JPH02247969A - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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JPH02247969A
JPH02247969A JP1066541A JP6654189A JPH02247969A JP H02247969 A JPH02247969 A JP H02247969A JP 1066541 A JP1066541 A JP 1066541A JP 6654189 A JP6654189 A JP 6654189A JP H02247969 A JPH02247969 A JP H02247969A
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JP
Japan
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electrode
multipole
electrodes
aluminum
deflection
Prior art date
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Pending
Application number
JP1066541A
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English (en)
Inventor
Masaki Saito
正樹 斉藤
Toshihisa Kunibe
利寿 国部
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Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、多重極偏向電極部で偏向されたイオンビー
ムを基板上に走査させ、その基板にイオンを注入するイ
オン注入装置に関するものである。
(従来の技術) 従来のイオン注入装置は、第8図に示すように上下に平
板電極1a、1bを配置した第1の平行平板型電極偏向
部lの後方に、左右に平板電極2a、2bを配置した第
2の平行平板型電極偏向部2を直列に配設し、そして、
第2の平行平板型電極偏向部2の後方に基板3を配置し
ている。
したがって、イオンビーム4は第1の平行平板型電極偏
向部1でY方向(垂直方向)に偏向された後、第2の平
行平板型電極偏向部2で更にX方向(水平方向)に偏向
されてから、基板3上を走査しながら、基板3に注入さ
れていた。
(発明が解決しようとする課題) 従来のイオン注入装置は、上記□のように第1及び第2
の平行平板型電極偏向部1.2でイオンビーム4を偏向
してから、基板3に注入しているが、第1及び第2の平
行平板型電極偏向部1.2にそれぞれ印加する電圧を変
化させ、第1及び第2の平行平板型電極偏向部1,2で
偏向されるイオンビーム4の偏向角をそれぞれ変化させ
た場合には、イオンビーム4の基板3への入射角が変化
していた。イオンビーム4の基板3への入射角の変化は
、超LSI等の非常に高い集積度を要求される場合には
適していない。
そこで、イオンビームの基板への入射角を変化させずに
一定にするため、第9図に示されるように、8本の電極
を所定の間隔で配置した第1の8両極偏向電極部5の後
方に、同じく8本の電極を所定の間隔で配置した第2の
8型棒偏向電極部6を直列に配設し、そして、その第2
の8型棒偏向電極部6の後方に基板3を配置するイオン
注入装置が作成され、第1の8両極偏向電極部5でX方
向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向されたイ
オンビーム4を、第2の8型棒偏向電極部6で更にX方
向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向して、第
1の8両極偏向電極部5に入るイオンビーム4の走行方
向と、第2の8型棒偏向電極部6より出るイオンビーム
4の走行方向とが平行になるようにしていた。
しかしながら、第9図に示されるようなイオン注入装置
において、所定の間隔で配置された電極の位置決め精度
が悪い場合には、第1の8両極偏向電極部5に入るイオ
ンビーム4の走行方向と、第2の8型棒偏向電極部6よ
り出るイオンビーム4の走行方向とを平行にすること、
ができず、装置の性能を低下させる等の問題が発生する
この発明は、このような問題を解決して、電極の位置決
め精度を良くして、装置の性能を低下させないイオン注
入装置を提供することを目的とするものである。
(課題を達成するための手段) 上記目的を達成するために、この発明は、多重極偏向電
極部で偏向されたイオンビームを基板上に走査させ、そ
の基板にイオンを注入するイオン注入装置において、上
記多重極偏向電極部の筒状の電極支持物の内周面に、薄
膜よりなる複数の電極を所定の間隔でその軸線方向に形
成したことを特徴とするものである。
(作用) この発明は、多重極偏向電極部の筒状の電極支持物の内
周面に、薄膜よりなる複数の電極を所定の間隔でその軸
線方向に形成しているので、複数の電極の位置決め精度
が良くなり、装置の性能が低下しなくなる。
(実施例) 以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
第1図は、この発明の実施例の斜視図を示しており、同
図において、第1の多重極偏向電極部lOの後方には、
第2の多重極偏向電極部13が直列に配設されている。
第1の多重極偏向電極lOの円筒形の電極支持物11の
内周面には、等間隔で電極支持物11の軸線方向に帯状
に形成された薄膜よりなる8本のアルミニウム製電極1
2が形成されている。また、電極支持物11の端面11
aには薄膜よりなるアルミニウム製の8個の電極リード
線取付部12aが形成され、各電極リード線取付部12
aが対応する各アルミニウム製電極12と電気的に導通
するように接続されている。
更に、電極支持物11の8本のアルミニウム製電極12
間には第1の多重極偏向電極部lOにおける真空排気を
効率よく行うための真空引き口11bが多数設けられて
いる。なお、第2の多重極偏向電極部13も第1の多重
極偏向電極部lOと同様に、第2の多重極偏向電極13
の円筒形の電極支持物14の内周面には、等間隔で電極
支持物14の軸線方向に帯状に形成された薄膜よりなる
8本のアルミニウム製電極15が形成されている。
また、電極支持物14の端面14aには薄膜よりなるア
ルミニウム製の8!の電極リード線取付部15aが形成
さ0れ、各電極リード線取付部15aが対応する各アル
ミニウム製電極15と電気的に導通するように接続され
ている。更に、電極支持物14の8本のアルミニウム製
電極15間には第2の多電極偏向電極部13における真
空排気を効率よく行うための真空引き口14bが多数設
けられている。
したがって、イオンビーム16は第1の多重極偏向電極
部IOで偏向された後、第2の多重極偏向電極部13で
更に偏向されてから、基板17上を走査するが、第1及
び第2の多重極偏向電極部10.13において、電極支
持物11,14の内周面には、帯状に形成された薄膜よ
りなる8本のアルミニウム製電極12.15が位置決め
精度よく形成されているので、第1の多重極偏向電極部
10に入るイオンビーム16と、第2の多重極偏向電極
部13より出るイオンビーム16の走行方向とが平行に
なる。
次に、第1の多重極偏向電極部10を製造する方法につ
いて第2図を参照しながら説明する。
まず、等間隔で軸線方向に8本の帯状スリット20aを
もつ筒状マスク20を電極支持物11の内部に差し込み
、筒状マスク20を電極支持物llの内周面と接するよ
うにする。次に、内側に8個の切欠き部22aのもつリ
ング状の端面マスク22を、筒状マスク20の帯状スリ
ット20aと端面マスク22の切欠き部22aとが合う
ようにしながら、電極支持物11の端面11aに当接さ
せる。その次に、タングステンフィラメント23を電極
支持物11の内部に張架してから、そのタングステンフ
ィラメント23にU字形をしたアルミニュウムの蒸着材
料24を多数所定の間隔で架ける。そして、その次に、
10’Torrの真空中で、タングステンフィラメント
23に通電すると、アルミニュウムの蒸着材料24が蒸
発して、筒状マスク20の帯状スリット20aと同一の
形状をしたアルミニウム製電極12の薄膜が電極支持物
Itの内周面に形成されると共に、端面マスク22の切
欠き部22aと同一の形状をしたアルミニウム製の電極
リード線取付部12aが電極支持物11の端面11aに
形成されるようになる。
なお、第2の多重極偏向電極部13を製造する方法は、
第1の多重極偏向電極部lOを製造する方法作問−であ
るので、第2の多重極偏向電極部13を製造する方法に
ついては説明を省略する。
ところで、上記実施例は、8本のアルミニウム製電極1
2を1個の電極支持物11に形成するものであるが、そ
の代りに、第3図に示すように2個の電極支持片11c
を結合して形成した1つの電極支持物11にアルミニウ
ム製電極12を形成してもよく、また、第4図に示すよ
うに4個の電極支持片11cを結合して形成した1つの
電極支持物11にアルミニウム製電極12を形成しても
よく、更に、第5図に示すように8個の電極支持片11
cを結合して形成した1つの電極支持物llにアルミニ
ウム製電極12を形成してもよく、更にその上、第6図
に示すように等分割されていない数個の電極支持片11
cを結合して形成した1つの電極支持物11にアルミニ
ウム製電極12を形成してもよい。なお、第3図〜第6
図の場合、電極支持片11c同士は動かないように固定
具(図示せず)で結合して1つの電極支持物11を形成
しているので、アルミニウム製電極12の位置決め精度
はよくなる。次に、第7図は第1の多重極偏向電極部l
Oと第2の多重極偏向電極部13とが一体化した実施例
である。即ち、この実施例は、1つの電極支持物11に
、第1の多重極偏向電極部lOのアルミニウム製電極1
2と、第2の多重極偏向電極部13のアルミニウム製電
極15とを形成したものである。したがって、この実施
例によれば、1つの電極支持物11に、アルミニウムミ
ニラム製電極12.15を形成しているので、電極の位
置決め精度がよ(なる。この実施例のものを製造する場
合には、第1の多重極偏向電極部lOと第2の多重極偏
向電極部13とを独立に作成した後、これらを結合して
作成したものであってもよい。
なお、上記第1図〜第7図に示される各実施例は、8本
のアルミニウム製電極であるが、アルミニウム製電極の
本数はいかなる数であってもよく、また、電極の材料は
アルミニウム以外の金などの他の材料であってもよい。
また、上記第1図〜第7図に示される各実施例は電極支
持物が電気的絶縁体だけでできているが、電極支持物は
電気的導体の内面に電気的絶縁体の薄膜を形成したこの
であってもよい。その場合、アルミニウム製電極は電気
的絶縁体の薄膜の上に形成されることとなる。
(発明の効果) この発明は、多重極偏向電極部の筒状の電極支持物の内
周面に、薄膜よりなる複数の電極を所定の間隔でその軸
線方向に形成しているので、複数の電極の位置決め精度
が良くなり、装置の性能が低下しな(なる。そのため、
2つの多重極偏向電極部を直列に配設している場合には
、最初の多重極偏向電極部に入るイオンビームの走行方
向と、次の多重極偏向電極部より出るイオンビームの走
行方向とが平行になる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例を示す斜視図、第2図はこの
発明の実施例を製造する方法を示す斜視図、第3図は2
つの電極支持物片を結合して形成した電極支持物にアル
ミニウム製電極を形成したその他の実施例を示す説明図
、第4図は4つの電極支持物片を結合して形成した電極
支持物にアルミニウム製電極を形成したその他の実施例
を示す説明図、第5図は8つの電極支持物片を結合して
形成した電極支持物にアルミニウム製電極を形成したそ
の他の実施例を示す説明図、第6図は等分割されていな
い電極支持片を結合して形成した電極支持物にアルミニ
ウム製電極を形成したその他他の実施例を示す説明図、
第7図は第1の多重極偏向電極部と第2の多重極偏向電
極部とが一体化したその他の実施例を示す斜視図である
。第8図は従来のイオン注入装置の偏向電極部を示す斜
視図、第9図は第1の多重極偏向電極部と第2の多重極
偏向電極部とを直列に配列した従来のイオン注入装置の
偏向電極部を示す斜視図である。 図中、 lO・・・・・・ 11@・・・・・ 11c・・・・・ 12・・・・1 13・・1・・ !4・・・・・・ 15・・・・・・ 16・・番・・・ 17・中−01 ・第1の多重極偏向電極部 ・電極支持物 ・電極支持片 ・アルミニウム製電極 ・第2の多重極偏向電極部 ・電極支持物 ・アルミニウム製電極 ・イオンビーム ・基板 特許出願人 日本真空技術株式会社 第2図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、多重極偏向電極部で偏向されたイオンビームを基板
    上に走査させ、その基板にイオンを注入するイオン注入
    装置において、上記多重極偏向電極部の筒状の電極支持
    物の内周面に、薄膜よりなる複数の電極を所定の間隔で
    その軸線方向に形成したことを特徴とするイオン注入装
    置。 2、筒状の電極支持物は複数の電極支持片を結合した形
    成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン注
    入装置。
JP1066541A 1989-03-18 1989-03-18 イオン注入装置 Pending JPH02247969A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1066541A JPH02247969A (ja) 1989-03-18 1989-03-18 イオン注入装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1066541A JPH02247969A (ja) 1989-03-18 1989-03-18 イオン注入装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02247969A true JPH02247969A (ja) 1990-10-03

Family

ID=13318867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1066541A Pending JPH02247969A (ja) 1989-03-18 1989-03-18 イオン注入装置

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JP (1) JPH02247969A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000223054A (ja) * 1999-02-02 2000-08-11 Advantest Corp 電子ビーム照射装置の静電偏向器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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