JPH0224852A - Ferroelectric polymer optical memory - Google Patents
Ferroelectric polymer optical memoryInfo
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- JPH0224852A JPH0224852A JP63172611A JP17261188A JPH0224852A JP H0224852 A JPH0224852 A JP H0224852A JP 63172611 A JP63172611 A JP 63172611A JP 17261188 A JP17261188 A JP 17261188A JP H0224852 A JPH0224852 A JP H0224852A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
し産業上の利用分野]
本発明は、ビニリデン系重合体(以下PVD系重合体と
記す)を記録層として用いた強誘電性高分子光メモリー
に関するもので光メモリ−カードや光ディスク等にも応
用できるものである。Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a ferroelectric polymer optical memory using a vinylidene polymer (hereinafter referred to as PVD polymer) as a recording layer, and relates to an optical memory card. It can also be applied to optical discs, etc.
[従来の技術]
PVD系重合体を記録媒体とした高分子光メモリーは、
すでに知られている。[Prior art] Polymer optical memory using PVD polymer as a recording medium is
Already known.
これは、PVD系重合体の強誘電性を利用した画期的な
光メモリーで、その記録原理は特開昭59−21509
6及び同59−215097号公報、あるいはIIEI
EE Trans、Electr、Ins、、 El−
21(3)、539(191i6)、高分子加工35.
418(198B)に開示されているように、強誘電性
高分子材料が電界によって分極する性質を利用して、高
い電界を印加して一方向に分極させた該強誘電性高分子
材料に対して、抗電界以下の弱い逆電界を印加した状態
で任意の部分に光ビームを照射加熱して該光照射部のみ
を選択的に分極反転せしめることにより書き込みを可能
にし、さらに光または熱による焦電効果を利用して読み
出すことができるというものである。This is a revolutionary optical memory that utilizes the ferroelectric properties of PVD polymers, and its recording principle is based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-21509.
6 and No. 59-215097, or IIEI
EE Trans, Electr, Ins, El-
21(3), 539(191i6), Polymer Processing 35.
418 (198B), by utilizing the property of ferroelectric polymer materials to be polarized by an electric field, a high electric field is applied to the ferroelectric polymer materials to polarize them in one direction. By applying a weak reverse electric field below the coercive electric field, a light beam is irradiated onto an arbitrary part to heat it, selectively inverting the polarization of only the light irradiated part, thereby making writing possible. It can be read using the electric effect.
この光メモリーにおいては、記録媒体はそれを支える基
板上に保持しなければならないが、発生した熱が基板に
容易に拡散してしまうため、記録層の温度上昇が妨げら
れ、記録密度やS/N比が低下するという問題を有して
いた。In this optical memory, the recording medium must be held on a substrate that supports it, but the generated heat easily diffuses into the substrate, which prevents the temperature of the recording layer from increasing and reduces the recording density and S/S. The problem was that the N ratio decreased.
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、強誘電性高分子物質を記録媒体として使う光
メモリーにおいて、電極層と基板との間に断熱層を設け
ることにより上記熱拡散を防止し、記録層の昇温速度を
高め、記録、再生、消去操作の応答を高速化しようとす
るものである。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides an optical memory that uses a ferroelectric polymer material as a recording medium by providing a heat insulating layer between an electrode layer and a substrate to prevent the thermal diffusion and improve recording performance. The aim is to increase the temperature rise rate of the layer and speed up the response of recording, reproducing, and erasing operations.
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、従来より前記光メモリーを実用化するた
め研究を重ねてきたが、基板と基板に接する電極層との
間に基板よりも熱伝導率の小さい物質より成る層を設け
ることにより基板への熱拡散量を減らし記録層の温度上
昇速度を引き上げることに成功した。[Means for Solving the Problems] The present inventors have been conducting research in order to put the optical memory into practical use. By providing a layer made of a small material, we succeeded in reducing the amount of heat diffusion into the substrate and increasing the temperature rise rate of the recording layer.
すなわち、本発明の構成は、強誘電性高分子膜からなる
記録層と、それを挾む電極層とが基板上に保持されてい
る光メモリーにおいて、基板と、基板に接する電極層と
の間に、基板よりも熱伝導率の小さい物質よりなる層を
有する強誘電性高分子光メモリーである。In other words, the configuration of the present invention is such that in an optical memory in which a recording layer made of a ferroelectric polymer film and an electrode layer sandwiching the recording layer are held on a substrate, there is a gap between the substrate and the electrode layer in contact with the substrate. Another example is a ferroelectric polymer optical memory having a layer made of a material with a lower thermal conductivity than the substrate.
以下本発明の構成を図面に基づいて説明する。The configuration of the present invention will be explained below based on the drawings.
第1図は本発明の強誘電性高分子光記録媒体の構成の模
式図である。この図中の 1が該光記録媒体の記録層で
あるPVD系重合体膜から成る部分である。2は上部電
極であり、3が下部電極である。4は下部電極と基板と
の間に設けた断熱層である。また5は下部電極3を支持
する基板である。FIG. 1 is a schematic diagram of the structure of the ferroelectric polymer optical recording medium of the present invention. 1 in this figure is a portion made of a PVD polymer film which is the recording layer of the optical recording medium. 2 is an upper electrode, and 3 is a lower electrode. 4 is a heat insulating layer provided between the lower electrode and the substrate. Further, 5 is a substrate that supports the lower electrode 3.
入射光により記録層を加熱する方法としては、記録層に
光吸収剤を混合して光を吸収させるやり方、記録層の内
部にあるいは記録層に接して光吸収層を設けるやり方、
電極層に光を吸収させるやり方などがあるが、本発明は
これらの加熱法に限定されるものではない。Methods for heating the recording layer with incident light include mixing a light absorbent into the recording layer to absorb light, providing a light absorbing layer inside the recording layer or in contact with the recording layer,
There are methods of making the electrode layer absorb light, but the present invention is not limited to these heating methods.
通常、電極層として使われる物質の熱伝導率は大変大き
いため、上記方法で発生した熱の中のかなりの部分が電
極層内を拡散していき、さらに基板内へ拡散するために
記録層の温度上昇が損われるという問題が存在していた
。これを改善するには、電極層としてなるべく熱伝導率
の小さい物質を使うというのが一つの方法であるが、電
極として望ましい性質を備えていてコストも安いという
物質の範囲内では、選択の余地が限られている。同様に
基板としてなるべく熱伝導率の小さい物質を使うことが
望ましいが、基板として望ましい性質を備えた物質の範
囲内では選択の余地が限られている。従って、記録層と
電極層との間もしくは電極層と基板との間に、それらと
は別種の物質を挿入することによって、各層間の熱の伝
導を阻止することができれば好都合である。Normally, the thermal conductivity of the material used as the electrode layer is very high, so a considerable part of the heat generated in the above method diffuses within the electrode layer and further into the substrate, causing the recording layer to be heated. The problem existed that the temperature rise was impaired. One way to improve this is to use a material with as low a thermal conductivity as possible for the electrode layer, but within the range of materials that have desirable properties as an electrode and are inexpensive, there is no choice. is limited. Similarly, it is desirable to use a material with as low a thermal conductivity as possible for the substrate, but there are limited choices within the range of materials that have desirable properties for the substrate. Therefore, it would be advantageous if heat conduction between the layers could be prevented by inserting a different type of substance between the recording layer and the electrode layer or between the electrode layer and the substrate.
電極層と記録層は密告している必要があるため、記録層
と電極層との間には断熱層は挿入できないが、下部電極
と基板との間に断熱層を挿入することは可能である。本
発明者は、下部電極と基板の間に薄い断熱層を挿入する
だけで基板への熱拡散の阻止に大きな効果があることを
見出し、下部電極と基板との間に断熱層を挿入すること
によって記録層の温度上昇速度を高めることに成功した
。Since the electrode layer and the recording layer must be in contact with each other, a heat insulating layer cannot be inserted between the recording layer and the electrode layer, but it is possible to insert a heat insulating layer between the lower electrode and the substrate. . The inventor of the present invention found that simply inserting a thin heat insulating layer between the lower electrode and the substrate has a large effect on preventing heat diffusion to the board, and the present inventors have discovered that inserting the heat insulating layer between the lower electrode and the substrate has a large effect on preventing heat diffusion to the board. We succeeded in increasing the rate of temperature rise in the recording layer.
断熱層は、熱伝導率が基板の熱伝導率よりも小さいもの
である必要がある。また、断熱層の熱伝導率は、できる
かぎり小さいことが望ましい。さらに、入射光が基板側
から当たる光メモリーでは、断熱層はできるかぎり透明
であることが望ましい。基板としてガラスあるいは熱伝
導率の比較的大きいプラスチック材料を使った場合は、
断熱層として望ましい材料としては、ポリスチレンホモ
ポリマー スチレン共重合体、ポリプロピレンホモポリ
マー ビニル重合体、ビニル共重合体などを挙げること
ができる、これらの物質を用いて断熱層を形成する方法
としては、浸漬コーティング、ローラーコーティング、
カーテンコーティング等の溶液塗布法が挙げられるが、
本発明はこの形成法に限定されるものではない。The thermal conductivity of the heat insulating layer must be lower than that of the substrate. Further, it is desirable that the thermal conductivity of the heat insulating layer is as low as possible. Furthermore, in an optical memory where incident light is applied from the substrate side, it is desirable that the heat insulating layer be as transparent as possible. If glass or a plastic material with relatively high thermal conductivity is used as the substrate,
Desirable materials for the heat insulating layer include polystyrene homopolymer, styrene copolymer, polypropylene homopolymer, vinyl polymer, and vinyl copolymer. Methods for forming the heat insulating layer using these materials include immersion. coating, roller coating,
Examples include solution coating methods such as curtain coating,
The present invention is not limited to this formation method.
次に断熱層以外の部分について記す。Next, I will describe the parts other than the heat insulating layer.
記録層を構成するPVD系重合体には種々の化合物が報
告されているが、本記録媒体においては強誘電性を有し
、かつ誘電ヒステリシス測定で矩形を示すようなものが
望ましく、たとえばふっ化ビニリデンのホモ重合体、及
びふり化ビニリデンを50重量%以上含むふっ化ビニリ
デン共重合体である。該共重合体としてはふり化ビニリ
デンと三ふっ化エチレン、六ふっ化プロピレン、三ふっ
化塩化エチレン等との共重合体等を挙げることができる
。また、ポリシアン化ビニリデン、シアン化ビニリデン
及び酢酸ビニル共重合体等も挙げられるが、これらの中
でも弗化ビニリデン及び三弗化エチレン共重合体[以下
P (VDF−TrFE)と略す]が赦も好ましい。Various compounds have been reported for the PVD polymer constituting the recording layer, but in this recording medium, it is desirable to use one that has ferroelectricity and exhibits a rectangular shape when measured with dielectric hysteresis. These are vinylidene homopolymers and vinylidene fluoride copolymers containing 50% by weight or more of vinylidene fluoride. Examples of the copolymer include copolymers of vinylidene fluoride and ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, ethylene chloride trifluoride, and the like. Also included are polyvinylidene cyanide, vinylidene cyanide and vinyl acetate copolymers, among which vinylidene fluoride and ethylene trifluoride copolymers [hereinafter abbreviated as P (VDF-TrFE)] are also preferred. .
該記録層のPVD系重合体膜を製造する方法としては浸
漬コーティング、スプレーコーティング、スピナーコー
ティング、ブレードコーティング、ローラコーティング
、カーテンコーティング等の溶液塗布法によって形成す
ることができる。この中でも浸漬コーティングやスピナ
ーコーティング、ローラーコーティング等によるものが
PVD系重合体膜を均一な膜厚に形成する上に、超薄膜
が得られる点からも好ましい。The PVD polymer film of the recording layer can be formed by a solution coating method such as dip coating, spray coating, spinner coating, blade coating, roller coating, curtain coating, or the like. Among these, methods such as dip coating, spinner coating, and roller coating are preferable because they form a PVD polymer film with a uniform thickness and also provide an ultra-thin film.
本強誘電性高分子記録媒体が光メモリーとして機能する
ためには記録層を挾む電極の少なくとも一方が照射光に
対してできる限り透明であることが望ましく、特に本発
明では下部電極2に透明電極又は半透明電極を採用する
ことが好ましい。勿論下部電極2及び上部電極3の両方
が透明であっても良く、また上部電極3のみが透明であ
っても構わない。In order for the present ferroelectric polymer recording medium to function as an optical memory, it is desirable that at least one of the electrodes sandwiching the recording layer be as transparent as possible to the irradiated light. It is preferable to employ electrodes or semi-transparent electrodes. Of course, both the lower electrode 2 and the upper electrode 3 may be transparent, or only the upper electrode 3 may be transparent.
本発明で採用される透明電極とはスズをドープした酸化
インジウム(ITO)や酸化スズ、アンドープの酸化イ
ンジウム等の蒸s、CVD。The transparent electrode employed in the present invention is made of tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, evaporation of undoped indium oxide, etc., or CVD.
スパッタリング膜等が挙げられ、半透明電極には金、白
金、銀、銅、鉛、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、タン
タル、チタン、コバルト、ニオブ、パラジウム、スズ等
の各種金属の蒸着、CVD、スパッタリング膜等が挙げ
られるが本発明は特にこれらに限定されるものではない
。Examples include sputtering films, etc., and semitransparent electrodes include vapor deposition, CVD, and sputtering films of various metals such as gold, platinum, silver, copper, lead, zinc, aluminum, nickel, tantalum, titanium, cobalt, niobium, palladium, and tin. etc., but the present invention is not particularly limited to these.
またこれらの電極の支持体材料としては、ポリエチレン
、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアセテート8、ポリアミド
、ポリイミド、ポリオレフィン、アクリル樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂及び上記の誘導体等の各種プラ
スチックやガラス、石英板、セラミックなどが好適であ
るが、電極同様照射光に対して透明であることが望まし
く、又電極との絶縁を兼ねているものであることが好ま
しいが、電極同様本発明は特にこれらに限定されるもの
ではない。Support materials for these electrodes include polyethylene, polyethylene terephthalate, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate 8, polyamide, polyimide, polyolefin, acrylic resin, phenolic resin, epoxy resin, and the above. Various plastics such as dielectrics, glass, quartz plates, ceramics, etc. are suitable, but like the electrodes, it is desirable that they are transparent to irradiated light, and that they also serve as insulation from the electrodes. Similar to the electrodes, the present invention is not particularly limited to these.
照射光源は量産性及び妊格的には半導体レーザー(LD
)が最適と考えられる。LD光の照射方向は上部・下部
向れの電極側からでも構わないが、その際に少なくとも
光源側の電極は照射光に対して透明であることが望ま1
−い。The irradiation light source is a semiconductor laser (LD) for mass production and availability.
) is considered optimal. The direction of irradiation of the LD light may be from the upper or lower electrode side, but in this case, it is desirable that at least the electrode on the light source side is transparent to the irradiated light.
- Yes.
第2図には上部電極2の上に保護層6を設けた例を示し
たが、この保護層は記録層をキズ、ホコリ、汚れ等から
の保護及び記録層の保存安定性の向上等を目的として、
各種高分子材料やシランカップリング剤、ガラスなどか
ら形成される。FIG. 2 shows an example in which a protective layer 6 is provided on the upper electrode 2. This protective layer protects the recording layer from scratches, dust, dirt, etc., and improves the storage stability of the recording layer. as a goal,
It is formed from various polymer materials, silane coupling agents, glass, etc.
第3図は記録層1の下面に下引き層7を設けた例である
。下引き層7は、下部電極3の表面に表面処理剤を塗布
あるいは蒸着することにより形成され、その目的には下
記のものが挙げられる。FIG. 3 shows an example in which an undercoat layer 7 is provided on the lower surface of the recording layer 1. The undercoat layer 7 is formed by applying or vapor depositing a surface treatment agent on the surface of the lower electrode 3, and its purpose is as follows.
■)電極との接亡性の向上
2)記録層の保存安定性の向上
3)水、ガス、溶剤等のバリアー性
上記に於いて、特に lに主たる特性が要求される。そ
こで使用される表面処理剤には、ヘキサメチルジシラン
ザン(HMDS) 、)ジメチルクロルシラン(TMC
S) 、ジメチルクロルシラン(DMC5) 、ジメチ
ルジクロルシラン(DMDCS) 、ビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、t−ブチルジメチルクロルシラ
ン、ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミ
ド、トリメチルシリルジフェニル尿素、ビストリメチル
シリル尿素等があげられる。又、上記シリル化剤以外に
チタン系のカップリング剤(アンカーコート剤)も有効
であることが確認されている。2) Improved contact with electrodes 2) Improved storage stability of the recording layer 3) Barrier properties against water, gas, solvents, etc. In the above, the main properties are particularly required of l. The surface treatment agents used therein include hexamethyldisilanzane (HMDS), dimethylchlorosilane (TMC),
S), dimethylchlorosilane (DMC5), dimethyldichlorosilane (DMDCS), bis(trimethylsilyl)acetamide, t-butyldimethylchlorosilane, bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide, trimethylsilyldiphenylurea, bistrimethylsilylurea, etc. . In addition to the above-mentioned silylating agents, titanium-based coupling agents (anchor coating agents) have also been confirmed to be effective.
第4図は記録層lの下部に光吸収層8を設けた例である
。本図に限られず、該光吸収層は記録層に対していずれ
の側に設けられていてもよく、又記録層に挾まれた状態
、あるいは逆に記録層を挾む状態で積層構造を形成して
いても構わない。FIG. 4 shows an example in which a light absorption layer 8 is provided below the recording layer l. The light absorption layer is not limited to this diagram, and may be provided on either side of the recording layer, and may form a laminated structure in a state in which it is sandwiched between the recording layer, or vice versa. It doesn't matter if you do.
以下実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみ限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be specifically explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
実施例
厚さ約l■のガラス基板上に、ポリスチレン膜をスピン
コード法により厚さ 2.0μlで塗布し、その上にI
TOを500人の厚さになるまで蒸着した。さらにその
上に、光吸収係数がlX106m’になるように色素を
分散させたP (VDF−TrFE)膜をスピンコード
法により厚さ 1.0μmで塗布して記録層lを形成し
た。この試料の上部電極としてクロムを厚さ0.1μ履
で蒸着した後に該P (VDF−T r F E)膜に
100vの電圧をかけてポーリング処理を施しな。さ
らに25Vの逆電界をかけながら、発振波長830rv
の半導体レーザー(以下LDと略す)を用いて照射光強
度1.6mW、e−’半径2.5μ園のガウスビームで
照射点における記録層の中心部温度が100℃になるま
で下部電極側からP (VDF−TrFE)層を加熱し
て情報を記録したところ、記録に要した光照射時間は、
10.6μsであった。EXAMPLE A polystyrene film with a thickness of 2.0 μl was coated on a glass substrate with a thickness of about 1 by the spin-coating method, and I
TO was deposited to a thickness of 500 nm. Furthermore, a P (VDF-TrFE) film in which a dye was dispersed so as to have a light absorption coefficient of 1×10 6 m' was coated thereon to a thickness of 1.0 μm by a spin code method to form a recording layer 1. After evaporating chromium to a thickness of 0.1 μm as the upper electrode of this sample, a voltage of 100 V was applied to the P (VDF-TrFE) film to perform a poling process. Furthermore, while applying a reverse electric field of 25V, the oscillation wavelength is 830rv.
Using a semiconductor laser (hereinafter abbreviated as LD), a Gaussian beam with an irradiation light intensity of 1.6 mW and an e-' radius of 2.5 μm was applied from the lower electrode side until the temperature of the center of the recording layer at the irradiation point reached 100°C. When information was recorded by heating the P (VDF-TrFE) layer, the light irradiation time required for recording was:
The time was 10.6 μs.
その後、LD光強度を0.16mWに弱めて10kHz
でチョッピングしながら再度P (VDF−TrFE)
層にLD光を照射して電極間に生じる焦電電流を計測し
て記録した情報の読み出し操作を行ったところ、記録さ
れた領域(分極が反転した領域)の大きさが直径3.3
μ■であることが判明した。After that, the LD light intensity was weakened to 0.16 mW and the frequency was increased to 10 kHz.
P again while chopping with (VDF-TrFE)
When the layer was irradiated with LD light and the pyroelectric current generated between the electrodes was measured and the recorded information was read out, the size of the recorded area (the area where the polarization was reversed) was 3.3 in diameter.
It turned out to be μ■.
比較例
ポリスチレン膜の作成過程のみを省いて実施例と同じや
り方で作成したポリスチレン膜のない光メモリーに、実
施例と同じ方法で情報を記録したところ、記録に要した
光照射時間は、18.2μsであった。以下実施例と同
様の方法により情報を読み出したところ、記録された領
域(分極が反転した領域)の大きさは実施例の場合と同
じであることが判明した。Comparative Example When information was recorded in the same manner as in the example in an optical memory without a polystyrene film, which was prepared in the same manner as in the example except that only the process of creating the polystyrene film was omitted, the light irradiation time required for recording was 18. The time was 2 μs. Information was then read out using the same method as in the example, and it was found that the size of the recorded area (the area where the polarization was reversed) was the same as in the example.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明を利用することにより、当
該強誘電性高分子光記録媒体において発生した熱の拡散
を低下せしめて該光記録媒体の感度を増大させることが
でき、半導体レーザーのような低パワーの照射光に対し
ても極めて鋭敏に反応して書き込み読み出し及び消去と
いう一連の動作をスムーズに行うことができる。[Effects of the Invention] As explained above, by utilizing the present invention, it is possible to reduce the diffusion of heat generated in the ferroelectric polymer optical recording medium and increase the sensitivity of the optical recording medium. It reacts extremely sensitively to low-power irradiation light such as that of a semiconductor laser, and can perform a series of operations such as writing, reading, and erasing smoothly.
第1図ないし第4図は本発明の光メモリーの具体例の構
成を示す断面の模式図である。
I・・・記録層、2・・・上部電極、3・・・下部電極
、4・・・断熱層、5・・・基板、6・・・保護層、7
・・・下引き層、8・・・光吸収層。
第1図1 to 4 are schematic cross-sectional views showing the structure of a specific example of the optical memory of the present invention. I... Recording layer, 2... Upper electrode, 3... Lower electrode, 4... Heat insulating layer, 5... Substrate, 6... Protective layer, 7
...Undercoat layer, 8...Light absorption layer. Figure 1
Claims (1)
とが基板上に保持されている光メモリーにおいて、基板
と、基板に接する電極層との間に、基板よりも熱伝導率
の小さい物質よりなる層を有することを特徴とする強誘
電性高分子光メモリー。In an optical memory in which a recording layer made of a ferroelectric polymer film and an electrode layer sandwiching the recording layer are held on a substrate, there is a gap between the substrate and the electrode layer in contact with the substrate, which has a higher thermal conductivity than the substrate. A ferroelectric polymer optical memory characterized by having a layer made of a small substance.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172611A JP2780782B2 (en) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | Ferroelectric polymer optical memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172611A JP2780782B2 (en) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | Ferroelectric polymer optical memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224852A true JPH0224852A (en) | 1990-01-26 |
| JP2780782B2 JP2780782B2 (en) | 1998-07-30 |
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ID=15945084
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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|---|---|
| JP (1) | JP2780782B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7612369B2 (en) * | 2002-06-14 | 2009-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Memory device having a semiconducting polymer film |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP63172611A patent/JP2780782B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7612369B2 (en) * | 2002-06-14 | 2009-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Memory device having a semiconducting polymer film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2780782B2 (en) | 1998-07-30 |
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