JPH0225455Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0225455Y2 JPH0225455Y2 JP8343184U JP8343184U JPH0225455Y2 JP H0225455 Y2 JPH0225455 Y2 JP H0225455Y2 JP 8343184 U JP8343184 U JP 8343184U JP 8343184 U JP8343184 U JP 8343184U JP H0225455 Y2 JPH0225455 Y2 JP H0225455Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- filter layer
- rotating tube
- cleaning device
- rotating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 11
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-ylmethanolate Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C[O-])=CC=CC3=CC2=C1 RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は、ろ層を逆流洗浄する前に、ろ層上
に蓄積した泥状物質を排斥するための回転式ろ層
表面洗浄装置に関するものである。
に蓄積した泥状物質を排斥するための回転式ろ層
表面洗浄装置に関するものである。
(従来技術)
この種のろ層表面洗浄装置には、洗浄水を噴射
させる管を固定した固定式と、洗浄水の噴射管が
回転する回転式の2種類があるが、優れた点の多
い回転式が一般に広く実用されている。ところ
で、従来の回転式洗浄装置は、第10図に示すよ
うに、略中央部で垂直固定管1に回動自在に支持
された水平回転管2を、その回転管2の適所に設
けた多数の噴射ノズル2aからの圧力2〜4Kg/
cm2の洗浄射水の反力により回転させ、洗浄する構
造であつた。このため、実際的に効率の高い5〜
10rpmに回転管の回転速度を制御するには、噴射
ノズルからの射水量の調整弁23を絞ることによ
り噴射流量を押え噴射圧力を低下させることによ
り、行つている。しかしながら、この方法ではろ
層の表面洗浄に必要な射水力および水量が得られ
ず、洗浄効果が極端に低下してしまう。また、逆
に、洗浄効果を上げるために調整弁を開放して射
水量を増すと、反力が増し回転管の回転速度が早
くなつて、水面下のろ層表面付近をむやみに撹乱
することとなり、ろ層表面のろ材を浮上させ排水
と共に流出させてしまう。特に最近のように、表
面ろ材に砂よりも軽比重のアンスラサイト(無煙
炭)が用いられる場合には、ろ材の流出が顕著で
ある。
させる管を固定した固定式と、洗浄水の噴射管が
回転する回転式の2種類があるが、優れた点の多
い回転式が一般に広く実用されている。ところ
で、従来の回転式洗浄装置は、第10図に示すよ
うに、略中央部で垂直固定管1に回動自在に支持
された水平回転管2を、その回転管2の適所に設
けた多数の噴射ノズル2aからの圧力2〜4Kg/
cm2の洗浄射水の反力により回転させ、洗浄する構
造であつた。このため、実際的に効率の高い5〜
10rpmに回転管の回転速度を制御するには、噴射
ノズルからの射水量の調整弁23を絞ることによ
り噴射流量を押え噴射圧力を低下させることによ
り、行つている。しかしながら、この方法ではろ
層の表面洗浄に必要な射水力および水量が得られ
ず、洗浄効果が極端に低下してしまう。また、逆
に、洗浄効果を上げるために調整弁を開放して射
水量を増すと、反力が増し回転管の回転速度が早
くなつて、水面下のろ層表面付近をむやみに撹乱
することとなり、ろ層表面のろ材を浮上させ排水
と共に流出させてしまう。特に最近のように、表
面ろ材に砂よりも軽比重のアンスラサイト(無煙
炭)が用いられる場合には、ろ材の流出が顕著で
ある。
(考案が解決しようとする問題点)
この考案は上述の点に鑑みなされたもので、回
転管の回転速度の制御を摩擦力によつて行わせる
ことにより、従来の洗浄装置の圧力ないしはより
高圧における射水を確保し洗浄効果を向上するこ
と、スプリング力により摩擦力を一定に保つて回
転管の回転速度を一定にすること等である。
転管の回転速度の制御を摩擦力によつて行わせる
ことにより、従来の洗浄装置の圧力ないしはより
高圧における射水を確保し洗浄効果を向上するこ
と、スプリング力により摩擦力を一定に保つて回
転管の回転速度を一定にすること等である。
(問題点を解決するための手段)
水平回転管の適所に設けた多数の噴射ノズルか
らの洗浄射水の反力により、該回転管をその略中
央部を中心にして回転させるようにした回転式ろ
層表面洗浄装置において、前記回転管を含む回転
部とこれを回動自在に支持する固定部との一方に
装着した摩擦部材を、スプリングを介して他方へ
押圧し、回転管の回転速度を制御するようにした
ことを考案の要旨とするものである。
らの洗浄射水の反力により、該回転管をその略中
央部を中心にして回転させるようにした回転式ろ
層表面洗浄装置において、前記回転管を含む回転
部とこれを回動自在に支持する固定部との一方に
装着した摩擦部材を、スプリングを介して他方へ
押圧し、回転管の回転速度を制御するようにした
ことを考案の要旨とするものである。
(作用)
スプリング力により摩擦部材を相対回転部に押
圧しその摩擦力により、回転管の回転速度を制御
させ所望の回転速度に設定するものである。
圧しその摩擦力により、回転管の回転速度を制御
させ所望の回転速度に設定するものである。
(実施例)
以下、この考案の実施例を第1図〜第3図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
1は固定部としての垂直固定管で、この固定管
1の下端部に水平回転管2の中央部がベアリング
装置3を介して回動自在に接続されている。2a
は回転管2の左右側壁に逆向きに設けた多数の噴
射ノズルである。そして、このベアリング装置3
を挟んで、回転管2上端と固定管1間にシールリ
ング4を介装するとともに、固定管1下端と回転
管2間にシールスリーブ5を介装する。
1の下端部に水平回転管2の中央部がベアリング
装置3を介して回動自在に接続されている。2a
は回転管2の左右側壁に逆向きに設けた多数の噴
射ノズルである。そして、このベアリング装置3
を挟んで、回転管2上端と固定管1間にシールリ
ング4を介装するとともに、固定管1下端と回転
管2間にシールスリーブ5を介装する。
6は摩擦部材で、前記シールスリーブ5および
これと対応する回転管2壁に一連に穿設した挿通
孔7に、摩擦部材6の一端を固定管1壁に臨ませ
て装填し、コイル状スプリング8を介してアジヤ
ストボルト9により螺子止めして摩擦部材6を固
定管1壁に押圧する。なお、7aは挿通孔7に形
成した螺子部、10はボルト9の緩み止めナツト
である。
これと対応する回転管2壁に一連に穿設した挿通
孔7に、摩擦部材6の一端を固定管1壁に臨ませ
て装填し、コイル状スプリング8を介してアジヤ
ストボルト9により螺子止めして摩擦部材6を固
定管1壁に押圧する。なお、7aは挿通孔7に形
成した螺子部、10はボルト9の緩み止めナツト
である。
次に、上記実施例について作用を説明する。
第3図において、Aはろ層を示すが、このろ層
Aの表面洗浄をするには、洗浄水を固定管1内を
通して回転管2内に供給し、噴射ノズル2aより
噴射させることにより、洗浄射水の反力で回転管
2が水面B下で回転しながらろ層Aの表面に略均
等に洗浄射水が噴射され、洗浄される。この時、
洗浄射水の供給量を充分な洗浄効果が得られるよ
うに保つた状態で、アジヤストボルト9により摩
擦部材6の押圧力を調整して回転管2の回転速度
を制御し通常、5〜10rpmの範囲内に設定する。
Aの表面洗浄をするには、洗浄水を固定管1内を
通して回転管2内に供給し、噴射ノズル2aより
噴射させることにより、洗浄射水の反力で回転管
2が水面B下で回転しながらろ層Aの表面に略均
等に洗浄射水が噴射され、洗浄される。この時、
洗浄射水の供給量を充分な洗浄効果が得られるよ
うに保つた状態で、アジヤストボルト9により摩
擦部材6の押圧力を調整して回転管2の回転速度
を制御し通常、5〜10rpmの範囲内に設定する。
第4図〜第6図は本考案の他の実施例を示し、
11は前記水平回転管2の中央部に一体に結合し
た垂直回転管で、両回転管2,11が回転部をな
し、垂直回転管11の上端部がベアリング装置3
を介して固定管1に回動自在に吊持されている。
12は内周面に摩擦部材6を貼着した一対の半円
リング枠で、両リング枠12は垂直回転管11の
周囲に摩擦部材6を接触させた状態で、固定管1
から下方に延設した支持片13およびリング枠1
2の両端片12aを各々貫通するボルト9とナツ
ト14により一体に接合される。そして、両リン
グ枠12の少なくとも一方の接合部においては端
片12aとナツト14間にコイル状スプリング8
およびワツシヤー15を介装して常に一定の押圧
力で摩擦部材6が回転管11に押し付けられるよ
うにする。
11は前記水平回転管2の中央部に一体に結合し
た垂直回転管で、両回転管2,11が回転部をな
し、垂直回転管11の上端部がベアリング装置3
を介して固定管1に回動自在に吊持されている。
12は内周面に摩擦部材6を貼着した一対の半円
リング枠で、両リング枠12は垂直回転管11の
周囲に摩擦部材6を接触させた状態で、固定管1
から下方に延設した支持片13およびリング枠1
2の両端片12aを各々貫通するボルト9とナツ
ト14により一体に接合される。そして、両リン
グ枠12の少なくとも一方の接合部においては端
片12aとナツト14間にコイル状スプリング8
およびワツシヤー15を介装して常に一定の押圧
力で摩擦部材6が回転管11に押し付けられるよ
うにする。
第7図および第8図は本考案の第3実施例を示
し、垂直回転管11の上端部外周を上方へ向け拡
径させ、固定管1の下端部を回転管11内に嵌挿
すると共に、固定管1の下部周囲に鍔体16を突
設して、この鍔体16と回転管11上端間に環状
の摩擦部材6を介装する。そして、回転管11の
上端拡径部の傾斜面に対応する傾斜開口からなる
滑り軸受17aを有する面圧リング17と鍔体1
6とを両者を貫通する複数のボルト9およびコイ
ル状スプリング8を介装したナツト14により締
め付けて、回転管11を固定管1に回動自在に吊
持すると共に、摩擦部材6を回転管11に押圧す
る。なお、18はOリングである。
し、垂直回転管11の上端部外周を上方へ向け拡
径させ、固定管1の下端部を回転管11内に嵌挿
すると共に、固定管1の下部周囲に鍔体16を突
設して、この鍔体16と回転管11上端間に環状
の摩擦部材6を介装する。そして、回転管11の
上端拡径部の傾斜面に対応する傾斜開口からなる
滑り軸受17aを有する面圧リング17と鍔体1
6とを両者を貫通する複数のボルト9およびコイ
ル状スプリング8を介装したナツト14により締
め付けて、回転管11を固定管1に回動自在に吊
持すると共に、摩擦部材6を回転管11に押圧す
る。なお、18はOリングである。
第9図は本考案の第4実施例を示し、垂直回転
管11に突設した鍔体19を、固定管1から下方
に延設した支持部材20下端に貼着した摩擦部材
6とその支持部材20に対応する挟持片21に貼
着した摩擦部材6により押圧挟持するが、支持部
材20および挟持片21の摩擦部材6,6の反対
端を止め具22により止着すると共に、前記各実
施例と同様に両者の中間部を貫通するボルト9お
よびスプリング8を介装したナツト14で締め付
ける。
管11に突設した鍔体19を、固定管1から下方
に延設した支持部材20下端に貼着した摩擦部材
6とその支持部材20に対応する挟持片21に貼
着した摩擦部材6により押圧挟持するが、支持部
材20および挟持片21の摩擦部材6,6の反対
端を止め具22により止着すると共に、前記各実
施例と同様に両者の中間部を貫通するボルト9お
よびスプリング8を介装したナツト14で締め付
ける。
なお、前記第2〜4実施例の作用は、前記第1
実施例と全く共通するものである。
実施例と全く共通するものである。
(考案の効果)
以上説明したように、この考案は上記した構成
からなるから、下記の如き効果を奏する。
からなるから、下記の如き効果を奏する。
(1) 回転管の回転速度の制御を、洗浄水の射水量
を調整しないで摩擦力により行ない得るので、
従来の洗浄装置より常に高い洗浄効果を維持で
きる。
を調整しないで摩擦力により行ない得るので、
従来の洗浄装置より常に高い洗浄効果を維持で
きる。
(2) 相対回転部に対する摩擦部材の押し付け力を
スプリングの付勢力を介して発生させているの
で、摩擦部材の摩耗による摩擦力の変化(減
少)がほとんどなく、回転管の回転速度を常に
一定に制御できるとともに、ボルトおよびナツ
トによりスプリングの変位を変えて摩擦力の強
弱を調整できる。
スプリングの付勢力を介して発生させているの
で、摩擦部材の摩耗による摩擦力の変化(減
少)がほとんどなく、回転管の回転速度を常に
一定に制御できるとともに、ボルトおよびナツ
トによりスプリングの変位を変えて摩擦力の強
弱を調整できる。
(3) 構造が簡単で、従来の回転式洗浄装置を本考
案の構造に容易に変更できる。
案の構造に容易に変更できる。
第1図はこの考案の第1実施例を示す一部断面
図、第2図は同要部拡大断面図、第3図は同正面
図、第4図は第2実施例を示す一部断面図、第5
図は第4図の−線断面図、第6図は同要部拡
大断面図、第7図は第3実施例を示す一部断面
図、第8図は同要部拡大断面図、第9図は第4実
施例を示す要部拡大断面図、第10図は従来の一
般的な洗浄装置の正面図である。 1……垂直固定管、2……水平回転管、2a…
…噴射ノズル、3……ベアリング装置、6……摩
擦部材、8……スプリング、9……アジヤストボ
ルト、14……ナツト。
図、第2図は同要部拡大断面図、第3図は同正面
図、第4図は第2実施例を示す一部断面図、第5
図は第4図の−線断面図、第6図は同要部拡
大断面図、第7図は第3実施例を示す一部断面
図、第8図は同要部拡大断面図、第9図は第4実
施例を示す要部拡大断面図、第10図は従来の一
般的な洗浄装置の正面図である。 1……垂直固定管、2……水平回転管、2a…
…噴射ノズル、3……ベアリング装置、6……摩
擦部材、8……スプリング、9……アジヤストボ
ルト、14……ナツト。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 水平回転管の適所に設けた多数の噴射ノズル
からの洗浄射水の反力により、該回転管をその
略中央部を中心にして回転させるようにした回
転式ろ層表面洗浄装置において、 前記回転管を含む回転部とこれを回動自在に
支持する固定部との一方に装着した摩擦部材
を、スプリングを介して他方へ押圧し、回転管
の回転速度を制御するようにしたことを特徴と
する回転式ろ層表面洗浄装置。 (2) 前記固定部が垂直固定管である実用新案登録
請求の範囲第1項に記載の回転式ろ層表面洗浄
装置。 (3) 前記スプリング力を調整できるようにした実
用新案登録請求の範囲第1項又は第2項に記載
の回転式ろ層表面洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8343184U JPS61820U (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | 回転式ろ層表面洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8343184U JPS61820U (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | 回転式ろ層表面洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61820U JPS61820U (ja) | 1986-01-07 |
| JPH0225455Y2 true JPH0225455Y2 (ja) | 1990-07-12 |
Family
ID=30632058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8343184U Granted JPS61820U (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | 回転式ろ層表面洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61820U (ja) |
-
1984
- 1984-06-04 JP JP8343184U patent/JPS61820U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61820U (ja) | 1986-01-07 |
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