JPH0224785A - 付影処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は付影処理方法およびその装置に関し、さらに
詳細にいえば、画面全体としての立体表現を達成するた
めの、デプスバッファアルゴリズムを使用した付影処理
方法およびその装置に関する。

〈従来の技術、および発明が解決しようとする課題〉 従来からコンピュータ・グラフィックスにおいては表示
の高度化の要請が強くなっており、具体的には、描画対
象図形単体としての立体表現のみならず描画対象図形全
体としての立体表現をも行なうことができる何形処理機
能を具備させることが研究され始めている。

この何形処理機能として、 ■　投影面上の各画素に対応する点と支点を結ぶ視線を
想定し、視線と交わる一番手前の図形との交点を得、交
点と光源を結ぶ線分を得て、得られた線分と交差する図
形を検出し、検出された図形上の画素を影する方法、 ■　何れかの図形の辺を他の図形上に投影し、さらにそ
れを投影面上に投影して走査線上の影の領域を得る方法
、および ■　光源からみた状態で各図形について隠面処理と同じ
アルゴリズムを適用することにより影領域を得、次いで
視点からみた状態で各図形について隠面処理を施すとと
もに、上記影領域を投影面上にマツピングする方法 が提案されている。

これらのうち、■の付影処理方法は簡単なアルゴリズム
で何形処理が施された表示を行なわせることができるの
であるが、画素毎に処理を行なわなければならないので
あるから処理所要時間が長くなってしまうという問題が
ある。

また、■の付影処理方法は画素毎の処理を行なうのでは
なく、走査線毎に処理を行なうのであるから■の付影処
理方法と比較して処理所要時間を短縮することができる
のであるが、所要時間を十分に短縮することができない
という問題がある。

そして、上記向れの付影処理方法においても、特に双３
次パラメトリック方程式で表現される自由曲面を対象と
する場合には計算時間が著しく長くなってしまい、この
結果、何形処理所要時間も著しく長くなってしまうとい
う問題がある。

さらに■の付影処理方法は隠面処理方法と同様のアルゴ
リズムにより影領域を得るのであるから所要時間を短く
することができるのであるが、マツピング処理を行なう
ことが必要であるため、付加データの量が増加するとと
もに、構成および処理が複雑化し、しかも全画素が何形
処理の対象になるため、何形処理所要時間を十分には短
縮することができないという問題がある。さらに、面と
面との相対関係を処理することが必要になるため処理可
能な対象図形に制限があるという問題もある。

これらの問題点を考慮して、光源座標系および視点座標
系の双方についてそれぞれデプスバッファアルゴリズム
を適用することにより何形処理を行なう方法（「Ｚ−バ
ッファ法による簡易造影法」清水和裁はか３名　情報処
理学会第３０回（昭和６０年前期）全国大会　参照）が
提供されている。

しかし、この方法は何形範囲を全く考慮していないため
、無駄な何形処理を施さなければならないとともに、何
形処理が必要な部分についても十分な精度を得ることが
できず、かつ、何形処理のために必要な座標変換、座標
値比較等が画素毎の処理を対象とすることになり、演算
量が著しく多く、しかも無駄な演算を行なうことになる
のであるから、未だ十分な何形処理所要時間の短縮効果
を達成することができないという問題がある。

〈発明の目的〉 この発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、
処理対象画素数を著しく減少させ、何形処理所要時間を
大巾に短縮することができる新規な付影処理方法および
その装置を提供することを目的としている。

く課題を解決するための手段〉 上記の目的を達成するための、この発明の付影処理方法
は、描画対象図形データから付影対象とする描画対象図
形データを抽出して光源方向を奥行き方向とする光源座
標系上の描画対象図形データに変換し、変換後の描画対
象図形が、光が当る面が全面か一部の面か全く存在しな
いかを判別し、視線方向を奥行き方向とするビュー座標
系上の描画対象図形を描画するに当って、判別結果に基
づいて光が当らない領域に対応させて影情報に基づく描
画処理を施す方法である。

但し、描画対象図形データが当初ワールド座標系上にお
いて定義されているとともに、マトリクス演算を施すこ
とにより光源座標系上の描画対象図形データおよびビュ
ー座標系上の描画対象図形データを得るようにしている
ことが好ましい。

また、全ての描画対象図形を隠面処理が施された状態で
描画し、各描画対象図形を構成する全ての画素が書込ま
れたか、一部の画素のみが書込まれたか、画素が全く書
込まれなかったかに基づいて光が当る面が全面か一部の
面か全く存在しないかを判別するようにしていることが
好ましい。

上記の目的を達成するための、この発明の付影処理装置
は、セグメントメモリと、抽出手段と、ビュー座標変換
手段と、光源座標変換手段と、視線用デプスバッファと
、光源用デプスバッファと、選択手段と、フレームメモ
リとを有している。

上記セグメントメモリは、ワールド座標系上で定義され
た複数個の描画対象図形データを格納するとともに、各
描画対象図形に対応させて、光が当る面が全面か一部の
面か全く存在しないかを示す識別データを格納するもの
であり、上記抽出手段は、描画図形データのうち付影対
象となる図形データを抽出するものであり、上記ビュー
座標変換手段は、描画対象図形データに基づいてビュー
座標系への座標変換を施すものであり、上記光源座標変
換手段は、抽出図形データに基づいて光源座標系への座
標変換を施すものであり、上記視線用デプスバッファは
、ビュー座標変換が施されたデータに基づいて得られる
画素データを格納するものであり、上記光源用デプスバ
ッファは、光源座標変換が施されたデータに基づいて得
られる奥行きデータを格納するとともに、描画対象図形
に対応する識別データを生成してセグメントメモリに供
給するものであり、上記選択手段は、セグメントメモリ
から読出された識別データおよび奥行きデータに基づい
て書込むべき画素データを選択するものであり、上記フ
レームメモリは、ビュー座標系上の多数の画素に対応し
て、選択された輝度データが書込まれるものである。

但し、上記選択手段としては、識別データ、光源用デプ
スバッファから読出された奥行きデータおよび光源座標
変換が施されたデータに基づいて得られる奥行きデータ
に基づいて書込むべき情報データを選択するものであっ
てもよい。

また、上記光源用デプスバッファが、描画対象図形毎に
奥行き方向についてのプライオリティデータをも生成し
てセグメントバッファに供給するものであり、選択手段
が識別データ、プライオリティデータに基づいて書込む
べき情報データを選択するものであることが好ましい。

く作用〉 以上の付影処理方法であれば、描画対象図形データの中
から付影対象とする描画対象図形データを抽出して光源
方向を奥行き方向とする光源座標系上の描画対象図形デ
ータに変換し、変換後の描画対象図形についてのみ、光
が当る面が全面か一部の面か全く存在しないかを判別す
る。そして、描画対象図形データをビュー座標系上の図
形データに変換して隠面処理が施された状態で可視的に
表示する場合に、上記判別結果に基づいて光が当らない
領域に対応させて影情報に基づく描画処理を施すことに
より何形処理が施された３次元描画を行なうことができ
る。

そして、描画対象図形データが当初ワールド座標系上に
おいて定義されているとともに、マトリクス演算を施す
ことにより光源座標系上の描画対象図形データおよびビ
ュー座標系上の描画対象図形データを得る場合には、描
画対象図形データをワールド座標系上において定義する
だけでよく、前者のマトリクス演算を施すことにより光
が当る面についての判別を行なうことができ、後者のマ
トリクス演算を施すことにより隠面処理描画を行なうこ
とができる。

また、該当する全ての描画対象図形を隠面処理が施され
た状態で描画し、各描画対象図形を構成する全ての画素
が書込まれたか、一部の画素のみが書込まれたか、画素
が全く書込まれなかったかに基づいて光が当る面が全面
か一部の面か全く存在しないかを判別する場合には、描
画対象図形を構成する全ての画素データを隠面処理を施
した状態で書込むだけでよく、実際に書込まれた画素デ
ータに基づいて正確に判別を行なうことができる。

さらに詳細に説明すると、ワールド座標系上において定
義された全ての図形について何形処理を行なえばビュー
座標系上におけるビューボリューム内に存在する全ての
図形に対して必要領域にのみ何形処理が施されることに
より全体としての立体的表示を行なうことができるので
あるが、何形処理を行なうべき領域が著しく大きくなっ
てしまうため、必要な演算量が著しく多くなってしまう
。

しかし、この発明においては、ワールド座標系上におい
て定義された図形の中から付影対象とする描画対象図形
データを抽出して光源方向を奥行き方向とする光源座標
系上の描画対象図形データに変換するようにしているの
で、必要最少限の図形についてのみ演算を行なえばよく
、演算量を大巾に減少させることができるとともに、光
源座標系における十分な精度を達成することができる。

そして、必要最少限の図形についての判別結果に基いて
ビュー座標系上において定義され、かつビューボリュー
ム内に存在する図形を３次元的に表示するだけで何形処
理が施された状態の図形を全体として３次元的に表示す
ることができる。

以上の構成の付影処理装置であれば、ワールド座標系上
で定義された複数個の描画対象図形データがセグメント
メモリに格納されているので、抽出手段により付影対象
となる図形データのみを抽出し、光源座標変換手段によ
り光源座標系上の図形データを得、得られた図形データ
を光源用デプスバッファに格納することができる。した
がって、光源用デプスバッファには、最も光源側に位置
する画素の奥行きデータのみが保持される。そして、光
源用デプスバッファに画素データを格納する間に何形処
理対象となる面が、全面に光が当る状態か面の一部のみ
に光が当る状態か光が全く当らない状態かを示す識別デ
ータを生成し、セグメントメモリの該当箇所に格納する
ことができる。

その後は、セグメントメモリから図形データを読出して
ビュー座標変換手段によりビュー座標系上の図形データ
を得、得られた図形データを視線用デプスバッファに格
納することにより、最も視線側に位置する画素の奥行き
データのみが保持される。

したがって、セグメントメモリから読出される識別デー
タに対応させて、全領域を影情報に基づいて描画すべき
状態と、色情報に基づいて描画すべき状態と、部分的に
のみ影情報に基づいて描画すべき状態とが選択手段によ
り選択され、選択された情報に基づいてビューボリュー
ムに属する図形がフレームメモリに書込まれるので、最
終的にフレームメモリの内容に基づく可視的表示を行な
うことができる。

そして、選択手段が、識別データ、光源用デプスバッフ
ァから読出された奥行きデータおよび光源座標変換が施
されたデータに基づ−いて得られる奥行きデータに基づ
いて書込むべき情報データを選択するものである場合に
は、一部の領域にのみ影情報に基づく何形処理を施す必
要がある状態において、補間演算を施すことにより得ら
れた各画素毎に奥行きデータの比較を行なって影領域で
あるか否かを判別することができる。

また、光源用デプスバッファが描画対象図形毎に奥行き
方向についてのプライオリティデータをも生成してセグ
メントバッファに供給するものであり、選択手段が識別
データ、プライオリティデータに基づいて書込むべき情
報データを選択するものである場合には、プライオリテ
ィデータを比較するだけで影領域であるか否かを判別す
ることができるので、各画素毎に奥行きデータの比較を
行なう必要がなくなり、何形処理のために必要な演算量
を著しく減少させることができ、所要時間をも大巾に短
縮することができる。

〈実施例〉 第１図はこの発明の付影処理方法を説明するフローチャ
ートであり、ステップ■において、ワールド座標系上で
定義された図形データのうち、付影対象となる図形を含
む何形ボリュームを得、ステップ■において、変換後の
座標データが光源用デプスバッファ内におさまるように
光源変換マトリクスを定める。そして、ステップ■にお
いて、付影対象となる図形を構成するポリゴンの座標デ
ータに対して光源座標変換を施し、変換後の座標データ
を得、この座標データに基づいてステップ■において光
が当っている面が全面が（全可視ポリゴンか）一部か（
部分可視ポリゴンが）全く存在しないか（全不可視ポリ
ゴンが）を判別して識別データをセグメントメモリに供
給すると共に画素毎の奥行きデータを光源用デプスバッ
ファに書込む。そして、ステップ■においてビューボリ
ューム内の各ポリゴンに対してビュー座標変換を施す。

但し、この座標変換を行なう場合には、法線ベクタ、光
源ベクタのみならず、上記変換後の座標データについて
も変換処理を施す。その後は、ステップ■において識別
データの種類を判別し、ステップ■■■の何れかにおい
て判別結果に対応する描画を行なうことにより何形処理
が施された描画データを得ることができる。

上記ステップ■の処理は識別データが全可視データであ
る場合に対応しており、ポリゴン全体をシェーディング
が施された状態で描画する処理であり、ステップ■の処
理は識別データが全不可視データである場合に対応して
おり、例えば周囲光等の影情報に基づいて描画する処理
であり、ステップ■の処理は、ビュー座標系上の座標デ
ータのみならず上記変換後の座標データをも補間し、補
間した奥行き値が光源用デプスバッファに格納されてい
る奥行きデータより大きいか、等しいかに対応して影情
報に基づ（描画、シェーディングが施された状態での描
画を選択する処理である。

したがって、上記の付影処理方法を採用した場合には、
フレームメモリに対する描画を行なうに当って、全可視
ポリゴンおよび全不可視ポリゴンに対しては各画素毎の
何形処理が必要か否かを判別する必要が全くなく、一部
分可視ポリゴンについてのみ画素毎に何形処理が必要か
否かを判別すればよいとともに、何形範囲を限定するこ
とができるのであるから、全体として演算量を著しく減
少させることができ、高速に何形表示を行なわせること
ができる。

第２図はこの発明の付影処理装置の一実施例を概略的に
示すブロック図であり、図示しない上位プロセッサから
供給されるワールド座標系上で定義された図形データお
よび後述する識別データを格納するセグメントメモリ（
１）と、図示しないクリップ部を通してセグメントメモ
リ（１）から読出される図形データに対して選択的に、
光源座標変換、視線座標変換を施す座標変換部（２）と
、光源座標変換が施されたデータを入力として補間演算
を施し、光源座標系上の各画素データを得る光源側補間
演算部（３）と、視線座環変換が施されたデータを入力
として補間ａ’ｓを施し、視線座標系上の各画素データ
を得る視線側補間演算部（４）と、座標変換部（２）か
ら出力される輝度データを入力として補間演算を施す輝
度補間演算部（５）と、光源側補間演算部（３）により
得られる画素データをデプスバッファアルゴリズムに基
づいて順次格納する光源用デプスバッファ（６）と、視
線側補間演算部（４）により得られる画素データをデプ
スバッファアルゴリズムに基づいて順次格納する視線用
デプスバッファ（７）と、視線用デプスバッファ（７）
から出力されるデプスフラグにより輝度データの書込み
が制御されるフレームメモリ（８）と、光源側補間演算
部（３）から出力される奥行きデータ、光源用デプスバ
ッファ（６）から読出される奥行きデータ、視線側補間
演算部（４）から出力される奥行きデータ、視線用デプ
スバッファ（７）から読出される奥行きデータおよびセ
グメントメモリ（１）から読出される識別データに基づ
いてフレームメモリ（８）に書込まれるべき輝度データ
を選択するコンパレータ（９）とから構成されている。

また、上記光源用デプスバッファ（６）は順次供給され
る光源座標系上の画素データのうち、最も光源側に位置
する画素の奥行きデータのみを保持するものであるとと
もに、何れかの図形を構成する画素データが全て光源用
デプスバッファ（６）に書込まれたか画素データが全く
書込まれなかったかに対応させて全可視データ、全不可
視データ、部分可視データを生成し、このデータを識別
データとしてセグメントメモリ（１）に供給するもので
ある。第３図は上記識別データを生成する装置の構成を
概略的に示すブロック図であり、何形ボリュームクリッ
プ処理が施された範囲内においてポリゴンデータを順次
生成し、判定部００）において、予め光源座標系上にお
いて隠面処理が施された光源用デプスバッファ（６）の
奥行きデータと比較することにより全ての画素データが
格納されている奥行きデータと一致するか否かを判別し
、全て一致すれば全可視データを、全く一致しなければ
全不可視データを、一部のみ一致すれば部分可視データ
を生成してセグメントメモリ（１）に供給するようにし
ている。

上記の構成の付影処理装置の動作は次のとおりである。

セグメントメモリ（１）には、図示しない上位プロセッ
サからワールド座標系上で定義された複数の図形データ
が順次供給され、格納されている。そして、各図形に対
応させて図示しない識別データ格納領域が割当てられて
いる。

したがって、上記セグメントメモリ（１）がら読出され
た図形データに対して光源座標変換を施せば、第４図中
矢印光線を奥行き方向とする光源座標系上において各図
形が定義され、ざらに何形ボリュームクリップ処理を施
すことにより同図Ｂウニ点鎖線で示す領域に含まれる図
形のみがデプスバッファ処理を受け、逆に、上記セグメ
ントメモリ（１）から読出された図形データに対してビ
ュー座標変換を施せば、第４図中矢印Ａを奥行き方向と
するビュー座標系上において各図形が定義され、さらに
ビューボリュームクリップ処理を施すことにより同図Ａ
中破線で示す領域に含まれる図形のみがデプスバッファ
処理を受ける。但し、上記ビュー座標変換が施されるデ
ータには、法線ベクタ、光源ベクタ等の頂点情報のみな
らず、光源座標変換により得られた画素データも含まれ
ている。そして、ポリゴンを構成する画素の奥行きデー
タを光源用デプスバッファ（６）に書込むとともに、識
別データを生成してセグメントメモリ（１）の該当領域
に格納する。

したがって、ビュー座標変換が施されたデータに対して
、コンパレータ（９）において、セグメントメモリ（１
）から読出された識別データに対応させて必要な処理が
選択され、該当する情報に基づくフレームメモ１月８）
への書込みが行なわれる。さらに詳細に説明すると、識
別データが全可視データである場合には、全く何形処理
を施す必要がないので輝度補間演算部（５）によりシェ
ーディング処理を施して得られた輝度データＩＯをコン
パレータ（９）により選択してフレームメモリ（８）に
書込むだけでよい。また、識別データが全不可視データ
である場合には、全面に全く光が当らないのであるから
、例えば周囲光に対応する輝度データを影情報Ｉｓとし
てコンパレータ（９）により選択してフレームメモリ（
８）に書込むだけでよい。さらに、識別データが部分可
視データである場合には、ビュー座標系上におけるデー
タを補間するとともに、光源座標系上における座標デー
タを補間する。そして、光源座標系上において補間され
た奥行きデータＺＬと光源用デプスバッファ（６）に格
納されている奥行きデータＺＢとを比較し、ＺＬ−ＺＢ
の場合にはシェーディング処理を施して得られた輝度デ
ータ■０を選択してフレームメモリ（８）に書込めばよ
く、逆に、ＺＬ＜ＺＢの場合には影情報１ｓを選択して
フレームメモリ（８）に書込めばよい。

第５図は以上のようにして何形処理が施されたビューボ
リューム内の３次元的表示を示しており、ビューボリュ
ームクリップ処理によりクリップされる図形に基づく影
が表示されることにより、優れた立体的表現を達成して
いる。

以上の説明から明らかなように、この実施例においては
、全画素について何形処理が必要であるか否かを判別す
る必要がなくなり、一部のポリゴンについてのみ各画素
が何形処理を必要とするか否かを判別するだけでよいか
ら、何形処理所要時間を著しく短縮することができ、表
示の高速性を確保することができる。

〈実施例２〉 第６図は他の実施例を示すブロック図であり、上記実施
例と異なる点は、光源用デプスバッファ（６）に、ポリ
ゴン毎の奥行き方向のプライオリティデータを生成する
装置（６Ｐ）を付加した点、生成されたプライオリティ
データをもセグメントメモリ（１）に格納する点および
セグメントメモリ（１）、装置（ＢＰ）からそれぞれ読
出されるプライオリティデータにより制御されるコンパ
レータ（９ａ）で上記コンパレータ（９）を置換した点
のみである。

さらに詳細に説明すると、光源用デプスバッファ（６）
に既に書込まれている奥行きデータと供給された奥行き
データとの大小関係を比較して、ポリゴンを構成する全
ての画素データが最も光源側に位置するか否かを判別し
、光源側に位置すると判別された場合にのみプライオリ
ティデータを生成する。その後、プライオリティデータ
が生成されていないポリゴンについてのみ同様の処理を
行ない、順次プライオリティデータを生成する。以下、
同様にして全てのポリゴンについてプライオリティデー
タを生成することができる。

したがって、この実施例の場合には、フレームメモリ（
８）に対するデータ書込み時において、部分可視ポリゴ
ンの描画に当って、ｑｌにブライオリテ、イ番号を比較
するだけでシェーディングデータ１０による描画か影情
報Ｉｓによる描画かを判別することができ、何形処理を
一層簡素化することができる。

以上の説明から明らかなように、何れの実施例において
も、必要な演算量を著しく減少させることができるので
何形処理が施された状態での描画速度を著しく向上させ
ることができるととももに、複数の自由曲面に対しても
簡単に対処することができる。さらに何形ボリュームを
設定することができるので、何形処理対象を減少させる
ことができ、この点からも著しく描画速度を向上させる
ことができる。

尚、この発明は上記の実施例に限定されるものではなく
、例えば、座標変換部を光源座標変換用およびビュー座
標変換用とに区分しておくことが可能であるほか、コン
パレータに代えてセレクタ等を使用することとが可能で
あり、その他、この発明の要旨を変更しない範囲内にお
いて種々の設計変更を施すことが可能である。

〈発明の効果〉 以上のように第１の発明は、画素毎に何形処理を行なう
べきか否かを判別する必要がある図形を減少させること
ができるので、演算量を大巾に減少させることかでき、
しかも、付影対象とする描画対象図形データを抽出して
光源方向を奥行き方向とする光源座標系上の描画対象図
形データに変換するようにしているので、必要最少限の
図形についてのみ演算を行なえばよく、演算量を一層減
少させることができるので、何形処理が施された状態で
の描画速度を著しく向上させることができるという特有
の効果を奏する。

第２の発明は、描画対象図形データをワールド座標系上
において定義するだけでよく、前者のマトリクス演算を
施すことにより光が当る面についての判別を行なうこと
ができ、後者のマトリクス演算を施すことにより隠面処
理描画を行なうことができるので、何形処理を施すべき
図形データの定義を簡単にすることができるという特有
の効果を奏する。

第３の発明は、描画対象図形を構成する全ての画素デー
タを隠面処理を施した状態で書込むだけでよく、実際に
書込まれた画素データに基づいて簡単に、かつ迅速に正
確な状態判別を行なうことができるという特有の効果を
奏する。

第４の発明は、セグメントメモリから読出される識別デ
ータに対応させて、全領域を影情報に基づいて描画すべ
き状態と、色情報に基づいて描画すべき状態と、部分的
にのみ影情報に基づいて描画すべき状態とが選択され、
選択された情報に基づいてビューボリュームに属する図
形がフレームメモリに書込まれるのであるから、部分的
にのみ影情報に基づいて描画すべき状態が選択された場
合にのみ何形処理を施すべきか否かを判別すればよく、
他の場合には全面にわたって同一の処理を施せばよいの
で、何形処理が必要か否かの判別を減少させることがで
き、さらに何形ボリュームをも設定することができるの
で処理が必要な範囲を一層制限することができ、描画速
度を著しく高速化することができるという特有の効果を
奏する。

第５の発明は、一部の領域にのみ影情報に基づく何形処
理を施す必要がある状態において、補間演算を施すこと
により得られた各画素毎に奥行きデータの比較を行なっ
て影領域であるか否かを判別することができるという特
有の効果を奏する。

第６の発明は、プライオリティデータを比較するだけで
影領域であるか否かを判別することができるので、各画
素毎に奥行きデータの比較を行なう必要がなくなり、何
形処理のために必要な演算量を著しく減少させることが
でき、所要時間をも大巾に短縮することができるという
特有の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の付影処理方法の一例を示すフローチ
ャート、 第２図はこの発明の付影処理装置の一実施例を概略的に
示すブロック図、 第３図は識別データを生成する装置の構成を概略的に示
すブロック図、 第４図はビュー座標変換および光源座標変換を説明する
概略図、 第５図は何形処理が施された状態における描画例を示す
概略図、 第６図は他の実施例を概略的に示すブロック図。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、描画対象図形データから付影対象とする描画対象図
   形データを抽出して光源方向を奥行き方向とする光源座
   標系上の描画対象図形データに変換し、変換後の描画対
   象図形が、光が当る面が全面か一部の面か全く存在しな
   いかを判別し、視線方向を奥行き方向とするビュー座標
   系上の描画対象図形を描画するに当って、判別結果に基
   づいて光が当らない領域に対応させて影情報Ｉｓに基づ
   く描画処理を施すことを特徴とする付影処理方法。 ２、描画対象図形データが当初ワールド座標系上におい
   て定義されているとともに、 マトリクス演算を施すことにより光源座標系上の描画対
   象図形データおよびビュー座標系上の描画対象図形デー
   タを得る上記特許請求の範囲第１項記載の付影処理方法
   。 ３、全ての描画対象図形を隠面処理が施された状態で描
   画し、各描画対象図形を構成する全ての画素が書込まれ
   たか、一部の画素のみが書込まれたか、画素が全く書込
   まれなかったかに基づいて光が当る面が全面か一部の面
   か全く存在しないかを判別する上記特許請求の範囲第１
   項記載の付影処理方法。 ４、ワールド座標系上で定義された複数個の描画対象図
   形データを格納するとともに、各描画対象図形に対応さ
   せて、光が当る面が全面か一部の面か全く存在しないか
   を示す識別データを格納するセグメントメモリ（１）と
   、描画図形データのうち付影対象となる図形データを抽
   出する抽出手段（２）と、描画対象図形データに基づい
   てビュー座標系への座標変換を施すビュー座標変換手段
   （２）と、抽出図形データに基づいて光源座標系への座
   標変換を施す光源座標変換手段（２）と、ビュー座標変
   換が施されたデータに基づいて得られる画素データを格
   納する視線用デプスバッファ（７）と、光源座標変換が
   施されたデータに基づいて得られる奥行きデータを格納
   するとともに、描画対象図形に対応する識別データを生
   成してセグメントメモリ（１）に供給する光源用デプス
   バッファ（６）と、セグメントメモリ（１）から読出さ
   れた識別データおよび奥行きデータに基づいて書込むべ
   き情報データＩ０、Ｉｓを選択する選択手段（９）と、
   ビュー座標系上の多数の画素に対応して、選択された情
   報データが書込まれるフレームメモリ（８）とを有して
   いることを特徴とする付影処理装置。 ５、選択手段（９）が、識別データ、光源用デプスバッ
   ファ（６）から読出された奥行きデータおよび光源座標
   変換が施されたデータに基づいて得られる奥行きデータ
   に基づいて書込むべき情報データを選択するものである
   上記特許請求の範囲第４項記載の付影処理装置。 ６、光源用デプスバッファ（６）が描画対象図形毎に奥
   行き方向についてのプライオリティデータをも生成して
   セグメントメモリ（１）に供給するものであり、選択手
   段（９）が識別データ、プライオリティデータに基づい
   て書込むべき情報データを選択するものである上記特許
   請求の範囲第４項記載の付影処理装置。