JPH02248659A - 高真空排気装置 - Google Patents
高真空排気装置Info
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- JPH02248659A JPH02248659A JP6836589A JP6836589A JPH02248659A JP H02248659 A JPH02248659 A JP H02248659A JP 6836589 A JP6836589 A JP 6836589A JP 6836589 A JP6836589 A JP 6836589A JP H02248659 A JPH02248659 A JP H02248659A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体製造装置や粒子加速器等の超高真空を必要とする
機器に用いられる高真空排気装置に関し、超高負空領域
において、分子排気の選択性を蕪(し、緊急停止による
著しい真空劣化が防止できる超真空排気装置を提供する
ことを目的とし、静翼に対して動翼を高速回転させてそ
のターボ機能により真空槽から入射する気体分子に特定
方向の運動量を与えて真空槽から排気するターボ分子ポ
ンプ機構と、前記ターボ分子ポンプ機構から排出された
気体分子を極低温に冷却された冷却トラップで凝結捕集
して空間から排除するクライオポンプ機構とからなる構
成である。
機器に用いられる高真空排気装置に関し、超高負空領域
において、分子排気の選択性を蕪(し、緊急停止による
著しい真空劣化が防止できる超真空排気装置を提供する
ことを目的とし、静翼に対して動翼を高速回転させてそ
のターボ機能により真空槽から入射する気体分子に特定
方向の運動量を与えて真空槽から排気するターボ分子ポ
ンプ機構と、前記ターボ分子ポンプ機構から排出された
気体分子を極低温に冷却された冷却トラップで凝結捕集
して空間から排除するクライオポンプ機構とからなる構
成である。
本発明は、半導体製造装置や粒子加速器等の超高真空を
必要とする機器に用いられる高真空排気装置に関する。
必要とする機器に用いられる高真空排気装置に関する。
近年、半導体製造工程等において、例えば、所望の物質
以外の物質が清浄な半導体表面に付着するのを避けなが
ら所望の処理を行うために、10−1〜10−”tor
r程度以上の高真空が必要になってきたが、この場合広
く用いられている油拡散ポンプは、僅かではあるが油の
蒸気が真空にすべき空間に逆流してくるのを防止できな
いので使用できない。
以外の物質が清浄な半導体表面に付着するのを避けなが
ら所望の処理を行うために、10−1〜10−”tor
r程度以上の高真空が必要になってきたが、この場合広
く用いられている油拡散ポンプは、僅かではあるが油の
蒸気が真空にすべき空間に逆流してくるのを防止できな
いので使用できない。
このような清浄な超高真空を得るために、ターボ機構を
用いて気体分子に特定方向の運動量を与えて真空槽から
排気するターボ分子ポンプや、極低温に冷却した気体分
子吸着体にガスを凝縮させるタライオボンプが使用され
るようになってきた。
用いて気体分子に特定方向の運動量を与えて真空槽から
排気するターボ分子ポンプや、極低温に冷却した気体分
子吸着体にガスを凝縮させるタライオボンプが使用され
るようになってきた。
従来の超真空排気用いる真空ポンプとしては、高速度で
回転する回転翼に衝突した気体分子に特定方向の運動量
を与えて排気するターボ分子ポンプや、Tiのゲッタ作
用により気体分子を吸着して排気する溜め込み型のスパ
ッタイオンポンプが知られている。
回転する回転翼に衝突した気体分子に特定方向の運動量
を与えて排気するターボ分子ポンプや、Tiのゲッタ作
用により気体分子を吸着して排気する溜め込み型のスパ
ッタイオンポンプが知られている。
しかし、ターボ分子ポンプは分子量の小さな気体分子に
対する圧縮比が小さいため、質量の軽い水素分子が真空
槽内へ逆流する確率が大きく、従って10−7〜10−
”Pa程度の超高真空領域における残留気体は水素分子
が殆どである。このため真空度を更に高めるには、主な
残留気体である水素を排気する必要がある。
対する圧縮比が小さいため、質量の軽い水素分子が真空
槽内へ逆流する確率が大きく、従って10−7〜10−
”Pa程度の超高真空領域における残留気体は水素分子
が殆どである。このため真空度を更に高めるには、主な
残留気体である水素を排気する必要がある。
またターボ分子ポンプの如く回転翼を有する真空ポンプ
の場合は、排気口側の圧力を大気圧より低いある圧力以
下(補助真空′)に保っておかないと動作しないので、
ポンプの外部に開口する排気口に油回転ポンプなどの補
助真空ポンプを連結して常時動作させておく必要がある
。このためターボ分子ポンプの排気側は閉じておらず排
気口を通じて前段の補助真空ポンプと連結しているので
、停電等で回転翼が停止すると排気口から真空槽に大気
が逆流する大気リークが生じてしまうという問題点もあ
った。
の場合は、排気口側の圧力を大気圧より低いある圧力以
下(補助真空′)に保っておかないと動作しないので、
ポンプの外部に開口する排気口に油回転ポンプなどの補
助真空ポンプを連結して常時動作させておく必要がある
。このためターボ分子ポンプの排気側は閉じておらず排
気口を通じて前段の補助真空ポンプと連結しているので
、停電等で回転翼が停止すると排気口から真空槽に大気
が逆流する大気リークが生じてしまうという問題点もあ
った。
またゲッタ作用によるスパッタイオンポンプでは、吸着
したアルゴンイオンを定期的に放出して真空度を下げる
アルゴン不安定性を有するので、作動ガスとして圧力調
整用に真空槽内にアルゴンガスを導入するスパッタ装置
などでは安定した超高真空が得られなかった。
したアルゴンイオンを定期的に放出して真空度を下げる
アルゴン不安定性を有するので、作動ガスとして圧力調
整用に真空槽内にアルゴンガスを導入するスパッタ装置
などでは安定した超高真空が得られなかった。
このように従来の高真空排気装置は、ポンプの種類によ
る気体分子の選択性(気体分子の種類によって到達真空
度が異なる)や、停電などの緊急停止時の大気リークの
問題があった。
る気体分子の選択性(気体分子の種類によって到達真空
度が異なる)や、停電などの緊急停止時の大気リークの
問題があった。
本発明は上記問題点に鑑み創出されたもので、超高真空
領域において分子排気の選択性を無(し、緊急停止によ
る著しい真空劣化が防止できる超真空排気装置を提供す
ることを目的とする。
領域において分子排気の選択性を無(し、緊急停止によ
る著しい真空劣化が防止できる超真空排気装置を提供す
ることを目的とする。
第1図は本発明の高真空排気装置の原理説明図で、真空
槽に接続された状態を模式的に示したものである。
槽に接続された状態を模式的に示したものである。
上記問題点を解決するため、本発明の高真空排気装置1
は、静翼14に対して動翼21を高速回転させてそのタ
ーボ機能により真空槽4から入射する気体分子6aに特
定方向の運動量を与えて真空槽4から排気するターボ分
子ポンプ機構2と、前記ターボ分子ポンプ機構2から排
出された気体分子6bを極低温に冷却された冷却トラッ
プ19で凝結捕集して空間から排除するクライオポンプ
機構3とからなる構成である。
は、静翼14に対して動翼21を高速回転させてそのタ
ーボ機能により真空槽4から入射する気体分子6aに特
定方向の運動量を与えて真空槽4から排気するターボ分
子ポンプ機構2と、前記ターボ分子ポンプ機構2から排
出された気体分子6bを極低温に冷却された冷却トラッ
プ19で凝結捕集して空間から排除するクライオポンプ
機構3とからなる構成である。
別途接続された粗引き系により真空槽内を所定の真空度
に排気した後、粗引き系を閉じて真空槽を密閉し本発明
の排気装置を作動させると、真空槽内の残留気体、真空
槽内壁や内部の試料から放出される気体分子およびガス
圧調整用のガスなどはターボ分子機構により排気側に輸
送されそこでクライオポンプ機構の冷却トラップにより
凝結補集されるで空間から除かれるので、水素分子の真
空槽内への逆流を防止することができ更に高真空度に到
達できる。
に排気した後、粗引き系を閉じて真空槽を密閉し本発明
の排気装置を作動させると、真空槽内の残留気体、真空
槽内壁や内部の試料から放出される気体分子およびガス
圧調整用のガスなどはターボ分子機構により排気側に輸
送されそこでクライオポンプ機構の冷却トラップにより
凝結補集されるで空間から除かれるので、水素分子の真
空槽内への逆流を防止することができ更に高真空度に到
達できる。
またターボ分子ポンプの排気側はクライオポンプ機構が
接続されて排気装置自体は閉じた空間を構成しているた
め、ターボ分子ポンプ機構やクライオポンプ機構が緊急
停止しても凝結補集された気体分子のみが再放されて真
空槽内に逆流するだけなので、真空度があまり低下しな
い。
接続されて排気装置自体は閉じた空間を構成しているた
め、ターボ分子ポンプ機構やクライオポンプ機構が緊急
停止しても凝結補集された気体分子のみが再放されて真
空槽内に逆流するだけなので、真空度があまり低下しな
い。
以下添付図により本発明の詳細な説明する。
第2図は本発明の高真空排気装置の断面図である。
図においてlは本発明の真空排気装置で、上側のターボ
分子ポンプ機構2と下側のクライオポンプ機構3とから
なり、排気すべき真空槽4の開口部にバルブ51を介し
て取りつけられている。
分子ポンプ機構2と下側のクライオポンプ機構3とから
なり、排気すべき真空槽4の開口部にバルブ51を介し
て取りつけられている。
11は略竪型円筒状のケーシングで、中間からの上の太
い部分はターボ分子ポンプ機構2を構成する部分で、上
端にバルブ51を介して真空槽に接続される吸気口12
を有し下側の小径部はクライオポンプ機構3を構成する
部分で下端は底13により密閉されている。
い部分はターボ分子ポンプ機構2を構成する部分で、上
端にバルブ51を介して真空槽に接続される吸気口12
を有し下側の小径部はクライオポンプ機構3を構成する
部分で下端は底13により密閉されている。
ターボ分子ポンプ機構2は、ケーシングの上部にロータ
21が高速回転可能に組み込まれてなる。
21が高速回転可能に組み込まれてなる。
即ち上端が閉じた円筒形のロータ21の外筒21aの外
周には、動翼22が放射状に多段に配設されており、ま
たロータ21の天井部の中心から駆動軸23が下方に垂
設されいる。ケーシング11の内壁には、動翼22のそ
れぞれの段の間に位置するように静翼14が放射状に多
段に固定されており、ロータを支持する受部15が設け
られている。受部15には、コイル15aやセンサ15
bによってロータの上下位置を非接触で回転可能に保持
するスラスト電磁軸受が構成されており、またロータ2
1の外筒21a内に挿入される円筒状のハウジング16
が上方に延設されている。ハウジング16の内周には、
径方向の中心に駆動軸23を非接触で保持するラジアル
電磁軸受部I7や駆動軸を高速で回転駆動する高周波モ
ータ18が設けられている。
周には、動翼22が放射状に多段に配設されており、ま
たロータ21の天井部の中心から駆動軸23が下方に垂
設されいる。ケーシング11の内壁には、動翼22のそ
れぞれの段の間に位置するように静翼14が放射状に多
段に固定されており、ロータを支持する受部15が設け
られている。受部15には、コイル15aやセンサ15
bによってロータの上下位置を非接触で回転可能に保持
するスラスト電磁軸受が構成されており、またロータ2
1の外筒21a内に挿入される円筒状のハウジング16
が上方に延設されている。ハウジング16の内周には、
径方向の中心に駆動軸23を非接触で保持するラジアル
電磁軸受部I7や駆動軸を高速で回転駆動する高周波モ
ータ18が設けられている。
そして、高周波モータ18を駆動するとロータがケーシ
ングに対して高速回転し、真空槽から動翼に入射する気
体分子に運動エネルギを与えて下方へ輸送するようにな
っている。なお上記の如く回転するロータは電磁軸受に
よりケーシングの静止部に対して非接触で保持されてい
るので、潤滑油分子などの塵埃が発生することがなくケ
ーシング内は清浄に保たれる。
ングに対して高速回転し、真空槽から動翼に入射する気
体分子に運動エネルギを与えて下方へ輸送するようにな
っている。なお上記の如く回転するロータは電磁軸受に
よりケーシングの静止部に対して非接触で保持されてい
るので、潤滑油分子などの塵埃が発生することがなくケ
ーシング内は清浄に保たれる。
ケーシング11の下部に設けられたクライオポンプ機構
3は、上部のターボ分子ポンプ機構2から輸送されてき
た気体分子を凝結補集する例えば中心に孔がある円板状
の冷却トラップ19がケーシング11の内周に配設され
ており、該冷却トラップ19外周に密着配置され液体ヘ
リウムが内部を循環する冷却部31で10’ K程度の
極低温に冷却される。
3は、上部のターボ分子ポンプ機構2から輸送されてき
た気体分子を凝結補集する例えば中心に孔がある円板状
の冷却トラップ19がケーシング11の内周に配設され
ており、該冷却トラップ19外周に密着配置され液体ヘ
リウムが内部を循環する冷却部31で10’ K程度の
極低温に冷却される。
真空槽4を大気圧から超高真空に排気しそれを維持する
際の、上記構成になる超高真空排気装置の動作について
説明する。
際の、上記構成になる超高真空排気装置の動作について
説明する。
真空槽4の別の開口部にはバルブ52を介して、通常の
ターボ分子ポンプ53と油分子を阻止する油トラツプ5
4と外部排気口55aを有する油回転ポンプ(補助真空
ポンプ)55が直列に接続されている。
ターボ分子ポンプ53と油分子を阻止する油トラツプ5
4と外部排気口55aを有する油回転ポンプ(補助真空
ポンプ)55が直列に接続されている。
まず両方のバルブ51.52を開いて、油回転ポンプ5
5とターボ分子ポンプ53とにより真空槽4内を粗引き
しつつ、内壁に吸着されている気体分子を放出させるた
めに真空槽4を所定に加熱するベーキングを行う。ベー
キング終了後、真空度が10−’〜10”’ Paに達
したら、別の開口部に接続されている高真空排気装置1
のクライオポンプ機構3を作動させる。これにより図示
しないヘリウム冷凍機が起動され、冷却部31に液体ヘ
リウムを流して冷却トラップ19を冷却する。冷却トラ
ップのトラップ面が10°に以下の極低温に充分降下し
たら、バルブ52を閉め、ターボ分子ポンプ53と油回
転ポンプ55等からなる通常排気系を遮断するとともに
、ターボ分子ポンプ機構2を起動する。これにより、真
空槽4内の残留気体分子のうち、開口部12から動翼2
2に入射するものはターボ機能によって下側のクライオ
ポンプ機構3に輸送され、冷却トラップ面で冷却されて
運動量が減少しトラップ面に凝結して捕獲される。そし
て水素などの高蒸気圧気体分子も良好に凝結補集される
ので、真空槽4内に逆流しないので、排気速度が増大し
従来の到達真空度より1〜2桁真空度を高くすることが
できる。
5とターボ分子ポンプ53とにより真空槽4内を粗引き
しつつ、内壁に吸着されている気体分子を放出させるた
めに真空槽4を所定に加熱するベーキングを行う。ベー
キング終了後、真空度が10−’〜10”’ Paに達
したら、別の開口部に接続されている高真空排気装置1
のクライオポンプ機構3を作動させる。これにより図示
しないヘリウム冷凍機が起動され、冷却部31に液体ヘ
リウムを流して冷却トラップ19を冷却する。冷却トラ
ップのトラップ面が10°に以下の極低温に充分降下し
たら、バルブ52を閉め、ターボ分子ポンプ53と油回
転ポンプ55等からなる通常排気系を遮断するとともに
、ターボ分子ポンプ機構2を起動する。これにより、真
空槽4内の残留気体分子のうち、開口部12から動翼2
2に入射するものはターボ機能によって下側のクライオ
ポンプ機構3に輸送され、冷却トラップ面で冷却されて
運動量が減少しトラップ面に凝結して捕獲される。そし
て水素などの高蒸気圧気体分子も良好に凝結補集される
ので、真空槽4内に逆流しないので、排気速度が増大し
従来の到達真空度より1〜2桁真空度を高くすることが
できる。
またターボ機構やクライオポンプ機構の電源が不測の事
態で緊急停止しても、本超真空排気装置は外気から密閉
されており、凝結補集合した気体分子の分しか再放出し
ないので真空槽内の真空度の劣化が小さく再度電源を投
入すれば短時間で真空槽内を所望の真空度に戻すことが
できる。
態で緊急停止しても、本超真空排気装置は外気から密閉
されており、凝結補集合した気体分子の分しか再放出し
ないので真空槽内の真空度の劣化が小さく再度電源を投
入すれば短時間で真空槽内を所望の真空度に戻すことが
できる。
以上説明した如く本発明によれば、超高真空領域での排
気速度を気体分子の種類によらず増大でき、外部排気を
必要としないため、緊急停止時でも著しい真空劣化を発
生させることなく清浄な真空度を保つことができる。ま
た真空槽内の金属表面が昇温や光によりガスを放出して
も、大きい排気速度により安定した超高真空を保つこと
ができる。
気速度を気体分子の種類によらず増大でき、外部排気を
必要としないため、緊急停止時でも著しい真空劣化を発
生させることなく清浄な真空度を保つことができる。ま
た真空槽内の金属表面が昇温や光によりガスを放出して
も、大きい排気速度により安定した超高真空を保つこと
ができる。
21− ロータ、 22−・−動翼、3・
−・・タライオボンプ機構、 31−・冷却トラップ、 4−・真空槽、6a、6b
−・気体分子、 である。
−・・タライオボンプ機構、 31−・冷却トラップ、 4−・真空槽、6a、6b
−・気体分子、 である。
第1図は本発明の高真空排気装置の原理説明図、第2図
は本発明の高真空排気装置の断面図、である。 図において、 1−高真空排気装置、 11・−・・ケーシング、14
・−・静翼、 19・−・・冷却トラップ
、2・−・ターボ分子ポンプ機構、 卒1日 寮2日
は本発明の高真空排気装置の断面図、である。 図において、 1−高真空排気装置、 11・−・・ケーシング、14
・−・静翼、 19・−・・冷却トラップ
、2・−・ターボ分子ポンプ機構、 卒1日 寮2日
Claims (1)
- 静翼(14)に対して動翼(22)を高速回転させてそ
のターボ機能により真空槽(4)から入射する気体分子
(6a)に特定方向の運動量を与えて真空槽(4)から
排気するターボ分子ポンプ機構(2)と、前記ターボ分
子ポンプ機構(2)から排出された気体分子(6b)を
極低温に冷却された冷却トラップ(19)で凝結捕集し
て空間から排除するクライオポンプ機構(3)とからな
ることを特徴とする高真空排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6836589A JPH02248659A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6836589A JPH02248659A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高真空排気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02248659A true JPH02248659A (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=13371682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6836589A Pending JPH02248659A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高真空排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02248659A (ja) |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP6836589A patent/JPH02248659A/ja active Pending
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