛け回
されており、支持部36とXYスライダー装置3
9の双方を同時に回動できるようになつている。
以上がこの回動装置53の構成である。このよう
な構造をした回動装置53は前記第2基準光B用
の光センサー35からの変位信号を受けて作動す
るもので、しかも光センサー35での受光量を全
て等しくする方向、即ちウエハ20のオリフラ3
2にて第2基準光Bが遮蔽される割合を全て等し
くする方向へ、前記支持部36を先のXYスライ
ダー装置39ごと回動させるものである。 次に、この位置決めセツト部16における動作
を説明する。 先ず、ウエハ20が回転アーム23にて4本の
第1基準光A内へ仮セツトされる。この時点にお
いては、ウエハ20の中心点S位置とオリフラ3
2の位置(向き)は、共に正規の位置から多少ズ
レた状態にある〔第3図参照〕。従つて、第1基
準光A用の光センサー33での受光量が各々光セ
ンサー33ごとに相違するので、XYスライダー
装置39が作動して、その受光量を全て等しくす
べき方向へ、Xスライダー40とYスライダー4
6との水平移動が合成されて支持部36をウエハ
20ごと水平移動させる。従つて、ウエハ20は
4本の第1基準光Aの真中に位置することになる
ので、ウエハ20の中心点Sは常に第1基準光A
の基準軸αへ合致・位置決め〔センタリング〕さ
れることになる〔第4図参照〕。このようにウエ
ハ20のセンタリングに関しては、光センサー3
3での受光量にてXYスライダー装置39を作動
させるので、光源27から取り出される第1基準
光Aの光量は必ず同じでなければならない。また
この発明においては、上記の如く単一光源27か
ら各々の第1基準光Aを取り出したところに1つ
の特徴がある。つまり、4本の第1基準光Aに対
して各々対応する4つの光源を設定したのでは、
長期使用時における各光源での光量(照度)低下
の相違が原因となつて、第1基準光Aの正確な遮
蔽度合を検出できなくなるからです。この発明で
は光源27が1つ(単一)なので、長期使用その
他によりたとえこの光源27の光量(照度)が低
下したとしても4本の第1基準光Aにおける各々
の光量が均等に低下するので光センサー33にお
ける受光量の検出に影響を与えることはない。 また、第1基準光Aの場合と同様に、第2基準
光B用の光センサー35での受光量も最初の状態
では各々相違しているので、回動装置53のサー
ボモータ56が回転しその受光量を全て等しくす
べき方向へ、回動シヤフト55を回動させる。従
つて、支持部36も一緒にウエハ20ごと回動す
るので、オリフラ32は常に第2基準光Bを結ぶ
基準直線βと平行になるように位置合わせさせら
れ、オリフラ32は基準直線βに対応して常に同
じ方向に向くように位置合わせさせられる。この
オリフラ合わせにおいても光センサー35におけ
る受光量が一番大事なので、各第2基準光Bの光
量も必ず等しくなければならない。従つて、この
第2基準光Bも必ず単一の光源から取り出さなけ
ればならず、この実施例のように第1基準光Aと
同じ光源27から取り出してもよいし、また1つ
であれば、別の単一光源から取り出してもよい。 このように、ウエハ20の中心点Sは常に第1
基準光Aの基準軸αに位置決めされることにな
り、且つオリフラ32も第2基準光Bの基準直線
βに対して常に平行に位置合わせされるので、ウ
エハ20は全体として正確な位置決めが為され、
顕微鏡による測定検査その他を容易且つ確実に行
うことができるものである。 尚、以上の説明において第1基準光Aを4本取
り出す例を示したが、第1基準光Aは少なくとも
3本あればウエハ20のセンタリングを行うこと
ができる。同様に第2基準光Bも基準直線βを通
過するものであればよく、少なくとも2本以上あ
ればオリフラ32の位置合わせを行うことができ
る。更に、光センサー33,34,35としては
透過した方の光の光量を検出する透過検出式とし
たが、基準光A,Bの照射方向によつては光セン
サー33,34,35をウエハ20の上方に配
し、ウエハ20にて反射された方の光の光量を検
出する反射検出式としても良い。
4図を参照して説明する。 尚、説明の都合上、この発明に係るウエハの非
接触位置決め装置を詳細に説明する前に、このウ
エハの非接触位置決め装置を組み込んだウエハ搬
送装置の全体的な構造及び動作を第2図を用いて
先に説明する。 このウエハ搬送装置14は、主に供給部15、
位置決めセツト部16、測定部17、収納部18
から成つている。供給部15には上下多段収納式
の供給カセツト19が備えられており、この供給
カセツト19内のウエハ20は、1枚づつ供給用
アーム21にて位置決めセツト部16へ搬送可能
とされている。この供給用アーム21はL型形状
をしており、供給部15と位置決めセツト部16
との間を往復移動するものである。また、先端に
は複数の真空吸引孔22が備えられており、供給
カセツト19内のウエハ20を、下側から真空吸
着にて取り出してそのまま位置決めセツト部16
まで搬送し、そこで真空吸引を解除してウエハ2
0を位置決めセツト部16上に仮セツトするもの
である。 次に、この位置決めセツト部16に仮セツトさ
れたウエハ20は、そこで後述する位置決め手段
によりセンタリング及びオリフラ合わせの双方が
高精度で行われて全体的な位置決めが為されるも
のである。 位置決めセツト部16にて正確に位置決めされ
たウエハ20は、次に回転アーム23にて測定部
17へ搬送される。この回転アーム23は全体が
「ヘラ」形状をしたもので、その先端には先の供
給アーム21と同様に真空吸引孔24が複数備え
られてあり、位置決めされた後のウエハ20を下
側から真空吸着したまま持ち上げ、そのまま水平
に回転してウエハ20を測定部17上にセツトす
るものである。この回転アーム23はウエハ20
をほとんど位置ズレなくできるもので、位置決め
セツト部16にて正確に位置決めされたウエハ2
0をそのまま高精度で測定部17上の常に同じ位
置へセツトするものである。 そして、測定部17にて検査測定が終了したウ
エハ20は再度回転アーム23て位置決めセツト
部16へ戻される。そして位置決めセツト部16
へ戻されたこのウエハ20は、先の供給アーム2
1と同じ構造をした収納アーム25にて収納部1
8の収納カセツト26内へ収納される。このウエ
ハ搬送装置14は、以上説明した操作を順次繰り
返して行うものである。 さて次に、このウエハ搬送装置14の主要部分
である「ウエハの非接触位置決め装置」としての
位置決めセツト部16の構造を説明する。 27は光源で、この単一の光源27から4つの
プリズム28により4本の第1基準光Aが等角度
(90度)で取り出され、更に別に設けた1つのプ
リズム29から2本の第2基準光Bが取り出され
ている。そして取り出された第1基準光A及び第
2基準光Bは対応するコリメータレンズ30,3
1にて各々平行光線にされる。また、第1基準光
A同士は互いに平行であると共に光量も等しく、
一定の基準軸αから同じ距離を隔てて通過すると
共に、この基準軸αともそれぞれ平行である。第
2基準光Bも、ちようどウエハ20のオリフラ3
2を照射すべく設定された基準直線β上を通過す
るようにされている。そして、上記説明した構造
のうち、その機能上、第1基準光Aを得るための
光源27、プリズム28、コリメータレンズ30
を「第1基準光照射機構」とし、第2基準光Bを
得るための光源27、プリズム29、コリメータ
レンズ31を「第2基準光照射機構」としてい
る。 33は「第1基準光検出機構」としての光セン
サーで、四角形状をしており、簡単に言えば、構
造は太陽電池と同じで受光量に相応する電流を変
位信号として出力するようになつており、この実
施例ではフオトトランジスタ(フオトダイオード
でも可)を採用している。この光センサー33は
4インチ径のウエハ20用で、その外側には5イ
ンチ径用の光センサー34も備えられており、ウ
エハ20の大きさに合わせて選択的に使用できる
ようになつている。「第2基準光検出機構」とし
ての光センサー35も、先の光センサー33と構
造は同であるが、形状は各々長円形状でやや光セ
ンサー33よりも小サイズである。 36は支持部で、ウエハ20を水平載置するも
ので、その先端載置面37には中央に真空吸引孔
38が備えれており、ウエハ20を下側から真空
吸着により固定できるようになつている。 39は「水平移動機構」としてのXYスライダ
ー装置で、このXYスライダー装置39のXスラ
イダー40における可動部41の上面に前記支持
部36の下端が固定されている。このXスライダ
ー40の可動部41には伝達ロツド42が水平に
備えられていると共に、この可動部41自体は伝
達ロツド42が備えてある方へ、図示せぬ内蔵ス
プリングにより常に固定部43に対して付勢力が
付与されている。そしてこの伝達ロツド42の先
端部はサーボモータ44にて回転するカム45に
より、内蔵スプリングの付勢方向とは逆方向に押
出自在されるので、可動部41はサーボモータ4
4の回転量及び回転方向に相応する水平移動がで
きるようになつている。また、このXスライダー
40の固定部43は、互いに直角交差方向にある
Yスライダー46の上面に固定されている。この
Yスライダー46の可動部47にも伝達ロツド4
8が水平に備えられており、サーボモータ49に
て回転するカム50により、先のXスライダー4
0の場合と同様、固定部51に対して水平移動自
在とされている。このような構造をしたXYスラ
イダー装置39は前記第1基準光A用の光センサ
ー33からの変位信号を受けて作動するもので、
しかも光センサー33での受光量を全て等しくす
る方向、即ちウエハ20の湾曲周縁部52にて第
1基準光Aが遮蔽される割合を全て等しくする方
向へ、前記支持部36を水平移動させるものであ
る。 そして更に、このXYスライダー装置39の下
方には「回動機構」として回動装置53が備えら
れてある。即ち、Yスライダー46の固定部51
下面には、下端に回転ギヤ54を備えた回動シヤ
フト55が固定されている。この回転ギヤ54に
はサーボモータ56から伝達ベルト57が掛け回
されており、支持部36とXYスライダー装置3
9の双方を同時に回動できるようになつている。
以上がこの回動装置53の構成である。このよう
な構造をした回動装置53は前記第2基準光B用
の光センサー35からの変位信号を受けて作動す
るもので、しかも光センサー35での受光量を全
て等しくする方向、即ちウエハ20のオリフラ3
2にて第2基準光Bが遮蔽される割合を全て等し
くする方向へ、前記支持部36を先のXYスライ
ダー装置39ごと回動させるものである。 次に、この位置決めセツト部16における動作
を説明する。 先ず、ウエハ20が回転アーム23にて4本の
第1基準光A内へ仮セツトされる。この時点にお
いては、ウエハ20の中心点S位置とオリフラ3
2の位置(向き)は、共に正規の位置から多少ズ
レた状態にある〔第3図参照〕。従つて、第1基
準光A用の光センサー33での受光量が各々光セ
ンサー33ごとに相違するので、XYスライダー
装置39が作動して、その受光量を全て等しくす
べき方向へ、Xスライダー40とYスライダー4
6との水平移動が合成されて支持部36をウエハ
20ごと水平移動させる。従つて、ウエハ20は
4本の第1基準光Aの真中に位置することになる
ので、ウエハ20の中心点Sは常に第1基準光A
の基準軸αへ合致・位置決め〔センタリング〕さ
れることになる〔第4図参照〕。このようにウエ
ハ20のセンタリングに関しては、光センサー3
3での受光量にてXYスライダー装置39を作動
させるので、光源27から取り出される第1基準
光Aの光量は必ず同じでなければならない。また
この発明においては、上記の如く単一光源27か
ら各々の第1基準光Aを取り出したところに1つ
の特徴がある。つまり、4本の第1基準光Aに対
して各々対応する4つの光源を設定したのでは、
長期使用時における各光源での光量(照度)低下
の相違が原因となつて、第1基準光Aの正確な遮
蔽度合を検出できなくなるからです。この発明で
は光源27が1つ(単一)なので、長期使用その
他によりたとえこの光源27の光量(照度)が低
下したとしても4本の第1基準光Aにおける各々
の光量が均等に低下するので光センサー33にお
ける受光量の検出に影響を与えることはない。 また、第1基準光Aの場合と同様に、第2基準
光B用の光センサー35での受光量も最初の状態
では各々相違しているので、回動装置53のサー
ボモータ56が回転しその受光量を全て等しくす
べき方向へ、回動シヤフト55を回動させる。従
つて、支持部36も一緒にウエハ20ごと回動す
るので、オリフラ32は常に第2基準光Bを結ぶ
基準直線βと平行になるように位置合わせさせら
れ、オリフラ32は基準直線βに対応して常に同
じ方向に向くように位置合わせさせられる。この
オリフラ合わせにおいても光センサー35におけ
る受光量が一番大事なので、各第2基準光Bの光
量も必ず等しくなければならない。従つて、この
第2基準光Bも必ず単一の光源から取り出さなけ
ればならず、この実施例のように第1基準光Aと
同じ光源27から取り出してもよいし、また1つ
であれば、別の単一光源から取り出してもよい。 このように、ウエハ20の中心点Sは常に第1
基準光Aの基準軸αに位置決めされることにな
り、且つオリフラ32も第2基準光Bの基準直線
βに対して常に平行に位置合わせされるので、ウ
エハ20は全体として正確な位置決めが為され、
顕微鏡による測定検査その他を容易且つ確実に行
うことができるものである。 尚、以上の説明において第1基準光Aを4本取
り出す例を示したが、第1基準光Aは少なくとも
3本あればウエハ20のセンタリングを行うこと
ができる。同様に第2基準光Bも基準直線βを通
過するものであればよく、少なくとも2本以上あ
ればオリフラ32の位置合わせを行うことができ
る。更に、光センサー33,34,35としては
透過した方の光の光量を検出する透過検出式とし
たが、基準光A,Bの照射方向によつては光セン
サー33,34,35をウエハ20の上方に配
し、ウエハ20にて反射された方の光の光量を検
出する反射検出式としても良い。
この発明に係るウエハの非接触位置決め装置は
以上説明してきた如き内容のものであつて、ウエ
ハのセンタリング及びオリフラ合わせの双方を、
非接触の光学的位置決め手段により行うので、従
来の機械(メカ)的位置決めに比べてウエハ全体
の位置決め精度を格段と向上させることができ、
ウエハの顕微鏡による測定検査その他を容易且つ
確実に行うことができるという効果がある。 また、センタリング用の基準光とオリフラ合わ
せ用の基準光は、共に単一の光源から各々取り出
されるので、光源の光量(照度)低下などに依る
影響を受けることなく、高精度で確実な位置合わ
せを長期間行うことができ、メンテナンス上も有
利である。 更に、この発明の実施例によれば水平移動機構
及び回動機構に、動作スピードの速いサーボモー
タを採用したので、位置決め速度が非常に速く、
ウエハの数が多くても短時間で位置決め処理を行
うことができ、検査測定の能率アツプを図ること
ができる。
以上説明してきた如き内容のものであつて、ウエ
ハのセンタリング及びオリフラ合わせの双方を、
非接触の光学的位置決め手段により行うので、従
来の機械(メカ)的位置決めに比べてウエハ全体
の位置決め精度を格段と向上させることができ、
ウエハの顕微鏡による測定検査その他を容易且つ
確実に行うことができるという効果がある。 また、センタリング用の基準光とオリフラ合わ
せ用の基準光は、共に単一の光源から各々取り出
されるので、光源の光量(照度)低下などに依る
影響を受けることなく、高精度で確実な位置合わ
せを長期間行うことができ、メンテナンス上も有
利である。 更に、この発明の実施例によれば水平移動機構
及び回動機構に、動作スピードの速いサーボモー
タを採用したので、位置決め速度が非常に速く、
ウエハの数が多くても短時間で位置決め処理を行
うことができ、検査測定の能率アツプを図ること
ができる。
第1図はこの発明の一実施例に係るウエハの非
接触位置決め装置を示す全体構造図、第2図は第
1図に示したウエハの非接触位置決め装置を位置
決めセツト部として組み込んだウエハ搬送装置の
概略平面図、第3図は位置決め前のウエハを示す
平面図、第4図は位置決め後のウエハを示す平面
図、そして第5図はこの発明の従来例を示す概略
平面図である。 2,20……ウエハ、6,52……湾曲周縁
部、8,32……オリフラ、27……光源、3
3,34……光センサー〔第1基準光検出機構〕、
35……光センサー〔第2基準光検出機構〕、3
6……支持部、39……XYスライダー装置〔水
平移動機構〕、53……回動装置〔回動機構〕、A
……第1基準光、B……第2基準光、α……基準
軸、β……基準直線、S……中心点。
接触位置決め装置を示す全体構造図、第2図は第
1図に示したウエハの非接触位置決め装置を位置
決めセツト部として組み込んだウエハ搬送装置の
概略平面図、第3図は位置決め前のウエハを示す
平面図、第4図は位置決め後のウエハを示す平面
図、そして第5図はこの発明の従来例を示す概略
平面図である。 2,20……ウエハ、6,52……湾曲周縁
部、8,32……オリフラ、27……光源、3
3,34……光センサー〔第1基準光検出機構〕、
35……光センサー〔第2基準光検出機構〕、3
6……支持部、39……XYスライダー装置〔水
平移動機構〕、53……回動装置〔回動機構〕、A
……第1基準光、B……第2基準光、α……基準
軸、β……基準直線、S……中心点。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基準軸から同じ距離を隔てて通過する互いに
平行で光量の等しいセンタリング用の第1基準光
を単一光源から少なくとも3本以上取り出し、且
つ該第1基準光を支持部上で水平載置されている
ウエハの湾曲周縁部へ各々照射する第1基準光照
射機構と、 前記湾曲周縁部にて一部遮蔽される各第1基準
光の透過光又は反射光を受光し得る位置にフオト
トランジスタ又はフオトダイオードをそれぞれ備
え、該フオトトランジスタ又はフオトダイオード
にて前記透過光又は反射光の光量を検出し、該光
量に応じた電流を変位信号として出力する第1基
準光検出機構と、 該第1基準光検出機構からの変位信号を受け
て、前記第1基準光における透過光又は反射光の
光量を全て等しくすべき方向へ前記支持部をウエ
ハごと水平移動させ、ウエハの中心点と第1基準
光の基準軸とを合致・位置決めせしめる水平移動
機構と、そして 基準直線上を通過する互いに平行で光量の等し
いオリフラ合わせ用の第2基準光を前記第1基準
光の光源又は別の単一光源から少なくとも2本以
上取り出し、且つ該第2基準光を支持部上で水平
載置されているウエハのオリフラへ各々照射する
第2基準光照射機構と、 前記オリフラにて一部遮蔽される各第2基準光
の透過光又は反射光を受光し得る位置にフオトト
ランジスタ又はフオトダイオードをそれぞれ備
え、該フオトトランジスタ又はフオトダイオード
にて前記透過光又は反射光の光量を検出し、該光
量に応じた電流を変位信号として出力する第2基
準光検出機構と、 該第2基準光検出機構からの変位信号を受け
て、前記第2基準光における透過光又は反射光の
光量を全て等しくすべき方向へ前記支持部をウエ
ハごと回動させ、ウエハのオリフラを第2基準光
の基準直線と平行に位置合わせする回動機構と、 から成ることを特徴とするウエハの非接触位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477485A JPS6276643A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ウエハの非接触位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477485A JPS6276643A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ウエハの非接触位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276643A JPS6276643A (ja) | 1987-04-08 |
| JPH0224380B2 true JPH0224380B2 (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=16661310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21477485A Granted JPS6276643A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ウエハの非接触位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6276643A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0592714U (ja) * | 1992-05-12 | 1993-12-17 | 株式会社中山製鋼所 | 鋼板の超音波探傷試験作業機 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620097B2 (ja) * | 1987-10-20 | 1994-03-16 | 富士通株式会社 | ウエハ位置決め装置 |
| US6677602B1 (en) * | 2000-08-18 | 2004-01-13 | Sensys Instruments Corporation | Notch and flat sensor for wafer alignment |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59208849A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Hitachi Ltd | 板状物の位置合わせ方法および装置 |
| JPS6132539A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-15 | Hitachi Ltd | ウエハ位置決め装置 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21477485A patent/JPS6276643A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0592714U (ja) * | 1992-05-12 | 1993-12-17 | 株式会社中山製鋼所 | 鋼板の超音波探傷試験作業機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6276643A (ja) | 1987-04-08 |
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