JPH02247205A - 高屈折率樹脂の製造方法 - Google Patents
高屈折率樹脂の製造方法Info
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- JPH02247205A JPH02247205A JP6906089A JP6906089A JPH02247205A JP H02247205 A JPH02247205 A JP H02247205A JP 6906089 A JP6906089 A JP 6906089A JP 6906089 A JP6906089 A JP 6906089A JP H02247205 A JPH02247205 A JP H02247205A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/38—Esters containing sulfur
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、高屈折率樹脂の製造方法に関するものである
。
。
[従来技術]
レンズ、プリズム、オプティカルファイバー等には、そ
の軽量性及び生産性よりポリスチレン樹脂やポリカポネ
ート樹脂等の汎用プラスチックが多く用いられている。
の軽量性及び生産性よりポリスチレン樹脂やポリカポネ
ート樹脂等の汎用プラスチックが多く用いられている。
しかし、これらの汎用プラスチックは屈折率が不十分で
あり、レンズの薄型化、光学機器の小型化のためにより
高い屈折率を有する樹脂の開発が望まれており、これま
でに、芳香環が硫黄原子と直接結合した芳香族チオール
エステルを主成分とする光学素子(特開昭60−260
09号公報)や脂肪族チオールエステル(特開昭63−
162671号公報や特開昭63−188660号公報
)や千〇オールウレタン樹脂(特開昭62−26731
6号公報)が提案されている。
あり、レンズの薄型化、光学機器の小型化のためにより
高い屈折率を有する樹脂の開発が望まれており、これま
でに、芳香環が硫黄原子と直接結合した芳香族チオール
エステルを主成分とする光学素子(特開昭60−260
09号公報)や脂肪族チオールエステル(特開昭63−
162671号公報や特開昭63−188660号公報
)や千〇オールウレタン樹脂(特開昭62−26731
6号公報)が提案されている。
[本発明が解決しようとする課題]
かかる特開昭60−26009号公報の樹脂は、屈折率
が高いが、熱可塑性であるため、研磨時の加熱で歪が生
じるため、メガネ等の用途には不向きであり、構造内に
含まれる芳香環が硫黄原子と直接結合する構造を有して
いるため、耐光性が低く、太陽光の照射や加熱によって
、変色したり脆くなるという欠点があった。また、切削
・研磨等の加熱を伴う加工時に強い臭気を発生するとい
う欠点があった。
が高いが、熱可塑性であるため、研磨時の加熱で歪が生
じるため、メガネ等の用途には不向きであり、構造内に
含まれる芳香環が硫黄原子と直接結合する構造を有して
いるため、耐光性が低く、太陽光の照射や加熱によって
、変色したり脆くなるという欠点があった。また、切削
・研磨等の加熱を伴う加工時に強い臭気を発生するとい
う欠点があった。
また、特開昭63−162671号公報や特開昭63−
188660号公報で提案されている脂肪族チオールエ
ステルより得られる樹脂は、耐光性は高いものの、原子
屈折が高い硫黄原子の含有率が比較的低いため、十分な
高屈折率は得られていない。
188660号公報で提案されている脂肪族チオールエ
ステルより得られる樹脂は、耐光性は高いものの、原子
屈折が高い硫黄原子の含有率が比較的低いため、十分な
高屈折率は得られていない。
また、特開昭63−162671号公報のチオールエス
テルよりなる樹脂は研磨時に激しいメルカプタン臭を伴
うという欠点があった。
テルよりなる樹脂は研磨時に激しいメルカプタン臭を伴
うという欠点があった。
特開昭62−267316号公報に提案されているチオ
ールウレタン樹脂も高屈折率の樹脂を得るためには芳香
環を導入する必要があった。しかし、芳香族系チオール
ウレタン樹脂は光照射によって黄変するという光学樹脂
としては致命的な欠点を有している。
ールウレタン樹脂も高屈折率の樹脂を得るためには芳香
環を導入する必要があった。しかし、芳香族系チオール
ウレタン樹脂は光照射によって黄変するという光学樹脂
としては致命的な欠点を有している。
本発明は、かかる従来技術の欠点を解消しようとするも
のであり、高い屈折率及び優れた耐光性を有し、さらに
加工時の臭気のない樹脂の製造方法を提供することを目
的とする [課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために本発明は以下の構成よりなる
。
のであり、高い屈折率及び優れた耐光性を有し、さらに
加工時の臭気のない樹脂の製造方法を提供することを目
的とする [課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために本発明は以下の構成よりなる
。
「下記一般式[1]、[II]または[m]で示される
化合物から選ばれる少なくとも1種を重合性単量体成分
として用いることを特徴とする高屈折率樹脂の製造方法
。
化合物から選ばれる少なくとも1種を重合性単量体成分
として用いることを特徴とする高屈折率樹脂の製造方法
。
(式中、A l z A 2は、
から選ばれる。n、mは、0〜4の整数、pは0または
1、qはO〜5の整数、rは0〜5の整数、tは0〜5
の整数を示す。x、y、zは、OまたはSを示す。R1
−R6は、炭素数1〜10のアルキル基または水素であ
り、かつ、R1−R8のうちの少なくとも1つは、−8
−をα個と、から選ばれる少なくとも1つを合計でβ個
と、−Hとからなる置換基であり(ただし、−5−S−
を含まない)、αは1〜5の整数、βは1〜10の整数
を示し、α≦βを満たす。R7は、水素またはメチル基
である。)」 [m] 多官能オレフィン性化合物を用いた従来技術において、
さらに屈折率を上げるためには、硫黄を多く含有させる
ことが考えられるが、その際、従来のように、オレフィ
ン性化合物の主鎖に多くの硫黄原子が入ると、架橋間分
子量が大きくなり、耐熱性が下がってしまうという問題
があり、本発明においては、側鎖置換基中に硫黄を含む
重合性単量体としたことにより、このような問題がなく
、さらに、前記のような目的を達成することができた。
1、qはO〜5の整数、rは0〜5の整数、tは0〜5
の整数を示す。x、y、zは、OまたはSを示す。R1
−R6は、炭素数1〜10のアルキル基または水素であ
り、かつ、R1−R8のうちの少なくとも1つは、−8
−をα個と、から選ばれる少なくとも1つを合計でβ個
と、−Hとからなる置換基であり(ただし、−5−S−
を含まない)、αは1〜5の整数、βは1〜10の整数
を示し、α≦βを満たす。R7は、水素またはメチル基
である。)」 [m] 多官能オレフィン性化合物を用いた従来技術において、
さらに屈折率を上げるためには、硫黄を多く含有させる
ことが考えられるが、その際、従来のように、オレフィ
ン性化合物の主鎖に多くの硫黄原子が入ると、架橋間分
子量が大きくなり、耐熱性が下がってしまうという問題
があり、本発明においては、側鎖置換基中に硫黄を含む
重合性単量体としたことにより、このような問題がなく
、さらに、前記のような目的を達成することができた。
本発明に用いられる一般式[I]、[■]および[I[
]で示される化合物は、該化合物の前駆体である水酸基
および/またはメルカプト基を2個以上有する化合物に
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸クロライド、
(メタ)アクリロイルイソシアネート、アリルクロライ
ド、アリルイソシアネート、炭酸ガスのうち少なくとも
1種を反応させることによって製造できる。当然、水酸
基および/またはメルカプト素を2個以上有する化合物
を用いるため、[I]〜[III]で示した化合物以外
に、3個以上の重合官能基を有する単量体ができるが、
それらはすべて本発明の高屈折率樹脂の製造方法におい
て用いられる。
]で示される化合物は、該化合物の前駆体である水酸基
および/またはメルカプト基を2個以上有する化合物に
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸クロライド、
(メタ)アクリロイルイソシアネート、アリルクロライ
ド、アリルイソシアネート、炭酸ガスのうち少なくとも
1種を反応させることによって製造できる。当然、水酸
基および/またはメルカプト素を2個以上有する化合物
を用いるため、[I]〜[III]で示した化合物以外
に、3個以上の重合官能基を有する単量体ができるが、
それらはすべて本発明の高屈折率樹脂の製造方法におい
て用いられる。
一般式[I]、[II]および[I[I]で示される化
合物中、R,#R4の置換基としては、例えば、以下の
置換基が挙げられるが、これらに限定されるものではい
。
合物中、R,#R4の置換基としては、例えば、以下の
置換基が挙げられるが、これらに限定されるものではい
。
−8−CHs 、 −3Cth C[(3、−3CH2
CH25H1−3CH2CH25CH2CH3、CH3 一数式CI]、[II]および[III]で示される化
合物としては、例えば、以下の化合物があげられるが、
これらに限定されるものではない。
CH25H1−3CH2CH25CH2CH3、CH3 一数式CI]、[II]および[III]で示される化
合物としては、例えば、以下の化合物があげられるが、
これらに限定されるものではない。
SCH38CHs
SCHx SCH3
^ビO−CCH−0−A2
SCHg
CH3
A+ −0−CH2CH2−8−C−S−CFI2 C
Ht −0−A2CH3 SCHg SCH+ SCH38CH3 SCH2CH3 8CH2CH。
Ht −0−A2CH3 SCHg SCH+ SCH38CH3 SCH2CH3 8CH2CH。
本発明においては、前記一般式[I]、[II]あるい
は[I[]で示される化合物から選ばれる少なくとも1
種を必須成分として用い、例えば、その100重量部に
対して、過酸化物系あるいはアゾ系の開始剤を0.01
〜5重量部加えた後、加熱あるいは光や電子線を照射す
ることによって重合することができる。
は[I[]で示される化合物から選ばれる少なくとも1
種を必須成分として用い、例えば、その100重量部に
対して、過酸化物系あるいはアゾ系の開始剤を0.01
〜5重量部加えた後、加熱あるいは光や電子線を照射す
ることによって重合することができる。
本発明においては、前記一般式[I]、[II]あるい
は[m]で示される化合物以外に、製造する樹脂の光学
特性やレンズ物性を損なわない範囲で他の単量体を加え
てもよい。他の成分を加える場合、本発明の一般式[I
]〜[m]で示される単量体成分を少なくとも5重量%
含有することが好ましい。また、加える単量体の添加量
としては、屈折率が1.55以下とならない範囲で加え
ることが好ましい。
は[m]で示される化合物以外に、製造する樹脂の光学
特性やレンズ物性を損なわない範囲で他の単量体を加え
てもよい。他の成分を加える場合、本発明の一般式[I
]〜[m]で示される単量体成分を少なくとも5重量%
含有することが好ましい。また、加える単量体の添加量
としては、屈折率が1.55以下とならない範囲で加え
ることが好ましい。
加える単量体としては、オレフィン系化合物であれば特
に限定はせず、好ましくは(メタ)アクリル系化合物や
スチレン系化合物、アリル系化合物、アクリロニトリル
、N−フェニルマレイミド等があげられる。具体的には
、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ
レート、プロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ
タ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベ
ンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、シクロへキシルメチレン(メタ)アクリ
レート、スチレン、ビニルナフタレン、ハロゲン置換ス
チレン、α−メチルスチレン、ジアリルフタレート、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネートである。また、これ
らオレフィン系化合物以外に1種類以上のチオール化合
物を共重合することによって、加工性や耐衝撃性に優れ
た樹脂を製造することができる。かかるチオール化合物
とはチオール基を分子内に1個以上有していれば特に限
定せず、好ましくは、チオール基を分子内に2個以上有
している多官能チオール化合物であり、例えば、ペンタ
エリスルトールテトラキスチオグリコレートやトリスメ
ルカプトイソシアヌレート等があげられる。
に限定はせず、好ましくは(メタ)アクリル系化合物や
スチレン系化合物、アリル系化合物、アクリロニトリル
、N−フェニルマレイミド等があげられる。具体的には
、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ
レート、プロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ
タ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベ
ンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、シクロへキシルメチレン(メタ)アクリ
レート、スチレン、ビニルナフタレン、ハロゲン置換ス
チレン、α−メチルスチレン、ジアリルフタレート、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネートである。また、これ
らオレフィン系化合物以外に1種類以上のチオール化合
物を共重合することによって、加工性や耐衝撃性に優れ
た樹脂を製造することができる。かかるチオール化合物
とはチオール基を分子内に1個以上有していれば特に限
定せず、好ましくは、チオール基を分子内に2個以上有
している多官能チオール化合物であり、例えば、ペンタ
エリスルトールテトラキスチオグリコレートやトリスメ
ルカプトイソシアヌレート等があげられる。
本発明の高屈折率樹脂は、前記一般式[I]、[1]あ
るいは[I[I]で示される化合物から選ばれる少なく
とも1種を必須成分とする単量体をラジカル重合によっ
て重合することによって製造される。ラジカル重合の方
法は公知の方法であれば特に限定されることはなく、好
ましくは、注型重合法によって成形できる。この場合の
成形方法の好ましい一例としては、一般式[I]、[I
I]あるいは[m]で示される化合物から選ばれる少な
くとも1種の化合物あるいはその化合物に他の共重合成
分のうち少なくとも1成分を混合して得られた単量体を
重合開始剤とともに、ガラスあるいは金属製のモールド
と粘着テープあるいは塩ビ製のガスケットよりなる型に
注入し、30〜150℃で0.1〜40時間加熱、ある
いは、紫外線を照射することによって成形できる。
るいは[I[I]で示される化合物から選ばれる少なく
とも1種を必須成分とする単量体をラジカル重合によっ
て重合することによって製造される。ラジカル重合の方
法は公知の方法であれば特に限定されることはなく、好
ましくは、注型重合法によって成形できる。この場合の
成形方法の好ましい一例としては、一般式[I]、[I
I]あるいは[m]で示される化合物から選ばれる少な
くとも1種の化合物あるいはその化合物に他の共重合成
分のうち少なくとも1成分を混合して得られた単量体を
重合開始剤とともに、ガラスあるいは金属製のモールド
と粘着テープあるいは塩ビ製のガスケットよりなる型に
注入し、30〜150℃で0.1〜40時間加熱、ある
いは、紫外線を照射することによって成形できる。
本発明の光学樹脂は、高屈折率であり、耐光性、透明性
に優れ、また、硫黄含有樹脂であるにも関わらず、加工
時に臭気はしながった。
に優れ、また、硫黄含有樹脂であるにも関わらず、加工
時に臭気はしながった。
本発明の光学用樹脂には、紫外線吸収剤や酸化防止剤を
加えてもよい。
加えてもよい。
[実施例]
以下実施例により、本発明を具体的に説明する。
実施例1〜4及び比較例に示した樹脂の性質を表1に示
した。
した。
屈折率及びアツベ数は、プルフリッヒ屈折計を用いて測
定した。透過率及び耐光性はカラーコンピューターとフ
ェードメーターを用いて測定した。
定した。透過率及び耐光性はカラーコンピューターとフ
ェードメーターを用いて測定した。
耐光性については、フェードメーター100時間後のΔ
Y■値が、0〜5を○、5〜1oを△、10以上を×と
した。
Y■値が、0〜5を○、5〜1oを△、10以上を×と
した。
耐衝撃性はFDA規格に基づき、厚さ2mmの硬化物の
平板に高さ127cmより直径15.9mm重さ16.
2gの鋼球を落下し、破損しなかったものを○それ以外
のものを×とした。
平板に高さ127cmより直径15.9mm重さ16.
2gの鋼球を落下し、破損しなかったものを○それ以外
のものを×とした。
耐熱性については、100°Cでのシェア硬度が0〜5
0を×、51〜65を△、65〜100を○とした。
0を×、51〜65を△、65〜100を○とした。
研磨性は眼鏡レンズ用研磨機を用いて研磨し、研磨面が
良好なものを○、それ以外のものを×とした。
良好なものを○、それ以外のものを×とした。
臭気は研磨時に少しでもメルカプタン臭のするものを×
、それ以外のものを○とした。
、それ以外のものを○とした。
実施例1
下記式(IV)に示した化合物70重量部、エチレンフ
グリコールジメタクリレート29重量部およびベンゾイ
ルパーオキサイドを1重量部加えた溶液をガラスモール
ドと粘着テープよりなるモールド型に注入し、50℃か
ら120℃まで15時間かけて昇温し重合した。
グリコールジメタクリレート29重量部およびベンゾイ
ルパーオキサイドを1重量部加えた溶液をガラスモール
ドと粘着テープよりなるモールド型に注入し、50℃か
ら120℃まで15時間かけて昇温し重合した。
SCH3
実施例2
化合物(IV)を化合物(V)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをジビニルベンゼンに変えた以外
は、実施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
ールジメタクリレートをジビニルベンゼンに変えた以外
は、実施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
実施例3
化合物(IV)を化合物(VI)に変え、エチレングリ
コールジメタクリレートをスチレンに変えた以外は、実
施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
コールジメタクリレートをスチレンに変えた以外は、実
施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
実施例4
(VI)
化合物(IV)を化合物(■)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをペンタエリスリトールテトラキ
スチオグリコレートに変えた以外は、実施例1と同様に
して高屈折率樹脂を製造した。
ールジメタクリレートをペンタエリスリトールテトラキ
スチオグリコレートに変えた以外は、実施例1と同様に
して高屈折率樹脂を製造した。
5CHx CH3
実施例5
化合物(IV)を化合物(■)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをトリスメルカプトイソシアヌレ
ートに変えた以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹
脂を製造した。
ールジメタクリレートをトリスメルカプトイソシアヌレ
ートに変えた以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹
脂を製造した。
実施例6
化合物(TV)を化合物(IX)に変え、エチレングリ
コールジメタクリレートをジアリルフタレートに変えた
以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した
。
コールジメタクリレートをジアリルフタレートに変えた
以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹脂を製造した
。
CH3
CH2=CH−CH2−0−C−0−CI(2−CH2
=CHp3CH+ (
IX)実施例7 化合物(IV)を化合物(X)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをヘキサンジチオールジアクリレ
ートに変えた以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹
脂を製造した。
=CHp3CH+ (
IX)実施例7 化合物(IV)を化合物(X)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをヘキサンジチオールジアクリレ
ートに変えた以外は、実施例1と同様にして高屈折率樹
脂を製造した。
実施例9
化合物(IV)を化合物(■)に変え、エチレングリコ
ールジメタクリレートをジエチレンングリコールビスア
リルカーボネートに変え、重合温度を40℃で5時間、
60℃で8時間、90℃で3時間とした以外は、実施例
1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
ールジメタクリレートをジエチレンングリコールビスア
リルカーボネートに変え、重合温度を40℃で5時間、
60℃で8時間、90℃で3時間とした以外は、実施例
1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
実施例8
化合物(IV)を化合物(XI)に変え、エチレングリ
コールジメタクリレートをペンンタエリスリトールテト
ラキスチオールメタクリレートに変えた以外は、実施例
1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
コールジメタクリレートをペンンタエリスリトールテト
ラキスチオールメタクリレートに変えた以外は、実施例
1と同様にして高屈折率樹脂を製造した。
5CH2CH2S)l
比較例1
化合物(IV)を化合物(mに変えた以外は、実施例1
と同様にして樹脂を製造した。
と同様にして樹脂を製造した。
比較例2
化合物(XI)を化合物(XIV)に変えた以外は、実
施例8と同様にして樹脂を製造した。
施例8と同様にして樹脂を製造した。
O5CH2C)12stl O(XI)(Xlll)
表1
[発明の効果]
本発明により製造した光学用樹脂は、屈折率が高く、か
つ耐光性に優れ、さらに耐熱性、透明性にも優れ、また
、硫黄含有樹脂であるにもかかわらず、加工時に硫黄臭
がせず、光学機器用レンズ、眼鏡用レンズやプリズム、
あるいは、装飾用・建材用成型物として非常に有効であ
る。
つ耐光性に優れ、さらに耐熱性、透明性にも優れ、また
、硫黄含有樹脂であるにもかかわらず、加工時に硫黄臭
がせず、光学機器用レンズ、眼鏡用レンズやプリズム、
あるいは、装飾用・建材用成型物として非常に有効であ
る。
Claims (1)
- (1)下記一般式[ I ]、[II]または[III]で示さ
れる化合物から選ばれる少なくとも1種を重合性単量体
成分として用いることを特徴とする高屈折率樹脂の製造
方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] (式中、A_1、A_2は、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ から選ばれる。n、mは、0〜4の整数、pは0または
1、qは0〜5の整数、rは0〜5の整数、tは0〜5
の整数を示す。X、Y、Zは、OまたはSを示す。R_
1〜R_6は、炭素数1〜10のアルキル基または水素
であり、かつ、R_1〜R_6のうちの少なくとも1つ
は、−S−をα個と、−CH_2−、▲数式、化学式、
表等があります▼、および▲数式、化学式、表等があり
ます▼ から選ばれる少なくとも1つを合計でβ個と、−Hとか
らなる置換基であり(ただし、−S−S−を含まない)
、αは1〜5の整数、βは1〜10の整数を示し、α≦
βを満たす。R_7は、水素またはメチル基である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6906089A JPH02247205A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高屈折率樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6906089A JPH02247205A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高屈折率樹脂の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247205A true JPH02247205A (ja) | 1990-10-03 |
Family
ID=13391647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6906089A Pending JPH02247205A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高屈折率樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02247205A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005104842A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | 新規なチオウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート |
| WO2008023603A1 (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Showa Denko K.K. | Thiourethane compound and photosensitive resin composition |
| WO2014030711A1 (ja) | 2012-08-24 | 2014-02-27 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性基板、及び、体積型ホログラム記録体 |
| WO2023113043A1 (ja) | 2021-12-17 | 2023-06-22 | 大日本印刷株式会社 | 体積ホログラム積層体、体積ホログラム積層体の製造方法、体積ホログラム転写箔、体積ホログラムラベル、埋込用体積ホログラムシート、カードおよびホログラム貼付物品 |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP6906089A patent/JPH02247205A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005104842A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | 新規なチオウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート |
| WO2008023603A1 (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Showa Denko K.K. | Thiourethane compound and photosensitive resin composition |
| US8283095B2 (en) | 2006-08-23 | 2012-10-09 | Showa Denko K.K. | Thiourethane compound and photosensitive resin composition |
| WO2014030711A1 (ja) | 2012-08-24 | 2014-02-27 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性基板、及び、体積型ホログラム記録体 |
| US9709952B2 (en) | 2012-08-24 | 2017-07-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording, photosensitive substrate for volume hologram recording, and volume hologram recorded medium |
| WO2023113043A1 (ja) | 2021-12-17 | 2023-06-22 | 大日本印刷株式会社 | 体積ホログラム積層体、体積ホログラム積層体の製造方法、体積ホログラム転写箔、体積ホログラムラベル、埋込用体積ホログラムシート、カードおよびホログラム貼付物品 |
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