JPH02250852A - Arylacetic acid monoesters and production thereof - Google Patents
Arylacetic acid monoesters and production thereofInfo
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- JPH02250852A JPH02250852A JP1314028A JP31402889A JPH02250852A JP H02250852 A JPH02250852 A JP H02250852A JP 1314028 A JP1314028 A JP 1314028A JP 31402889 A JP31402889 A JP 31402889A JP H02250852 A JPH02250852 A JP H02250852A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
1呈上立上」次1
本発明は天然物由来の様々な化合物の不斉合成に有用で
あり、きらに詳しくは、光学活性なプロスタグランジン
類の合成に有用なアリール酢酸モノエステル類およびそ
の製造法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is useful for the asymmetric synthesis of various compounds derived from natural products, and more specifically, it is useful for the synthesis of optically active prostaglandins. This invention relates to arylacetic acid monoesters and their production method.
従」じ1えぢ
光学活性なこの種の化合物を合成する方法としては、デ
ィールス・アルダ−反応、酵素によるジエステル部分の
加水分解法などがよく知られている。然し乍ら、これら
の反応では光学純度の低い化合物が形成きれたり、ある
いは光学純度が高くても副生ずる立体異性体等の不純物
を容易には除去できないのが一般的であった。また、前
述の酵素による加水分解法では、酵素の反応物の受容性
や酵素反応の条件設定に難しさがある。従って、光学的
に純粋な化合物を容易に、しかも大量・安価に得ること
はなかなか困難であった。As a method for synthesizing this type of optically active compound, the Diels-Alder reaction and the hydrolysis method of a diester moiety using an enzyme are well known. However, these reactions generally result in the formation of compounds with low optical purity, or even if the optical purity is high, impurities such as by-produced stereoisomers cannot be easily removed. Furthermore, in the above-mentioned hydrolysis method using an enzyme, there are difficulties in the receptivity of the enzyme to the reactant and in setting the conditions for the enzyme reaction. Therefore, it has been difficult to easily obtain optically pure compounds in large quantities and at low cost.
(以下余白)
明が 決する課
酵素を使用しないで、不斉合成によって光学純度の高い
化合物を得ることは天然有機化合物の合成のみならず、
広い意味での医薬品を始めとする種々の化合物の合成に
とって重要な意味をもつ。(Left below) A clear topic Obtaining compounds with high optical purity by asymmetric synthesis without using enzymes is not only important for the synthesis of natural organic compounds;
It has important implications for the synthesis of various compounds including pharmaceuticals in a broad sense.
本発明は、各種の光学活性な化合物、特に医薬を不斉合
成する際に重要な中間体を高い光学純度で提供すること
を意図している1本発明はきらに本反応を立体選択的に
反応を進行許せ、かつ反応過程で生じる僅かな副生成物
を極めて容易に除去して、該中間体を光学的に純粋な化
合物として単離する方法をも提供している。尚、本発明
は以上の反応を安価な試薬で、かつ簡便に行ない得るこ
とをも意図している。The present invention is intended to provide important intermediates with high optical purity in the asymmetric synthesis of various optically active compounds, especially pharmaceuticals. The present invention also provides a method that allows the reaction to proceed and allows the slight amount of by-products generated during the reaction process to be removed very easily, thereby isolating the intermediate as an optically pure compound. Incidentally, the present invention also intends that the above reaction can be carried out easily and with inexpensive reagents.
(以下余白)
課 を する 段
本発明者らは以上の点に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、
σ対称性を有するプロラキル酸無水物に(R)−または
(S)−アリール酢酸誘導体を反応許せれば所望の立体
配置を有するアリール酢酸モノエステル類を選択的に得
られる事を見出し、本発明を完成した。詳細は後述する
が、本反応においては生じた副生成物を再結晶で除去で
きる1本発明が提供する不斉合成法は、種々のσ対称を
有するブロラキル酸無水物に応用可能であり、その結果
生じるアリール酢酸モノエステル類は、種々のプロスタ
グランジン、マクロライド、ポリエーテル化合物、マク
ロラクタム、アミン糖、ヌクレオチド、テルペン、アル
カロイド、コンパクチンその他の天然物由来の有用化合
物の合成中間体として極めて重要である。(Left below) In view of the above points, the inventors of the present invention have conducted extensive studies and have found that:
The present invention has been based on the discovery that arylacetic acid monoesters having a desired configuration can be selectively obtained by allowing a (R)- or (S)-arylacetic acid derivative to react with a prolactyl anhydride having σ symmetry, and the present invention has been made based on the present invention. completed. The details will be described later, but in this reaction, by-products generated can be removed by recrystallization. The resulting arylacetic acid monoesters are extremely important as intermediates in the synthesis of various prostaglandins, macrolides, polyether compounds, macrolactams, amine sugars, nucleotides, terpenes, alkaloids, compactins, and other useful compounds derived from natural products. It is.
(以下余白)
本発明はこのような重要な中間体である式:N−R’、
0もしくはSのとき、R1およびR2は同時に水素また
はメチルである場合を除く)を示し、R4は水素または
アミノ保護基を示し、R1は水素またはヒドロキシ保護
基を示し、Arは置換されていてもよいアリールを示す
]で表わされる光学活性アリール酢酸モノエステルを提
供し、きらにこれを得る方法として、式:
[式中、R1は水素または置換されていてもよいCt
” Ctアルキルもしくはフェニルを示すかあるいは一
緒になってC8〜C,アルキレン、C8もしく It
C4〜C,アルケニレンまたはビシクロ環を形成しても
よく、R2は水素またはメチルを示し、R3は水素、置
換きれていてもよいアルキルまたは置換されていてもよ
いアラルキルを示し、Xは単結合またはCH,、C−0
1N−R’、O%S。(Left below) The present invention focuses on these important intermediates of the formula: N-R',
0 or S, R1 and R2 are hydrogen or methyl at the same time), R4 is hydrogen or an amino protecting group, R1 is hydrogen or a hydroxy protecting group, and Ar is substituted or not. A method for providing and obtaining an optically active arylacetic acid monoester represented by the formula: [wherein R1 is hydrogen or optionally substituted Ct
” Ct alkyl or phenyl or taken together C8-C, alkylene, C8 or It
C4-C, alkenylene or bicyclo ring may be formed, R2 represents hydrogen or methyl, R3 represents hydrogen, optionally substituted alkyl or optionally substituted aralkyl, X is a single bond or CH,,C-0
1N-R', O%S.
CHNR’、CHCHs、CHArまたはCHOR’(
ただし、Xが単結合またはCH,、C−01(式中、R
1、R2およびXは前記と同意義を有する)で表わせれ
るσ対称性を有する酸無水物に式:
(式中、Mlは水素または金属原子、R3およびArは
前記と同意義を有する)で表わきれる(R)−または(
S)−7リ一ル酢酸誘導体を反応させ、所望によりさら
に脱保護反応に付すことを特徴とする式:
めて容易に単離できる。CHNR', CHCHs, CHAr or CHOR' (
However, X is a single bond or CH,, C-01 (in the formula, R
1, R2 and X have the same meanings as above), and the formula: (R) - or (
S)-7 Lylylacetic acid derivative is reacted and, if desired, further subjected to a deprotection reaction.
以下に、反応工程図を示し、本発明をさらに詳しく説明
する。The present invention will be explained in more detail below by showing reaction process diagrams.
(以下余白)
(式中、R1,R2、RζArおよびXは前記と同意義
を有する)で表わされるアリール酢酸モノエステル不斉
合成法を提供する。(Hereinafter in the margin) Provides an asymmetric synthesis method for arylacetic acid monoester represented by the formula (wherein R1, R2, RζAr and X have the same meanings as above).
前記化合物(I)は、アリール酢酸部分のカルボキシル
基が保護されている場合には、容易には結晶化せず他の
副生物とは区別しにくいが、脱保護して対応する遊離の
カルボン酸とすれば、容易に結晶化して立体化学的に純
粋な化合物として極[A法]
(R−アリール
を いる 法
(式中、R1、R2、R3、Ar、M’およびXは前記
と同意義を有する)
σ対称性を有するブロキラルな環状無水物に、(R)−
アリール酢酸誘導体を溶媒中で約−100〜約50℃、
より好ましくは約−100〜約o℃にて数十分〜数時間
反応させれば化合物(I−DC)が得られる。用い得る
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、1,2−ジメ
トキシエタン、n−ヘキサン、DMSO、トルエン、ヘ
キサメチルホスホロアミド(HMPA)などが挙げられ
る。When the carboxyl group of the arylacetic acid moiety is protected, the compound (I) does not crystallize easily and is difficult to distinguish from other by-products, but it can be deprotected to form the corresponding free carboxylic acid. Then, as a stereochemically pure compound that easily crystallizes, the polar [A method] (R-aryl method (where R1, R2, R3, Ar, M' and X have the same meanings as above) ) to a brochiral cyclic anhydride having σ symmetry, (R)-
the aryl acetic acid derivative in a solvent at about -100 to about 50°C;
More preferably, the compound (I-DC) can be obtained by reacting at about -100°C to about 0°C for several tens of minutes to several hours. Examples of solvents that can be used include tetrahydrofuran, diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, 1,2-dimethoxyethane, n-hexane, DMSO, toluene, hexamethylphosphoramide (HMPA), and the like.
この時、用いるアリール酢酸誘導体が遊離のカルボン酸
であれば、直接、目的化合物(II−D)が得られる。At this time, if the arylacetic acid derivative used is a free carboxylic acid, the target compound (II-D) can be obtained directly.
一方、該誘導体のカルボン酸が保護されたエステルの場
合には、所望により脱保護して目的化合物(I[−D)
が得られる0本明細書中においては、脱保護前の目的化
合物を特に化合物(I[−De)と表現することがある
。On the other hand, if the carboxylic acid of the derivative is a protected ester, it can be deprotected if desired to give the target compound (I[-D)
In this specification, the target compound before deprotection may be particularly expressed as compound (I[-De).
多くの場合、化合物(II −De)は結晶化しないが
、常法に従って脱保護して目的化合物(I[−D)とす
れば、容易に結晶化して単離きれ、この時に不純物、特
に、反応中に僅かに生ずる次式:(式中、R1,R2、
R3、ArおよびXは前記と同意義を有する)で表わき
れる化合物(I[’−DC)が極めて容易に除去きれる
。即ち、化合物(I’−De)も容易に脱保護されてジ
カルボン酸(I[−D)となるが、これは母液に残るの
で、該副生成物を100%除去でき、純粋な目的化合物
(II−D)を極めて容易に得ることができる。今まで
数多くの不斉合成法が提案きれているが、副成するジア
ステレオマーをこれほど簡単に除去できる方法は今だ知
られていない。In many cases, compound (II-De) does not crystallize, but if it is deprotected according to a conventional method to obtain the target compound (I[-D), it can be easily crystallized and isolated. The following formula slightly occurs during the reaction: (wherein, R1, R2,
The compound (I['-DC) represented by R3, Ar and X have the same meanings as above) can be removed very easily. That is, compound (I'-De) is also easily deprotected to form dicarboxylic acid (I[-D), but since this remains in the mother liquor, the by-product can be removed 100% and the pure target compound (I[-D) can be removed. II-D) can be obtained very easily. Although many asymmetric synthesis methods have been proposed so far, there is no known method that can remove the by-product diastereomers so easily.
脱保護反応としては、中性〜酸性条件下で行なう反応が
推奨される。即ち、アリール酢酸誘導体めエステル結合
を保持したまま、脱保護する必要があるが、アルカリ性
条件下では該エステル結合が切れてしまうので適さない
0通常はパラジウム−炭素による中性条件下での脱保護
反応を行なう、しかし、他に還元されやすい官能基を有
するような場合や、R1が一緒になって、CIもしくは
’ C4〜C,アルケニレンまたは2重結合を有するビ
シクロ環を形成しているような場合には、水素化諮れて
1重結合になることがある。もし、該官能基や2重結合
等を保持したまま、脱保護したければ、トリフルオロ酢
酸、塩化アルミニウム、塩酸または亜鉛/酢酸などの試
薬を用いて酸性条件下で脱保護を行なえば良い、これら
は置換基R3の種類によっても適宜、好ましい条件を選
択すれば良い。It is recommended that the deprotection reaction be carried out under neutral to acidic conditions. In other words, it is necessary to deprotect the arylacetic acid derivative while retaining the ester bond, but this is not suitable because the ester bond will be broken under alkaline conditions.Usually, deprotection is carried out under neutral conditions using palladium-carbon. However, in cases where the reaction is carried out, but there is a functional group that is easily reduced, or when R1 together form a bicyclo ring having CI or C4-C, alkenylene or a double bond. In some cases, hydrogenation may result in a single bond. If you wish to deprotect while retaining the functional group, double bond, etc., deprotection can be carried out under acidic conditions using a reagent such as trifluoroacetic acid, aluminum chloride, hydrochloric acid, or zinc/acetic acid. Preferred conditions may be selected as appropriate depending on the type of substituent R3.
[B法]
(S)−アリール酢 誘 体を用いる方法(式中、R1
,R2、R3、Ar%M’およびXは前記と同意義を有
する。)
(S)−アリール酢酸誘導体を用いる以外は、前記A法
と全く同様にして、光学的に純粋な目的化合物(II−
L)が得られる。[Method B] A method using a (S)-aryl acetate derivative (in the formula, R1
, R2, R3, Ar%M' and X have the same meanings as above. ) The optically pure target compound (II-
L) is obtained.
本明細書中において、置換きれていてもよいC,#C,
アルキルまたはフェニルとは、低級アルキルカルボニル
、低級アルキルオキシカルボニルもしくは保護きれたホ
ルミルで置換されてもよいC,−C,アルキルまたはフ
ェニルを意味する。ここで、低級アルキルとはC、−C
,アルキルを意味し、メチル、エチル、プロピルおよび
イソプロピルが例示される。保護されたホルミルとして
は、エチレングリフールアセタール、ジメチルアセター
ル、ジエチルアセタールなどが例示される。In this specification, C, #C, which may be substituted,
Alkyl or phenyl means C, -C, alkyl or phenyl optionally substituted with lower alkylcarbonyl, lower alkyloxycarbonyl or protected formyl. Here, lower alkyl is C, -C
, means alkyl, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl. Examples of the protected formyl include ethylene glyfur acetal, dimethyl acetal, diethyl acetal, and the like.
C8〜C,アルキレンとは、エチレン、プロピレン、フ
チレン、ペンチレンまたはヘキシレンヲ意味し、酸無水
物分子にσ対称性が保持される限り、そのアルキレン上
に置換基はあっても良い。C8-C, alkylene means ethylene, propylene, phtylene, pentylene or hexylene, and as long as the σ symmetry is maintained in the acid anhydride molecule, substituents may be present on the alkylene.
C1もしくはC1〜C,アルケニレンとは、ビニレン、
2−ブテニレン、1,3−ブタジェニレン、1.4−ペ
ンタジエニレン、3−ヘキセニレン、2.4−へキサジ
エニレンまたは1.5−ヘキサジエニレンを意味し、酸
無水物分子にσ対称性が保持される限り、そのアルキレ
ン上に置換基はあっても良い。C1 or C1-C, alkenylene means vinylene,
means 2-butenylene, 1,3-butadienylene, 1,4-pentadienylene, 3-hexenylene, 2,4-hexadienylene or 1,5-hexadienylene, as long as the σ symmetry is maintained in the acid anhydride molecule; Substituents may be present on the alkylene.
ビシクロ環としては、ノルボルナン型(ビシクロ[2,
2,1]へブタン、ビシクロ[2,2,1]へブタ−5
−エンなど)や7−オキサビシクロ[2,2,1]ヘプ
タン、7−オキサビシクロ[2,2,1]へブタ−5−
エン、7−アザビシクロ[2,2,1]へブタン、7−
アザビシクロ[2,2,1]へブタ−5−エン、7−チ
アビシクロ[2,2,1]へブタン、7−チアビシクロ
[2,2,1]へブタ−5−エン等が例示される。As a bicyclo ring, the norbornane type (bicyclo[2,
2,1]hebutane, bicyclo[2,2,1]hebutane-5
-ene, etc.), 7-oxabicyclo[2,2,1]heptane, 7-oxabicyclo[2,2,1]buta-5-
ene, 7-azabicyclo[2,2,1]hebutane, 7-
Examples include azabicyclo[2,2,1]hebut-5-ene, 7-thiabicyclo[2,2,1]hebutane, and 7-thiabicyclo[2,2,1]hebut-5-ene.
Xで定義されるカルボニル基(C−0)はケタールで保
護されていてもよい。The carbonyl group (C-0) defined by X may be protected with a ketal.
アミノ保護基としては、ホルミル、アセチル、ベンゾイ
ルなどのアシル、ベンジルオキシカルボニル、t@rt
−ブトキシカルボニル、2−(p−ビフェニル)インプ
ロポキシカルボニルなどのウレタン型誘導体形成基、ア
リル、ベンジル、トリフェニルメチル、テトラヒドロピ
ラニルなどを挙げることができる。As amino protecting groups, formyl, acetyl, acyl such as benzoyl, benzyloxycarbonyl, t@rt
-butoxycarbonyl, urethane type derivative forming groups such as 2-(p-biphenyl)impropoxycarbonyl, allyl, benzyl, triphenylmethyl, tetrahydropyranyl, and the like.
ヒドロキシ保護基としては、メチル、tart−ブチル
、アリル、ベンジル、テトラヒドロピラニル、tart
−ブチルジメチルシリルオキシ、tart −ブチルジ
フェニルシリルオキシなどのエーテル形成保護基、アセ
チル、ベンゾイルなどのエステル形成保護基、メチルス
ルホニル、p−トリルスルホニル、フェニルスルホニル
などのスルホン酸エステル形成保護基などを挙げること
ができる。アミノ保護基、ヒドロキシ保護基は、それぞ
れこれらに限定されるものでなく、−船釣な保護基、例
えば、J、 F、劉v ッ’sミー編”Protect
ive Groupsin OrganicChemi
stry+Planum Prass、 1973年、
43ページ〜143ページに記載されている保護基から
選ぶことができる。Hydroxy protecting groups include methyl, tart-butyl, allyl, benzyl, tetrahydropyranyl, tart
Examples include ether-forming protecting groups such as -butyldimethylsilyloxy and tart-butyldiphenylsilyloxy, ester-forming protecting groups such as acetyl and benzoyl, and sulfonic acid ester-forming protecting groups such as methylsulfonyl, p-tolylsulfonyl, and phenylsulfonyl. be able to. The amino-protecting group and the hydroxy-protecting group are not limited to these.
ive Groupsin Organic Chemi
stry+Planum Prass, 1973,
It can be selected from the protecting groups listed on pages 43 to 143.
「置換きれてもよいアリール」という用語において、ア
リールとはフェニルまたはα−もしくはβ−ナフデルを
意味する。置換基としてはエステル類を除けば、特に限
定されるべきではないが、例えばメトキシやエトキシな
どのアルコキシやブロム、クロルまたはフルオロなどの
ハロゲンなどが例示きれる。In the term "optionally substituted aryl", aryl means phenyl or α- or β-naphdel. The substituent is not particularly limited except for esters, but examples thereof include alkoxy such as methoxy and ethoxy, and halogen such as bromine, chloro, and fluoro.
金属原子とは、リチウム、ナトリウム、カリウムなどの
アルカリ金属原子、マグネシウム、カルシウムなどのア
ルカリ土類金属原子、および亜鉛を意味する。Metal atoms include alkali metal atoms such as lithium, sodium and potassium, alkaline earth metal atoms such as magnesium and calcium, and zinc.
置換されてもよいアラルキルとは、メチル、エチル、プ
ロピルなどのアルキル;メトキシ、エトキシ、プロポキ
シなどのアルフキシ;ブロム、クロル、フルオロなどの
ハロゲン;すたはニトロなどで置換されていてもよいベ
ンジル、ベンズヒドリルまたはナフチルメチルなどを意
味する。Aralkyl, which may be substituted, includes alkyl such as methyl, ethyl, and propyl; alfoxy such as methoxy, ethoxy, and propoxy; halogen such as bromo, chloro, and fluoro; benzyl which may be substituted with nitro, etc.; It means benzhydryl or naphthylmethyl.
本発明で用いる(R)−または(S)−アリール酢酸誘
導体は以上の定義から明らかであるが、中でもD−もし
くはL−マンデル酸またはその誘導体が好ましく用いら
れ、入手も容易である。その誘導体としては、例えば、
D−またはL−マンデル酸のメチル、ベンジル、ベンズ
ヒドリル、バラニトロベンジル、バラメトキシベンジル
、パラメチルベンジルまたはパラブロムベンジルなどと
のエステルが好ましく用いられる。以下に示す諸実施例
や参考例中において用いたD−マンデル酸、その誘導体
またはそれらの残基をD −Mandeと略記し、L−
マンデル酸、その誘導体またはそれらの残基をL −M
andeと略記することがある。The (R)- or (S)-aryl acetic acid derivative used in the present invention is clear from the above definition, and among them, D- or L-mandelic acid or a derivative thereof is preferably used and is easily available. Examples of its derivatives include,
Esters of D- or L-mandelic acid with methyl, benzyl, benzhydryl, valanitrobenzyl, varamethoxybenzyl, paramethylbenzyl or parabromobenzyl are preferably used. D-Mandelic acid, its derivatives, or their residues used in the Examples and Reference Examples shown below are abbreviated as D-Mande and L-Mande.
mandelic acid, its derivatives or their residues as L-M
It is sometimes abbreviated as ande.
以下に実施例および参考例を示し、本発明をさらに詳し
く説明するが、これらは本発明を何ら限定するものでは
ない。EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Reference Examples below, but these are not intended to limit the present invention in any way.
尚、諸実施例および参考例で用いる略号について以下に
説明する。The abbreviations used in the Examples and Reference Examples will be explained below.
Me:メチル CHlPh:ベンジルEt:エデル
CHPh、 :ベンズヒドリルBuニブチル P
h :フェニル
THF :テトラヒドロフラン
DMFニジメチルホルムアミド
PMB : 4−メトキシベンジル
(以下余白)
!1011
(第1工程)
D−マンプレート)エステル I[2−Del の遣
窒素雰囲気下、D−マンデル酸ベンジルエステル(5,
33g、 22.0mmol)をTHF(50m1)に
溶かした後、−78℃に冷却し、n−BuLi(1,6
Mヘキサン溶液13.13++1.21.0mm。Me: Methyl CHlPh: Benzyl Et: Edel
CHPh, : Benzhydryl Bu Nibutyl P
h: Phenyl THF: Tetrahydrofuran DMF Nidimethylformamide PMB: 4-methoxybenzyl (blank below)! 1011 (1st step) D-mandelic acid benzyl ester (5,
After dissolving n-BuLi (1,6 mmol) in THF (50 ml) and cooling to -78°C,
M hexane solution 13.13++1.21.0 mm.
1)を滴下し、15分間攪拌する6反応液にビシクロ[
2,2,1コヘブタ−5−エン−2−エンド、3−エン
ド−ジカルボン酸無水物1−1(3,32g、20 、
Ommol)のTHF溶液(20ml)を加える。1) was added dropwise to the reaction solution and stirred for 15 minutes.
2,2,1 cohebut-5-ene-2-endo,3-endo-dicarboxylic acid anhydride 1-1 (3,32 g, 20,
Add Ommol) of THF solution (20 ml).
−78℃で1時間攪拌後、2N塩酸を加え、酢酸エチル
で抽出する。水、食塩水で洗浄後濃縮すると、化合物1
[2−Delおよび副生成物II 2’−Delが得ら
れる(合計収量:9.33g)e化合物12−Delは
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン/酢酸
エチル)に付して精製する。After stirring at -78°C for 1 hour, 2N hydrochloric acid was added and extracted with ethyl acetate. After washing with water and saline and concentrating, compound 1
[2-Del and by-product II 2'-Del are obtained (total yield: 9.33 g) e Compound 12-Del is purified by silica gel column chromatography (toluene/ethyl acetate).
IR(液膜) :3600−2400.1748.17
10.1498゜1456、1342.1257.12
0g、 1165゜1084、1072.912.73
2.696’H−NMR(CDC11TMS)δppm
: 1.33(ABq、 Apart。IR (liquid film): 3600-2400.1748.17
10.1498°1456, 1342.1257.12
0g, 1165°1084, 1072.912.73
2.696'H-NMR (CDC11TMS) δppm
: 1.33 (ABq, Apart.
J=8.9Hz; [1)、 1.48(ABq、 B
part、 J:8.9Hz、 11)。J=8.9Hz; [1), 1.48(ABq, B
part, J: 8.9Hz, 11).
3.16(br、 s、 IH)、 3.
21(br、 s、 IH)、 3.30
(dABq。3.16 (br, s, IH), 3.
21 (br, s, IH), 3.30
(dABq.
Apart、 J:3.2.10.2Hz、 LM)、
3.47(dABq、 Bpart。Apart, J: 3.2.10.2Hz, LM),
3.47 (dABq, Bpart.
J=3.4Hz、 10.2Hz、 LH)、 5.1
3(s、 2H)、 5゜97(s。J=3.4Hz, 10.2Hz, LH), 5.1
3(s, 2H), 5°97(s.
LH)、 6.11(dABq、 Apart、 J
=2.9Hz、 5.9Hz、 LH)。LH), 6.11 (dABq, Apart, J
=2.9Hz, 5.9Hz, LH).
6.28(dABq、 Bpart、 J=2.8.
5.9Hz、 IH)、 7.13−7.52(
m、 l0H)
(第2工程)
10%パラジウム炭素(0,4g )に先で得た粗生成
物1[2−Del(4,06g、 10.0mmol
)のメタノール溶液(30m1)を加え、常圧、水素雰
囲気下、室温で1.5時間攪拌後、触媒を濾過して除き
、濃縮する0反応混合物に酢酸エチル、5%炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加え、水層を分取する。有機層をもう
一度水で抽出し、最初の水層を合わせて酢酸エチルで洗
浄する。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食
塩水で洗浄し、濃縮すると粗生成物、L1史が得られる
(3.14g、酸無水物からの収率:99%、I[1−
D : [1’−D−86:14(HPLCによる))
。6.28 (dABq, Bpart, J=2.8.
5.9Hz, IH), 7.13-7.52(
(2nd step) To 10% palladium on carbon (0.4 g) was added the crude product 1[2-Del (4.06 g, 10.0 mmol) obtained previously.
) was added, and after stirring at room temperature for 1.5 hours under normal pressure and hydrogen atmosphere, the catalyst was removed by filtration and concentrated. Ethyl acetate and a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added to the reaction mixture. , separate the aqueous layer. The organic layer is extracted once more with water and the first aqueous layers are combined and washed with ethyl acetate. Add 2N hydrochloric acid, extract with ethyl acetate, wash with saturated brine, and concentrate to obtain the crude product L1 (3.14 g, yield from acid anhydride: 99%, I[1-
D: [1'-D-86:14 (by HPLC))
.
酢酸エチルより再結晶することにより目的化合物(I[
1−D)を単離する( 2.05 g、収率:64%)
、融点=164〜166℃。By recrystallizing from ethyl acetate, the target compound (I[
Isolate 1-D) (2.05 g, yield: 64%)
, melting point = 164-166°C.
元素分析CCItH−1oaとして)
計算値(X) : C,64,ts; H,5,71実
測値(X) : C,63,83i H,5,73’H
−NMR(CDC1$、工MS)& ppm: 1.4
6(br、 s、 41)。Elemental analysis (as CCItH-1oa) Calculated value (X): C,64,ts; H,5,71 Actual value (X): C,63,83i H,5,73'H
-NMR (CDC1$, Engineering MS) & ppm: 1.4
6 (br, s, 41).
1.57〜1.75(m、 18)、 1.84〜2.
08(m、 IH)、 2.40−2.62(m、 2
H)、 3.02(dABq、 Apart、 J=3
.6.11.6Hz、 IH)、 3.29(dABq
、 Bpart、 J:4.4.11.6Hz。1.57-1.75 (m, 18), 1.84-2.
08 (m, IH), 2.40-2.62 (m, 2
H), 3.02 (dABq, Apart, J=3
.. 6.11.6Hz, IH), 3.29(dABq
, Bpart, J: 4.4.11.6Hz.
IH)、5.86(s、 18)、 7.33〜7.6
5(m、 58)[α]甘せ−117.1*0.8°(
MeOH,C=1.934%)母液を濃縮後、塩化メチ
レンより再結晶することにより副生成物としての(II
I’−D)を得る。融点157〜158℃。IH), 5.86 (s, 18), 7.33-7.6
5 (m, 58) [α] Amase-117.1*0.8° (
After concentrating the mother liquor (MeOH, C=1.934%), it was recrystallized from methylene chloride to obtain (II
I'-D) is obtained. Melting point 157-158°C.
元素分析(C+yHtsOsとして)
計算値(X) : C,64,13; H,5,71実
測値(X) : C,64,oz; H,5,57゜’
H−NMR(CDC1,−TMS)δppm: 1.3
0〜1.66(m、 4H)。Elemental analysis (as C+yHtsOs) Calculated value (X): C, 64,13; H, 5,71 Actual value (X): C, 64, oz; H, 5,57°'
H-NMR (CDC1, -TMS) δppm: 1.3
0-1.66 (m, 4H).
1.69〜1.87(m、 1B)、 1.96−2.
13(m、 IH)、 2.60(br。1.69-1.87 (m, 1B), 1.96-2.
13 (m, IH), 2.60 (br.
s、 2H)、 3.04(dABq、 Apart、
に2.8.12.1Hz。s, 2H), 3.04(dABq, Apart,
2.8.12.1Hz.
IH)、 3.13(dABq、 Bpart、 J
=3.8. 12、IHz、 11)。IH), 3.13 (dABq, Bpart, J
=3.8. 12, IHz, 11).
5.84(s、 IH)、 7.33〜7.58(
m、 SR>。5.84 (s, IH), 7.33-7.58 (
m, SR>.
[α] M= −st、st0.6° (MaOH,C
=2.005%)。[α] M=-st, st0.6° (MaOH,C
=2.005%).
デル )エステル n 2−D の製造(以下余白)
実施例1の第1工程と同じ方法で得た粗生成化合物II
2−De2(43g )の塩化メチレン溶液(60m
l)を0℃に冷却し、アニソール(18ml)およびト
リフルオロ酢酸(50ml)を加え、1時間攪拌する0
反応液を濃縮した後、酢酸エチルと5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加える。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄
し、2N塩酸を加えて酸性にする。酢酸エチルで抽出、
飽和食塩水で洗浄、次いで乾燥して濃縮すると粗生成化
合物」が得られる(生成比、112−D : I2’−
D■74:26 (HP L Cによる))、これを酢
酸エチルより再結晶して純粋な目的化合物([2−D)
を得る(13.37 g、収率47%)、融点:169
〜171℃。) Production of ester n 2-D (blank below) Crude compound II obtained in the same manner as the first step of Example 1
2-De2 (43 g) in methylene chloride solution (60 m
1) was cooled to 0°C, anisole (18ml) and trifluoroacetic acid (50ml) were added, and the mixture was stirred for 1 hour.
After concentrating the reaction solution, ethyl acetate and 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution are added. The aqueous layer is separated, washed with ethyl acetate, and made acidic by adding 2N hydrochloric acid. Extracted with ethyl acetate,
The crude product compound is obtained by washing with saturated saline, then drying and concentrating (product ratio, 112-D: I2'-
D74:26 (by HPLC)), which was recrystallized from ethyl acetate to obtain the pure target compound ([2-D)
(13.37 g, yield 47%), melting point: 169
~171℃.
元素分析(C8tHIO・として)
計算値(X) : C,64,55; H,5,10実
測値(1) : C,64,46;H,5,12゜I
R(CI(C1l) : 3500−2400.173
4.1438.1375゜1342、1256.116
8.1146.1072゜’H−NMR(CDC1*−
TMS)& ppm: 1.36(ABq、 Apar
t。Elemental analysis (as C8tHIO・) Calculated value (X): C, 64,55; H, 5,10 Actual value (1): C, 64,46; H, 5, 12°I
R(CI(C1l): 3500-2400.173
4.1438.1375°1342, 1256.116
8.1146.1072゜'H-NMR (CDC1*-
TMS) & ppm: 1.36 (ABq, Apar
t.
J=7.2Hz; IH)、 1.51(ABq、
Bpart、 J=7.2Hz、 IH)。J=7.2Hz; IH), 1.51(ABq,
Bpart, J=7.2Hz, IH).
3.15(br、 s、 2H)、 3.43(dA
Bq、 Apart、 J=2.9゜10.4Hz、
IH)、 3.53(dABq、 Bpart、 J=
3.1.10.4Hz、 IH)、 5.86(s
、 2H)、 6.14〜6.33(m、 2H
)。3.15 (br, s, 2H), 3.43 (dA
Bq, Apart, J=2.9°10.4Hz,
IH), 3.53 (dABq, Bpart, J=
3.1.10.4Hz, IH), 5.86(s
, 2H), 6.14-6.33(m, 2H
).
7.32〜7.62(m、 5H)。7.32-7.62 (m, 5H).
[12]甘せ−t5q、s*t、o°(MeOH,C=
1.993%)。[12] Amase-t5q, s*t, o° (MeOH, C=
1.993%).
叉m二互
実施例1または2と同様の方法で表1に示す目的化合物
(II−D)または(II−L)を得た0反応条件も合
わせて表1に示す。The reaction conditions for obtaining the target compound (II-D) or (II-L) shown in Table 1 in the same manner as in Example 1 or 2 are also shown in Table 1.
(以下余白)
烹」01ヱ
デル
エステル
2−L
の
造
上記粗製1[2−Li2(30、6mg、 70 mm
ol)をアセトニトリル160+nlに溶解し、濃塩酸
35.9m1(70mmolX 6 )を加えて室温に
て16時間攪拌、4N NaOH水溶液でpH4とし、
これにN a HCOs水溶液を水冷下に加えてアルカ
リ性とし、酢酸エチルにて洗う、有機層をきらに水で抽
出し、水溶液を合し、濃塩酸にてpH2としてから酢酸
エチルにて抽出する。これを水洗後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧濃縮し、結晶性の残渣を得る。この粗
生成物を酢酸エチルから再結晶し、化合物(T12−t
、)tl、tzg(収率:50.2%)を得る。融点=
168〜170℃。(Left below) Preparation of 01 Edel Ester 2-L Crude 1[2-Li2 (30.6 mg, 70 mm)
ol) in 160+nl of acetonitrile, added 35.9ml (70mmolX 6 ) of concentrated hydrochloric acid, stirred at room temperature for 16 hours, adjusted to pH 4 with 4N NaOH aqueous solution,
This is made alkaline by adding an aqueous solution of Na HCOs under water cooling, and washed with ethyl acetate. The organic layer is extracted with water, the aqueous solutions are combined, the pH is adjusted to 2 with concentrated hydrochloric acid, and the mixture is extracted with ethyl acetate. This is washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain a crystalline residue. This crude product was recrystallized from ethyl acetate to form the compound (T12-t
, ) tl, tzg (yield: 50.2%). Melting point =
168-170℃.
IR、’HNMR(CDC1,)はI[−1−D(al
)と同様。IR, 'HNMR(CDC1,) is I[-1-D(al
)same as.
[α]ss″=+160.5*1.O’ (MeOH,
C=2.002X)(以下余白)
実施例1の第1工程と同様に反応きせることにより、表
1に示す粗生成化合物(H2−Li2 )を得ることが
できる0反応条件も合わせて表1に示す。[α]ss''=+160.5*1.O' (MeOH,
C=2.002 Shown below.
火m旦
(以下余白)
化合物1−3 10.5g(62關o1)より実施例1
、第1工程および第2工程と同様にして化合物(I[3
−D)および(I[3°’−D)の混合物を得る。Example 1 from 10.5 g (62 o1) of compound 1-3 on Tuesday (blank below)
, compound (I[3
-D) and (I[3°'-D) are obtained.
(I3−D): (II3’−D)−73: 27(H
PLC)この混合物より(I3−D)、7,1匹(収率
:35.8%)および([3’−D) 1.5 g (
収率ニア。(I3-D): (II3'-D)-73: 27(H
PLC) From this mixture, (I3-D), 7.1 (yield: 35.8%) and ([3'-D) 1.5 g (
Yield near.
6%)を各々再結晶法で単離した。6%) were isolated by recrystallization.
化合物(I3−D)
融点:175〜177℃
元素分析(C+ s Hr * Ovとして)計算値(
X) : C,59,99; H,5,04実測値m:
C,59,85; H,5,04’H−NMR(CD
、OD、 IMS)δppm: 1.55〜1.88(
m、 4H)。Compound (I3-D) Melting point: 175-177°C Elemental analysis (as C+ s Hr * Ov) Calculated value (
X): C, 59,99; H, 5,04 actual value m:
C,59,85; H,5,04'H-NMR (CD
, OD, IMS) δppm: 1.55-1.88 (
m, 4H).
3.13(ABq、 Apart、 コ;9.6H
z、 IM)、 3.19(ABq、 Bpar
t、 J=9.6Hz、 1B)、 4.83〜4.9
0(m、 2H)、 5.85(s。3.13 (ABq, Apart, Ko; 9.6H
z, IM), 3.19 (ABq, Bpar
t, J=9.6Hz, 1B), 4.83-4.9
0 (m, 2H), 5.85 (s.
IH)、 7.35〜7.65(m、 5H)IR(N
ujol)l/mix: 3480〜2200.173
3.1712゜1659、1229.1220.118
5; 1011.969.936.766゜735、6
96cm−’
[α] o (11,9±1.5@<MeOH,C=1
.013%、 23℃)化合物(113’−D)
融点:133〜135℃
元素分析CC,mH1aOt・o、 sHm Oとして
)計算値(X) : C,58,35: H,5,21
実測値(X) : C,58,33: H,5,48I
H−NMR(CD、OD、丁MS)ε ppm: 1
.55〜1.90(m、 4H)。IH), 7.35-7.65 (m, 5H) IR (N
ujol)l/mix: 3480-2200.173
3.1712°1659, 1229.1220.118
5; 1011.969.936.766°735, 6
96cm-' [α] o (11,9±1.5@<MeOH, C=1
.. 013%, 23℃) Compound (113'-D) Melting point: 133-135℃ Elemental analysis CC, mH1aOt・o, sHm O) Calculated value (X): C, 58, 35: H, 5, 21
Actual value (X): C, 58, 33: H, 5, 48I
H-NMR (CD, OD, MS) ε ppm: 1
.. 55-1.90 (m, 4H).
3.12(ABq、 Apart、 J=9.6Hz、
IH)、 3.22(ABq、 Bpart、
J=9.6Hz、 IH)、 4.75〜4.9
0(m、 28)、 5.74(s。3.12 (ABq, Apart, J=9.6Hz,
IH), 3.22 (ABq, Bpart,
J=9.6Hz, IH), 4.75-4.9
0 (m, 28), 5.74 (s.
IH)、7.35〜7.65(a+、 5B)IR(
Nujol)νwax: 3680〜2200. 17
33. 1710(sh)。IH), 7.35-7.65 (a+, 5B) IR (
Nujol) νwax: 3680-2200. 17
33. 1710 (sh).
1230.1177.1044.994,925,81
9.724cm−’C(1] o −92,0*L、3
° (MaOH,C=1.OL4χ、23℃)(以下余
白)
火1111
(第1工程)
ト
エステル
1[4−Dの
窒素雰囲気下、D−マンデル酸ベンジルエステル(24
,23g、 100mmol)をTHF(480mL
)に溶かした後、−78°Cに冷却し、n−BuLi(
1,6Mヘキサン溶液66mL、106 mmol)を
滴下し、20分攪拌する0反応液に3−[(tert−
ブチルジメチルシリル)オキシ]グルタル酸無水物(I
−4)(24,44g、100mmol)のTHFm液
ぐ 100mL)を加える。−78℃で2時間攪拌後、
IN塩酸で処理し、酢酸エチルで抽出する。水、食塩水
で洗浄後濃縮すると、化合物■4−Delおよび副生成
物I[4’−Delの混合物が得られる。 ((I4
−Del): (I[4’−Del)−5: 1 (’
)I NMRによる))
Rf−0,29(りooホルム:メタノール−10=1
)
’H−NMR(CDC1,、TMS)& ppm: 0
.03(s、 3H)、 0.05(s、 3H)、
0.82(s、 9H)、 2.61〜2.68(m、
4H)、 4.53〜4.63(m、 IH)、 5
.10(ABq、 Apart、 J=12.5Hz。1230.1177.1044.994,925,81
9.724cm-'C(1] o -92,0*L,3
° (MaOH, C=1.OL4χ, 23°C) (blank below) Tue 1111 (1st step) Toester 1 [4-D under nitrogen atmosphere, D-mandelic acid benzyl ester (24
, 23g, 100mmol) in THF (480mL
), cooled to -78°C, and dissolved n-BuLi (
Add 3-[(tert-
butyldimethylsilyl)oxy]glutaric anhydride (I
-4) (24.44 g, 100 mmol) in THFm solution (100 mL) is added. After stirring at -78°C for 2 hours,
Treat with IN hydrochloric acid and extract with ethyl acetate. After washing with water and saline and concentrating, a mixture of compound 14-Del and by-product I[4'-Del is obtained. ((I4
-Del): (I[4'-Del)-5: 1 ('
)I NMR)) Rf-0,29 (Rooform:methanol-10=1
) 'H-NMR (CDC1,, TMS) & ppm: 0
.. 03(s, 3H), 0.05(s, 3H),
0.82 (s, 9H), 2.61-2.68 (m,
4H), 4.53-4.63 (m, IH), 5
.. 10 (ABq, Apart, J=12.5Hz.
LH>、 5.17(ABq、 Bpart、 J=1
2.5Hz、 LH)、 5.98(s、 114>
。LH>, 5.17 (ABq, Bpart, J=1
2.5Hz, LH), 5.98(s, 114>
.
7.17〜7.48(m、 l0H)
(以下余白)
(第2工程)
第1工程で得た粗生成物M 4−DelおよびIf 4
’−D虹の混合物の酢酸エチル溶液(500mL)に5
%パラジウム炭素(1,00g )を加え、常圧、水素
雰囲気下、室温で1時間攪拌後、触媒を濾過して除き、
濃縮すると、粗生成物l±」が得られる。ジエチルエー
テル−ヘキサンから再結晶することにより目的化合物(
I[4−D)を単離する(22.53 g、収率:57
%)、融点:141〜142℃。7.17 to 7.48 (m, 10H) (Hereafter the margin) (Second step) Crude products M 4-Del and If 4 obtained in the first step
'-D rainbow mixture in ethyl acetate solution (500 mL)
% palladium on carbon (1,00 g) was added, and after stirring at room temperature under normal pressure and hydrogen atmosphere for 1 hour, the catalyst was removed by filtration.
Concentration gives the crude product l±'. The target compound (
I[4-D) is isolated (22.53 g, yield: 57
%), melting point: 141-142°C.
元素分析(cI*Hsaots iとして)計算値(X
) : C,57,55i H,7,12実測値(%)
: C,57,39;H,7,08IR(KBr)ν
maxH3700〜2400.1735.1712゜1
253、1188.1167、1080.980.83
2cm−’’H−NMR(CDC1,、IMS)−δp
pm: 0.04<s、 3H)、 0.05(s、
3H)、 0.82(s、 91)、 2.53〜2.
84(m、 4H)、 4.53〜4.66(m、 I
H)、 5.95(s、 IH)、 7.38〜7.4
9(m、 5)り[α コ D ” −70,2*
1.1” (CHCIs、 c=t、oosx。Elemental analysis (as cI*Hsaots i) Calculated value (X
): C, 57, 55i H, 7, 12 actual value (%)
: C,57,39;H,7,08IR(KBr)ν
maxH3700~2400.1735.1712゜1
253, 1188.1167, 1080.980.83
2cm-''H-NMR (CDC1,, IMS)-δp
pm: 0.04<s, 3H), 0.05(s,
3H), 0.82 (s, 91), 2.53-2.
84 (m, 4H), 4.53-4.66 (m, I
H), 5.95 (s, IH), 7.38-7.4
9(m, 5) [α ko D” -70,2*
1.1” (CHCIs, c=t, oosx.
23.5℃)
Rf=0.82 (酢酸エチル:酢酸:水譚30:1:
(以下余白)
11例」2(アリール酢酸誘導体の製造方法)D−マン
デル ベンジルエステルの製造D−マンデル酸(85,
1g、559 mmol)、ベンジルアルコール(65
ml、628mmol)およびp−トルエンスルホン酸
(1,01g、 5.35mmo1)をベンゼン(70
0ml)中6.5時間還流後、水洗し、濃縮する。エー
テルから再結晶し、標題化合物を123.5 K得る。23.5°C) Rf=0.82 (ethyl acetate: acetic acid: water tan 30:1:
(Left space below) 11 Examples 2 (Method for producing arylacetic acid derivatives) Production of D-mandel benzyl ester D-mandelic acid (85,
1g, 559 mmol), benzyl alcohol (65
ml, 628 mmol) and p-toluenesulfonic acid (1,01 g, 5.35 mmol) in benzene (70 mmol).
After refluxing in 0ml) for 6.5 hours, it is washed with water and concentrated. Recrystallization from ether gives the title compound at 123.5K.
収率91%、融点103.5〜105℃。Yield 91%, melting point 103.5-105°C.
元素分析(C+ m HI−Osとして)計算値(X)
: C,74,36; H,5,82実測値(X)
: C,74,53;H,5,90’H−NMR(CD
C1,−IMS) l; ppm : 3.44(d、
、C5,6Hz。Elemental analysis (as C+ m HI-Os) Calculated value (X)
: C, 74, 36; H, 5, 82 actual measurement value (X)
: C,74,53;H,5,90'H-NMR (CD
C1, -IMS) l; ppm: 3.44 (d,
, C5,6Hz.
IH)、 5.14(ABq、 Apart、 J=1
2.3Hz、 IH)、 5.22(d。IH), 5.14 (ABq, Apart, J=1
2.3Hz, IH), 5.22(d.
J=5.6Hz、 IH)、 5.24(ABq、 B
part、 J=12.3Hz、 IH)7.15〜7
.50(m、 101)。J=5.6Hz, IH), 5.24(ABq, B
part, J=12.3Hz, IH) 7.15~7
.. 50 (m, 101).
[α] ’j =−55,7±1.0°(CI(C1s
、 C=1.OQ3χ)。[α] 'j = -55,7±1.0°(CI(C1s
, C=1. OQ3χ).
D−7ンデル#(15,3g、 100mmol)、
4−メトキシベンジルアルコール(15,2g、11Q
mmol)およびp−トルエンスルホン酸(0゜197
g、 1.01m5aol)をベンゼン(300m
1)中7時間還流後、反応液を4回水洗し、濃縮する。D-7under # (15.3g, 100mmol),
4-methoxybenzyl alcohol (15.2g, 11Q
mmol) and p-toluenesulfonic acid (0°197
g, 1.01m5aol) to benzene (300m
1) After refluxing for 7 hours, the reaction solution was washed four times with water and concentrated.
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエン/酢酸エチルで精製し、エーテル/
石油エーテルから再結晶すると標題化合物を6.58
g得る。収率:24%、融点70.5〜73.5°C0
元素分析(C+ s Hr * Oaとして)計算値(
X) : C,70,58; H,5,92実測値(1
) : C,70,55+ H,6,00゜’H−NM
R(CDC1,−TMS) S ppm : 3.80
(s、 3H)、 5.05(ABq、 Apart、
J=11.8Hz、 IH)、 5.19(s、 I
H)。The obtained crude product was subjected to silica gel column chromatography, purified with toluene/ethyl acetate, and purified with ether/ethyl acetate.
Recrystallization from petroleum ether yields the title compound at 6.58
g get. Yield: 24%, melting point 70.5-73.5°C0 Elemental analysis (as C+ s Hr * Oa) Calculated value (
X): C, 70, 58; H, 5, 92 actual value (1
): C,70,55+H,6,00゜'H-NM
R(CDC1,-TMS) S ppm: 3.80
(s, 3H), 5.05 (ABq, Apart,
J=11.8Hz, IH), 5.19(s, I
H).
5.19(ABq、 Bpart、 に11.8Hz、
IH)、 6.84(d。5.19 (ABq, Bpart, 11.8Hz,
IH), 6.84 (d.
J=8.7Hz、 21()、 7.17(d、 J=
8.7Hz、 21)、 7.30〜7、45(組5H
)。J=8.7Hz, 21(), 7.17(d, J=
8.7Hz, 21), 7.30-7, 45 (set 5H
).
Cα]’1=−36,0* 0.8” (CHCIs、
C=1.017 %)−D−マンデル −4−ニトロ
ベンジルエステルのDMF (300m1)にD−7ン
デル酸(15゜2 g、 100mmol)、4−ニ
トロベンジルブロマイド(2L、S g、 100m
mol)およびトリエチルアミン(14,0ml、10
0mmol)を加え、室温で8時間攪拌する0反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出し、希塩酸、水で洗浄後、
エーテル/石油エーテルから再結晶すると標題化合物を
19.6g得る。収率6B%、融点143〜145℃。Cα]'1=-36,0*0.8" (CHCIs,
C=1.017%)-D-mandel-4-nitrobenzyl ester in DMF (300ml), D-7underic acid (15°2 g, 100mmol), 4-nitrobenzyl bromide (2L, S g, 100ml)
mol) and triethylamine (14.0 ml, 10
Add 0 mmol) and stir at room temperature for 8 hours. Add water to the reaction solution, extract with ethyl acetate, wash with dilute hydrochloric acid and water,
Recrystallization from ether/petroleum ether yields 19.6 g of the title compound. Yield 6B%, melting point 143-145°C.
元素分析(C1s Hls N O*として)計算値(
%) : C,62,72i H,4,56:N、4.
88実測値(%) : C,62,76i )1.4.
61; L4.99゜’H−NMR(CDC1,−TM
S)δppm: 3.2fr3.52(br、 s。Elemental analysis (as C1s Hls N O*) Calculated value (
%): C, 62,72i H, 4, 56:N, 4.
88 Actual value (%): C, 62, 76i) 1.4.
61; L4.99°'H-NMR (CDC1,-TM
S) δppm: 3.2fr3.52(br, s.
LH)、 5.25(ABq、 Apart、 J=1
3.5)1z、 IH)、 5.28(s。LH), 5.25 (ABq, Apart, J=1
3.5) 1z, IH), 5.28(s.
LH)、 5.32(ABq、 Bpart、 J=1
3.5Hz、 IH)、 7.27(d。LH), 5.32 (ABq, Bpart, J=1
3.5Hz, IH), 7.27(d.
J=8.4Hz、 28)、 7.34〜7.48(b
r、 s、 5H)、 8.14(d。J=8.4Hz, 28), 7.34~7.48(b
r, s, 5H), 8.14 (d.
J=8.4Hz、 2H)
[α]!=−40,0* 0.8’ (CHC1$、
C=0.995 X)D−マンデル ベンズヒドリルエ
ステルの 造り−マンデル酸(25,0g、 164
a+mol)を酸llエチル(200ml)に溶かし、
室温で攪拌しながらジフェニルジアゾメタン(38,9
g、 164mmol)を加える。TLCで反応が完
結したことを確認して濃縮する。エーテル/石油エーテ
ルから再結晶することにより標題化合物を47.7g得
る。収率91%、融点91〜91.5℃。J=8.4Hz, 2H) [α]! =-40,0*0.8' (CHC1$,
C=0.995
a + mol) in ethyl acid (200 ml),
Diphenyldiazomethane (38,9
g, 164 mmol). After confirming the completion of the reaction by TLC, concentrate. Recrystallization from ether/petroleum ether gives 47.7 g of the title compound. Yield 91%, melting point 91-91.5°C.
元素分析(CacHt*、Osとして)計算値(X)
: C,79,22; H,5,71実測値(X) :
C,79,44i H,5,67゜’H−NMR(C
DCIA −TMS)δppm: 3.47(d、 J
=5.31(z。Elemental analysis (CacHt*, as Os) Calculated value (X)
: C, 79, 22; H, 5, 71 actual measurement value (X):
C,79,44i H,5,67゜'H-NMR (C
DCIA-TMS) δppm: 3.47 (d, J
=5.31(z.
IH)、 5.28(d、 J=5.3Hz、 IH)
、 6.87(s、 IH)、 6.87−7.46(
sa、 15H)。IH), 5.28 (d, J=5.3Hz, IH)
, 6.87(s, IH), 6.87-7.46(
sa, 15H).
[(Zl’o =−57,4* 1.0°(CHCl、
、 C=1.023%)。[(Zl'o = -57,4*1.0°(CHCl,
, C=1.023%).
L−マンデル ベンズヒドリルエステルの前記のD−マ
ンデル酸ベンズヒドリルエステルの製造と同様に反応を
行ない、L−マンデル酸(30,4g、 200mmo
l)、酢酸エチル(200ml)およびジフェニルジア
ゾメタン(38,9g、200鰭o1)を用いて標題化
合物を54.7g (172mmol)得る。収率86
%、融点91゜5〜92.0℃。L-mandelic acid benzhydryl ester was reacted in the same manner as in the production of D-mandelic acid benzhydryl ester, and L-mandelic acid (30.4 g, 200 mmo
1), ethyl acetate (200 ml) and diphenyldiazomethane (38.9 g, 200 fins o1) to obtain 54.7 g (172 mmol) of the title compound. Yield 86
%, melting point 91°5-92.0°C.
[:alV = +55.7 * 0.9@(CHC
l、、 C=1.013 %>。[:alV = +55.7 * 0.9@(CHC
l,, C=1.013%>.
本発明で得られたアリール酢酸モノエステル類(1−D
)または(If−L)は、以下に示す簡単な反応で、任
意に所望の立体配置を有する純粋なジカルボン酸モノエ
ステル(■)を得ることができる。Aryl acetic acid monoesters (1-D
) or (If-L), a pure dicarboxylic acid monoester (■) having any desired configuration can be obtained by the simple reaction shown below.
アルコールの金属塩(NaOMe等)の存在下で加熱す
る。Heating in the presence of a metal salt of the alcohol (such as NaOMe).
以下に化合物(I[1−D)または(Ill−L)を用
いた反応工程図を示す。A reaction process diagram using compound (I[1-D) or (Ill-L) is shown below.
(式中、Rはアルキルを示す)
区ル
(1)中性〜酸性条件下(ジアゾメタン或いはメタノー
ル中触媒量のp−トルエンスルホン酸等のメチル化剤な
ど)でジアルキルエステル化した後、加水素分解してア
リール酢酸誘導体部分を除去する。(In the formula, R represents alkyl) (1) After dialkyl esterification under neutral to acidic conditions (such as a methylating agent such as a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid in diazomethane or methanol), hydrogenation The arylacetic acid derivative moiety is removed by decomposition.
■適当なアルコール(メタノール等)中、その11[1
−t2
参考例2
原料に(I[1−D)を用い、■の方法で化合物(11
11−t)を得た。収率94%、融点59〜60°C0
元素分析(C+eH+aOaとして)
計算値(X) : C,60,58i H,7,13実
測値(X) : C,60,66i H,7,08’H
−NMR(CDCIs−TMS)& ppm: 1.2
0〜1.74(m、 6H)。■In a suitable alcohol (methanol etc.), Part 11 [1
-t2 Reference Example 2 Using (I[1-D) as a raw material, compound (11
11-t) was obtained. Yield 94%, melting point 59-60°C0
Elemental analysis (as C+eH+aOa) Calculated value (X): C,60,58i H,7,13 Actual value (X): C,60,66i H,7,08'H
-NMR (CDCIs-TMS) & ppm: 1.2
0-1.74 (m, 6H).
2.59(br、 s、 LH>、 2.69(br、
s、 18)、 2.79(d。2.59(br, s, LH>, 2.69(br,
s, 18), 2.79 (d.
J=5.4Hz、 IH)、 3.27(dd、 J:
3.8.5.4Hz、 IH)。J=5.4Hz, IH), 3.27(dd, J:
3.8.5.4Hz, IH).
3.69(s、 38)
[αコy = +38.4±0.4@ (MaOH
,C=2.002%>原料に(It−L)を用い、■の
方法で化合物(1111−t2)を得た。収率78%、
融点59〜60℃。3.69(s, 38) [αkoy = +38.4±0.4@(MaOH
, C=2.002%> Using (It-L) as a raw material, compound (1111-t2) was obtained by method (2). Yield 78%,
Melting point 59-60°C.
[α]甘せ−38,31,4°(MaOH,C=2.0
13%>。[α] Amase-38, 31, 4° (MaOH, C=2.0
13%>.
(以下余白)
参考例3
トロンボキサン受容体拮抗剤として有用な(+)−(I
R,2S、3 S、4S)−(5Z)−7−[3−[
:(7!ニルスルホニル)アミノコビシクロ[2,2,
1]ヘプト−2−イル]ヘプテン酸(以下、(+)−3
−14sという)を以下の方法に従って、化合物(I[
[1−tl)から容易に導くことができる。(Left below) Reference Example 3 (+)-(I) useful as thromboxane receptor antagonist
R,2S,3S,4S)-(5Z)-7-[3-[
:(7!Nylsulfonyl)aminocobicyclo[2,2,
1] hept-2-yl]heptenoic acid (hereinafter referred to as (+)-3
-14s) was prepared from compound (I[
[1-tl).
(式中、Etはエチル、2はベンジルオキシカルボニル
、FCCはビリジニウムク口ロクロメートを示す、)
かくして得られた化合物(A)は文献記載(J。(In the formula, Et is ethyl, 2 is benzyloxycarbonyl, and FCC is pyridinium chloride chromate.) The compound (A) thus obtained is described in the literature (J.
Mad、 Chew、 31(9)、 1847−18
54 (198g))の化合物であり、該文献記載の方
法で(+)−8−145を得る。Mad, Chew, 31(9), 1847-18
54 (198 g)), and (+)-8-145 was obtained by the method described in the literature.
特許出願人:塩野義製薬株式会社Patent applicant: Shionogi & Co., Ltd.
Claims (2)
1〜C_2アルキルもしくはフェニルを示すかあるいは
一緒になってC_2〜C_■アルキレン、C_2もしく
はC_4〜C_■アルケニレンまたはビシクロ環を形成
してもよく、R^2は水素またはメチルを示し、R^3
は水素、置換されていてもよいアルキルまたは置換され
ていてもよいアラルキルを示し、Xは単結合またはCH
_2、C=O、N−R^4、O、S、CHNR^4、C
HCH_3、CHArまたはCHOR^5(ただし、X
が単結合またはCH_2、C=O、N−R^4、Oもし
くはSのとき、R^1およびR^2は同時に水素または
メチルである場合を除く)を示し、R^4は水素または
アミノ保護基を示し、R^5は水素またはヒドロキシ保
護基を示し、Arは置換されていてもよいアリールを示
す]で表わされる光学活性アリール酢酸モノエステル。(1) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) [In the formula, R^1 is hydrogen or optionally substituted C_
1-C_2 represents alkyl or phenyl or may be taken together to form C_2-C_■ alkylene, C_2 or C_4-C_■ alkenylene or bicyclo ring, R^2 represents hydrogen or methyl, R^3
represents hydrogen, optionally substituted alkyl, or optionally substituted aralkyl, and X represents a single bond or CH
_2, C=O, N-R^4, O, S, CHNR^4, C
HCH_3, CHAr or CHOR^5 (however,
is a single bond or CH_2, C=O, N-R^4, O or S, R^1 and R^2 are hydrogen or methyl at the same time), and R^4 is hydrogen or amino an optically active arylacetic acid monoester represented by the following formula: a protecting group, R^5 represents a hydrogen or hydroxy protecting group, and Ar represents an optionally substituted aryl.
る)で表わされるσ対称性を有する酸無水物に式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、M^1は水素または金属原子、R^3およびA
rは前記と同意義を有する)で表わされる(R)−また
は(S)−アリール酢酸誘導体を反応させることを特徴
とする式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^2、R^3、ArおよびXは前記
と同意義を有する)で表わされるアリール酢酸モノエス
テル不斉合成法。(2) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) An acid anhydride with σ symmetry represented by (in the formula, R^1, R^2 and X have the same meanings as above) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, M^1 is hydrogen or a metal atom, R^3 and A
A formula characterized by reacting an (R)- or (S)-arylacetic acid derivative represented by (r has the same meaning as above): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula , R^1, R^2, R^3, Ar and X have the same meanings as above).
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02256650A (en) * | 1988-12-14 | 1990-10-17 | Shionogi & Co Ltd | Dicarboxylic acid monoester and production thereof |
| WO1992022560A1 (en) * | 1991-06-19 | 1992-12-23 | Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha | Optically active intermediate and production thereof |
Citations (1)
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| JPH02256650A (en) * | 1988-12-14 | 1990-10-17 | Shionogi & Co Ltd | Dicarboxylic acid monoester and production thereof |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP1314028A patent/JP2719723B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH02256650A (en) * | 1988-12-14 | 1990-10-17 | Shionogi & Co Ltd | Dicarboxylic acid monoester and production thereof |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02256650A (en) * | 1988-12-14 | 1990-10-17 | Shionogi & Co Ltd | Dicarboxylic acid monoester and production thereof |
| WO1992022560A1 (en) * | 1991-06-19 | 1992-12-23 | Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha | Optically active intermediate and production thereof |
| US5354879A (en) * | 1991-06-19 | 1994-10-11 | Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha | Optically active intermediate and method for production thereof |
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| JP2719723B2 (en) | 1998-02-25 |
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