JPH02249283A - スーパールミネッセントダイオード - Google Patents

スーパールミネッセントダイオード

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Publication number
JPH02249283A
JPH02249283A JP1069985A JP6998589A JPH02249283A JP H02249283 A JPH02249283 A JP H02249283A JP 1069985 A JP1069985 A JP 1069985A JP 6998589 A JP6998589 A JP 6998589A JP H02249283 A JPH02249283 A JP H02249283A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
layer
conductivity type
active layer
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP1069985A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuki Tatsuoka
一樹 立岡
Masahiro Kume
雅博 粂
Takeshi Hamada
健 浜田
Yuichi Shimizu
裕一 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1069985A priority Critical patent/JPH02249283A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光応用計測機器の一つである光フアイバジャ
イロの光源として用いられるスーパールミネッセントダ
イオードに関するものである。
(従来の技術) 光フアイバジャイロは、光による回転角速度の検出原理
(Sagnac効果)を用いた光ジヤイロの一種で、光
ファイバを用いて光路の十分長い高感度の干渉計を構成
している。光源としては通常レーザダイオード、あるい
はスーパールミネッセントダイオードを用いるが、コヒ
ーレンス長の長いレーザダイオードでは、光フアイバ中
でのレイリー散乱により、その一部が後方散乱光となっ
て、位相ノイズを発生させてしまう、したがって、光源
には、コヒーレンス長の短いスーパールミネッセントダ
イオードの方が望ましいが、従来、低コヒーレンスで、
かつ十分な光出力の得られるスーパールミネッセントダ
イオードは実用化されておらず、半導体レーザが用いら
れている。
第4図は従来のスーパールミネッセントダイオードの一
例を示す斜視図である。同図において、11はn−Ga
As基板、12はn −Ga、、、、 l、、41As
層、13はp−Ga、、、、Al1゜、6@As層、1
4はp−Ga、、、、AJ、、、、As層、15はp−
GaAs層、16はプロトン照射高抵抗領域、17は低
反射率コーティングを施したオーミック電極であり、1
8は同じく低反射率コーティングを施したオーミック電
極である。
(発明が解決しようとする課題) 光フアイバジャイロの位相ノイズ低減のためには低コヒ
ーレンスのスーパールミネッセントダイオードが必要で
あり、かつその回転角速度検出感度向上のためには高出
力化が必要である。しかし、第4図に示すような従来構
造のスーパールミネッセントダイオードでは、端面に低
反射率コーティングを施しても、レーザ発振を抑えるに
十分な低い反射率を再現性良く得ることは難かしく、第
3図に示すように、低い出力光レベルでレーザ発振を起
こしてしまい、高出力のスーパールミネッセント光が得
られない欠点があった。
本発明の目的は、従来の欠点を解消し、高出力のスーパ
ールミネッセント光を発光することができるスーパール
ミネッセントダイオードを提供することである。
(課題を解決するための手段) 本発明のスーパールミネッセントダイオードは、導電性
半導体基板上に、基板と反対の導電性を有する電流ブロ
ッキング層が積層されており、このブロッキング層には
、一方の端面から内部に向かってもう一方の端面に達し
ない長さのストライプ状の基板に達する溝が設けられて
おり、さらにこの上に基板と同じ導電型のクラッド層、
活性層を含む各層が形成されているものであり、さらに
ブロッキング層に溝の設けられているストライプ領域に
おける活性層と基板との閣の距離よりも、ストライプ領
域と溝の設けられていない側の端面との間における活性
層とブロッキング層との間の距離の方が、活性層からの
光のしみ出し効果が大きくなる程度に小さくなっている
ものである。
(作 用) ブロッキング層の設けられた側の端面近傍の領域は電流
非注入となっている。また活性層とブロッキング層との
距離を小さくすることにより、活性層からの光のしみ出
しを大きくすればブロッキング層は光の吸収層ともなる
。これらの効果によって、端面近傍の領域はL ass
領域を形成し5これによって、キャビティ全体のG a
inがレーザ発振に達しにくくなり高い出力光レベルま
で発振以前の状態のスーパールミネッセント光を得るこ
とができる6さらに端面近傍はL oss領域を設ける
ことは(第2図に示すように)、実効的に反射率を低下
させる効果を発揮し、 Ga1n領域で発生したスーパ
ールミネッセント光を効率的に外部に取り出し、かつ内
部すなわちGa1n領域へのフィードバックを減らすこ
とができる。
これらの効果によって、レーザ発振を抑圧し、高出力の
スーパールミネッセントダイオードを得ることができる
。
(実施例) 本発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説明
する。
第1図は本発明の実施例によるスーパールミネッセント
ダイオードの構造図で(a)は(b)(c)のA−A’
断面図、(b)は(a)のB−B’断面図、(c)は(
a)のc−c’断面図を示す。導電型P−GaAs基板
1上に、p−Ga、、、、Aa、、o、As活性層4と
、これを上下からはさむ、基板と同じ導電型のp −G
a、、、AJo、sAsのクラッド層3と基板1と反対
の導電型のn −Gaa 、、 Al1゜、、Asのク
ラッド層5があり、これらの−層と基板1の間には、電
流注入領域を制御する基板と反対の導電型を有するn−
G a A s電流ブロッキング層2が存在する。また
、最上層にはn−GaAsコンタクト層6がある。−方
の端面から内部に向かってストライプ状に溝が設けられ
ている領域と、もう一方の端面である光取り出し面側端
面近傍では、ストライプに垂直な面の断面構造が異なっ
ている(第1図(bL (e)参照)、基板に達する溝
のない側の端面近傍ではn−GaAs電流ブロッキング
層2の存在により。
活性層4aには電流は注入されない、また、n−G a
 A s電流ブロッキング層2は光吸収層となるため、
活性層中を4bから48に導波してきた光は吸収を受け
る。これらの効果により端面近傍の活性層はL ass
領域となり、他の領域がG ainを得る状態になって
も、レーザ発振が抑圧され、第2図に示す原理により高
出力のスーパールミネッセント光が得られる。すなわち
、Aの境界をG ain領域からみると極めて導波光の
反射が小さくなっており、光分布が非対称になる。この
ため、L oss領域があっても外部に取り出される誘
導放出光は通常のキャビティ構造に比べて大きい(I、
≧■3)。
また、 Loss領域の存在により、I2<Lとなり、
Ga1n領域へのフィードバック量は通常の構造より小
さく、レーザ発振はより高いフォトン密度まで抑圧され
、高出力のスーパールミネッセント光が得られる。
念のためここで第2図について説明する。
本発明の構造では、n−GaAsブロッキング層2は、
活性層4aと近い距離にあるため、導波される光に対し
て光吸収効果を持ち、また活性層4aは、電流非注入で
あるためL oss領域になっている。第2図(a)の
Bは、活性層に電流が十分注入され、Ga1n状態にな
ったときのストライプ方向の光強度分布を表している。
Ga1n状態では。
活性層中の光は導波されるに従って増幅されるため、右
方向および左方向に導波される光は、おのおの第2図(
b)のように分布しており、これらを加えると、第2図
(a)の右図のようになる。この分布状態はG ain
領域両端での反射率によって大きく変化し1本発明のよ
うにG ain領域の左端の反射率がOに極めて近いと
結果的に第2図(a)の左図のような光強度分布となり
、左側の光強度が大きくなる。従ってL ass領域で
やや減衰するものの外部出力光重□は工、より大きくと
れる。工、。
I□はデバイス内部の光強度の95%である(反射率5
%とする)、また、減衰の効果により、活性層のG a
in領域へのフィードバック貴重2も工、より小さくで
き、レーザ発振抑制にも効果を発揮する。
第3図は本発明のスーパールミネッセントダイオードと
従来のスーパールミネッセントダイオードの電流−出力
光特性を示す図である。
(発明の効果) 本発明によれば、高出力のスーパールミネッセント光を
発光することができ、光フアイバジャイロ用としてその
実用上の効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるスーパールミネッセ
ントダイオードの断面図、第2図は本発明の構造により
高出力のスーパールミネッセント光が得られる原理を説
明する図、第3図は電流−出力光特性および発光スペク
トル特性図、第4図は従来のスーパールミネッセントダ
イオードの斜視図である。 1  ’=  p  GaAs基板、 2−n−G a
 A s電流ブロッキング層、 3 ・・・ p−Ga
、、5A(la、sAsクラッド層、 4−P−Ga、
、、、A+2.、、、As活性層、 5−n−Ga0.
、AJo、、Asクラッド層、 6 ・・・n−GaA
sコンタクト層。 第1図 fb) 第 図 (b) 第 図 八λ1≦3nm (4λ28.。。。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性半導体基板上に、基板と反対の導電性を有
    する電流ブロッキング層が積層されており、前記ブロッ
    キング層には、一方の端面から内部に向かってもう一方
    の端面に達しない長さのストライプ状の基板に達する溝
    が設けられており、さらにこの上に基板と同じ導電型の
    クラッド層、活性層を含む各層が形成されていることを
    特徴とするスーパールミネッセントダイオード。
  2. (2)ブロッキング層に溝の設けられているストライプ
    領域における活性層と基板との間の距離よりも、前記ス
    トライプ領域と溝の設けられていない側の端面との間に
    おける活性層とブロッキング層との間の距離の方が活性
    層からの光のしみ出し効果が大きくなる程度に小さくな
    っている請求項(1)記載のスーパールミネッセントダ
    イオード。
JP1069985A 1989-03-22 1989-03-22 スーパールミネッセントダイオード Pending JPH02249283A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5223722A (en) * 1991-03-26 1993-06-29 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Superluminescent diode
US5574304A (en) * 1992-09-14 1996-11-12 Rohm Co., Ltd. Superluminescent diode with offset current injection regions

Cited By (3)

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