JPH0226531B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、状態量の異なる少なくとも２つの部
分流を混合する方法に関する。

状態量の異なる複数の部分流を混合する場合、
流れる材料が液体であれば、機械的に駆動される
撹拌装置が使用され、あるいは特に気体媒体では
流れまたは流れ部分の偏向を行なつて、流通方向
の転向により部分流を互いに移行させ、それによ
つて充分に混合する固定案内面が使用される。

公知の方法および装置では、構成に関わる出費
が大きいという欠点があるのみならず、阻止する
度合が大きくかつ部分流の転向を行なうために大
きな圧力損失が生じ、この圧力損失は、それぞれ
の装置の運転の際それに付随する大きなエネルギ
ー消費のために経済上大きな構成費より一層大き
い欠点をもたらす結果になる。

本発明の課題は、短い流れ部分内において状態
量の異なる少なくとも２つの部分流を少ない損失
でかつ有効に混合することを可能にし、しかもこ
のために構成に関わる大きな出費あるいは大きな
エネルギー消費を必要としない、冒頭に述べた種
類の方法および装置を提供することにある。

この課題を解決するため本発明の方法によれ
ば、状態量の異なる少なくとも２つの部分流のう
ち少なくとも一方の部分流の流通断面に、少なく
とも１つの組込み素子により、下流へ流れ方向に
対して直角に広がつて不連続な渦系になる渦パル
スを発生し、前記一方の部分流の主流方向に対し
て直角な渦系成分を他方の部分流の流通断面へ入
り込ませる。ここで渦パルスとは、組込み素子に
よつパルス状に発生されて自動的に広がる渦を意
味する。本発明の別の特徴によれば、渦パルスを
少なくとも１つの湾曲面および（あるいは）面あ
るいは物体の少なくとも１つの縁により発生させ
ることができる。本発明の好ましい別の構成は、
デルタ形組込み素子の互いに鋭角をなして延びて
いる２つの鋭い縁により発生されることにある。

本発明による方法により、短い流通路内でかつ
かなり少ない圧力損失で、部分流のほぼ完全な混
合が行なわれる。公知の方法では、状態量の異な
る部分流を充分均一に混合するために、長さが主
通路の直径の約４倍の混合距離が必要であるが、
本発明による方法では、混合距離の約半分を過ぎ
るとすでにかつ公知の方法の圧力損失の10ないし
20％ぐらいの圧力損失で著しく良い混合が行なわ
れる。これらの著しい利点は大体において次のよ
うにして得られる。すなわち、本発明による方法
では、駆動される混合装置も使用されず、また流
れの部分を強制的に転向させる、案内面が大きく
かつ阻止する度合が大きい組込み片も使用され
ず、阻止する度合が小さい固定組込み素子により
渦パルスが発生され、この渦パルスが、下流で行
なわれる流れ方向に対して直角な拡大により、部
分流の損失の少ない混合を行なう。なぜならば主
流方向に対して直角に延びている渦系の成分が他
の部分流の流通断面に入り込み、こうして強烈な
混合を行なうからである。本発明による方法は液
体にも気体にも用いることができ、特に煙道ガ
ス、廃ガスおよび蒸気の混合の際の異なる混合課
題を解決するのに適している。

本発明による方法を実施する装置によれば、不
連続な渦系を発生する組込み素子が、一方の部分
流の主流方向に対して直角に向く成分を有する少
なくとも１つの剥離縁を持つている。これによつ
て、組込み素子が、下流へ流れ方向に対して直角
に広がつて不連続渦系になる渦パルスを発生さ
せ、他の部分流の流通断面に入り込む渦形の成分
が、部分流を少ない損失でかつ強烈に混合するこ
とが保証される。

本発明による装置は、短い距離でかつ少ない圧
力損失で強烈な混合を行なうのみならず、極めて
小さい構成費しか必要とせず、これは、本発明に
よる装置をあとからでも既存の通路に組込む可能
性を開いている。本発明による組込み素子は、流
れ部分の偏向あるいは転向には使われず、パルス
の発生に使われるから、組込み素子は、阻止度合
が極めて小さくかつ汚損に対して強い。

装置が、同時に部分流の付加通路である連続し
ている主通路と、主通路の側方に接続されている
少なくとも１つの付加通路とを持つ場合は、本発
明によれば少なくとも１つの組込み素子が付加通
路および（あるいは）主通路内の少なくとも１つ
の部分流の流通断面に設けられる。組込み素子を
主通路において付加通路の合流口の範囲に設ける
ことができかつこの組込み素子は全部分流の流通
断面に入り込む。特に主通路の側方に接続された
付加通路である場合は、代わりに各部分流の流通
断面に少なくとも１つの組込み素子を設けること
ができる。さらに、主通路において付加通路の合
流口の後ろに少なくとも１つの組込み素子を設け
ることができ、この組込み素子は、下流へ拡大す
る渦系により部分流の混合を行なう。

装置が、互いに平行して共通の主通路へ開口し
ている複数の付加通路を持つ場合は、本発明によ
ればそれぞれ１つの組込み素子が、隣接している
部分流の流通断面間の境界流面に設けられる。こ
の場合、付加通路は互いに並んで主通路へ開口し
あるいは互いに同心的に延びることができ、後者
の場合には複数の組込み素子が、環状に閉じられ
ている境界流面に均一に分布して設けられてい
る。混合距離を短縮するために、混合を強烈にす
るためにかつ好ましくない旋回を防止するため
に、本発明の別の特徴によれば、主通路におい
て、境界流面に設けられた組込み素子の下流に、
逆の入射方向を持つ別の組込み素子を設けること
ができる。

特に煙突へ至る煙道ガス供給管路の場合のよう
に互いに平行して共通の主通路へ開口している複
数の付加通路を持つ装置においては、本発明によ
れば、各付加通路の合流口範囲に組込み素子が設
けられる。これらの組込み素子は、本発明による
渦系を構成することにより、各部分流間の流量比
が変化する際にも状態量特に硫黄含有量の異なる
煙道ガス流の確実かつ強烈な混合を行なう。

狭くなる主通路の側方に複数の付加通路が接続
されている場合は、部分流の境界流面にそれぞれ
１つの組込み素子を設けることが本発明により提
案されており、生ずる渦形の向きを狭隘部のノズ
ル作用に合わせることができる。

主通路の側方へ開口している複数の付加通路を
持つ装置においては、本発明の別の提案によれ
ば、付加通路の管片は主通路内へ突出することが
できかつこの管片の湾曲部を、それぞれ１つの不
連続渦系を発生させるように構成することができ
る。この場合組込み素子は付加通路の管片により
形成されるので、本発明のように面あるいは物体
の縁により渦パルスを発生させる代わりに、この
場合は湾曲部が渦パルスの発生に利用される。主
通路内へ突出している管片の長さはなるべく主通
路の直径の10％から25％の間にあるのが好まし
く、管片から出る部分流は、主通路を流れる媒体
の部分に作用して渦を形成させる。管片は円形断
面あるいは角形断面（３角形、４角形あるいはそ
れ以上の多角形）を持つことができかつ渦形成の
ためのパルスを大きくするために管片の湾曲面に
縁の鋭い条片を備えることができる。

本発明による方法によつて面の少なくとも１つ
の縁により渦パルスを発生させようとする場合
は、組込み素子を、主流方向に延びている成分お
よび主流方向に対して直角に延びている成分を持
つように延びている縁を有する面として構成する
ことが本発明により提案されている。組込み素子
はなるべく主流方向に延びている対称面を有しか
つ対称的に延びている縁を持つているのが好まし
い。本発明によれば組込み素子を円形、楕円形、
卵形、放物線形あるいは菱形の基本形状で構成す
ることができる。本発明の別の特徴により組込み
素子が、主流方向に対して逆に向いている先端を
持つデルタ形に構成されている場合は、特に良い
作用が生ずる。組込み素子の安定性を高めるため
に、組込み素子は断面をＶ字状に構成されかつ
（あるいは）折曲げ縁を備えることができる。

本発明の実施例を図面により以下に説明する。

第１図および第２図に示された第１の実施例
は、断面が方形の主通路１を示しており、この主
通路に付加通路２が接続角βをなして接続されて
いる。主通路１に部分流Q₁が流入し、この部分
流へ付加通路２を通つて部分流Q₂が付加される。

付加通路２の合流口範囲にデルタ形組込み素子
３が設けられており、この組込み素子は部分流
Q₁の流れ方向に対して入射角αをなして傾斜せ
しめられかつ先端が流通方向とは逆に向いてい
る。この組込み素子３は、図示してない保持素子
例えば棒によつて、通路１または２の壁に固定例
えばねじ止めすることができる。組込み素子３の
この先端は、主通路１の連続している壁に対し距
離ｂを持ちかつ合流する付加通路２の下縁に対し
て没入深さｈだけ合流個所の前において主通路１
内へ没入している。

主流方向に対して対称的に延びかつ主流方向に
延びている成分と主流方向に対して直角に延びて
いる成分とを持つている２つの前縁が、流れ剥離
線を形成する流れ剥離縁として、渦パルスを発生
させ、この渦パルスは、第１図に概略的に示され
ているように、主通路１の下流へ流れ方向に対し
て直角に広がつて渦系になる。この渦系の成分は
部分流Q₁の主流方向に対して直角に部分流Q₂の
流通断面に入り込むので、部分流Q₁およびQ₂は
集合後強烈に混合される。この場合デルタ形組込
み素子３は部分流Q₁の重要な転向あるいは偏向
を行なわず、前述の渦系により混合を行ない、こ
の渦系は、組込み素子３がない場合のように両部
分流Q₁およびQ₂が主通路１の上部において互い
に並んで流れるのを防止する。部分流Q₂にも渦
パルスを発生させるためにかつ部分流Q₂の残流
が混合されずに主通路１の壁に沿つて上方へ流れ
るのを防止するために、組込み素子３の上縁は付
加通路２の合流口に比較的そばに近寄る。図は、
このような残流が、下流へ拡大する渦系により防
止されることを示している。

第３図による第２の実施例では、側方付加通路
２が接続角βをなして主通路１に接続されてい
る。しかしこの場合は２つのデルタ形組込み素子
３が主通路１内に存在しており、これらの組込み
素子は主通路１内で渦形成を行なうので、付加通
路２から付加される部分流Q₂は、主通路１の下
部へ付加される部分流Q₁と強烈に混合される。
この場合両組込み素子３のうち下側組込み素子が
大体において部分流Q₁内に渦パルスを発生させ、
それに対して上側組込み素子３は大体において部
分流Q₂内に拡大する渦系を発生させる。

第４図による第３の実施例においても、付加通
路２は鋭角の接続角βをなして主通路１に接続さ
れている。部分流Q₁において組込み素子３によ
り渦系が発生される。第３図による実施例と異な
り、部分流Q₂における渦系は、一部が付加通路
２内へ突出しかつ第３図による上側組込み素子と
は逆に傾斜せしめられている組込み素子３により
発生される。この実施例では、付加的な第３の組
込み素子３を、第４図に破線で示したように、主
通路１における付加通路２の合流口の後ろに設け
ることができる。この付加的な組込み素子３は付
加的な渦形成により混合距離を短縮する。

第５図による実施例では、２つの付加通路２
ａ，２ｂがそれぞれ接続角β₁およびβ₂をなしてか
つ主通路１の長手方向に距離ａだけずらされて、
連続している主通路１に接続されている。各付加
通路２ａ，２ｂの合流口範囲にデルタ形組込み素
子３が設けられており、この組込み素子は、第５
図に示したように、渦系を発生させ、この渦系が
部分流Q_2aおよびQ_2bを部分流Q₁に強烈に混合す
る。これらの組込み素子３は一部がそれぞれの付
加通路２ａ，２ｂ内へ突出しているので、混合距
離が短縮される。

第６図による第５の実施例によれば、主通路１
に３つの付加通路２ａ，２ｂ，２ｃを空間的に共
通に接続する場合は、主通路１の全断面にわたつ
て延びている渦系を発生させる複数のデルタ形組
込み素子３を合流口範囲の後ろに設ければ充分で
ある。第６図による実施例では、主通路１内で部
分流Q_2a，Q_2bおよびQ_2cが混合され、この場合付
加通路２ａ，２ｂ，２ｃが異なる接続角をなして
主通路１に接続されかつ異なる流通断面を持つて
いる。

第７図による別の実施例では、主通路１が、鋭
角をなしてかつ対称的に突合う２つの付加通路２
ａおよび２ｂにより形成され、これらの付加通路
を通つてそれぞれ部分流Q_2aおよびQ_2bが主通路
１へ流れていく。この実施例では、２つのデルタ
形組込み素子３が付加通路２ａおよび２ｂの合流
口範囲に設けられており、これらの組込み素子は
合流口範囲の少し後ろに交差する渦系を形成しか
つ部分流Q_2aおよびQ_2bを強烈に混合する。

第８図による実施例には、互いに逆に向けられ
た部分流Q_2aおよびQ_2bの２つの付加通路２ａお
よび２ｂが示されており、これらの部分流は直角
に分岐する主通路１に流入する。部分流Q_2aおよ
びQ_2bを混合するためにデルタ形組込み素子３が
設けられており、この組込み素子の縁が渦系を発
生させ、この渦系が部分流Q_2aおよびQ_2bを少な
い損失で混合することができる。

第９図および第１０図による実施例では、主通
路１が方形断面を持つ３つの付加通路２ａ，２ｂ
および２ｃにより形成され、これらの付加通路は
互いに平行してかつ並んで主通路１へ開口してい
るが、しかし前では異なる方向から集合せしめら
れる。この実施例では、複数のデルタ形組込み素
子３が、隣接している部分流Q_2aとQ_2bまたはQ_2b
とQ_2cとの間の境界流面に設けられている。これ
らの組込み素子は縦断面図では下側組込み素子３
であり、平面図では４つの中央組込み素子３であ
る。これらの組込み素子３の作用を助長しかつ混
合距離を短縮するために、第９図および第１０図
による実施例では境界流面に設けられた組込み素
子３の他に別の組込み素子３ａが主通路１の下部
に設けられており、これらの組込み素子は下側組
込み素子３とは逆に流れ方向に傾斜せしめられか
つ部分流Q_2aおよびQ_2cを一層早く混合させる。

第９図および第１０図による互いに平行してか
つ互いに並んで主通路１へ開口している付加通路
の代わりに、第１１図および第１２図による実施
例により、付加通路２を主通路１に対して同心的
に設けることによつても部分流Q₁を部分流Q₂へ
付加することができる。この場合にも、デルタ形
組込み素子３は、環状に閉じられている境界流面
に、第１２図の平面図に示したように、均一に分
布して設けられている。渦系の形成は第１１図に
示されており、それに対して組込み素子３の回転
対称的配置が第１２図から最も良く分かる。

第１３図および第１４図による実施例は、断面
が円形の主通路１を示しており、この主通路は例
えば煙突の下部であり、この下部へ下方から、互
いに同じ大きさの円形流通断面を持つ３つの付加
通路２ａ，２ｂ，２ｃが、互いに平行して開口し
ている。主通路１の流通断面は付加通路２ａ，２
ｂ，２ｃの流通断面の和より大きい。主通路１に
おいて部分流Q_2a，Q_2bおよびQ_2cを強烈に混合す
るために、各付加通路２ａ，２ｂ，２ｃの合流口
範囲にデルタ形組込み素子３が設けられている。
付加通路２ａ，２ｂ，２ｃの合流口におけるこれ
らの組込み素子３の向きは、部分流Q_2a，Q_2bお
よびQ_2cのその都度の流量に応じて決められる。

第１８ｃ図に、第１３図および第１４図の実施
例によるモデル測定の煙濃度が線図で示されてい
る。第１８ａ図および第１８ｂ図はモデル実験に
対する種々の特性量を示しており、このモデル実
験では煙のある部分流Q_2aが認められ、それに対
して煙のない部分流Q_2bおよびQ_2cは付加通路２ｂ
および２ｃを通つて送られている。測定素子によ
り、第１８ａ図の対角線ｓ−ｓに沿つてかつ主通
路１の直径の2.5倍に相当する高さＨの所で煙濃
度が測定されている。

第１８ｃ図の線図のほぼ水平に延びている曲線
は、煙が付加通路２ａを通つて主通路１へ偏心的
に導入されるにもかかわらず、組込み素子３によ
り部分流Q_2a，Q_2bおよびQ_2cが完全に混合される
ことを示しており、この場合、ほぼ水平に延びて
いる曲線の比較的強く現われている山および谷
は、測定面においてデルタ形組込み素子３により
局部的に渦が形成されていることを示している。
第１８ｃ図の線図においてＳ字状にかつ対角線上
に延びている曲線は、組込み素子３のない状態を
示している。この場合、主通路１の左側部分にか
つ主通路１の直径の2.5倍に相当する高さＨの距
離の所にほぼ100％の煙濃度があることが分かる。
したがつて部分流Q_2a，Q_2bおよびQ_2cを少ない損
失でかつ強烈に混合する組込み素子３の作用が、
第１８ｃ図の線図から良く分かる。

第１５図による実施例では、主通路１が下流側
において複数の付加通路２の接続部の後ろで狭く
なつて流出通路１ａになつており、これらの付加
通路２はそれぞれ主通路１より著しく小さい横断
面を持つている。この場合、破線で示された各境
界流面の範囲にそれぞれ１つの組込み素子３が設
けられているので、狭くされた流出通路１ａの方
向に向いている渦系が生ずる。

これまでの実施例では、組込み素子は鋭い縁を
持つデルタ形面として構成されているが、第１６
図および第１７図による実施例では、渦パルスを
発生させるために湾曲面が使用され、この渦パル
スが下流へ流れ方向に対して直角に広がつて不連
続渦系になる。図は、断面が円形の主通路１を示
しており、この主通路に全部で６つの付加通路２
が半径方向にかつ直角に接続されている。これら
の付加通路２の各管片４が主通路１内へ突出して
いる。これらの管片４の湾曲面はそれぞれの不連
続渦系を発生させるのに役立ち、この渦系は下流
へ広がりかつ付加通路２を通つて導入される部分
流Q₂を部分流Q₁と良く混合する。管片４は、第
２５図ないし第２７図に示したように、円形、４
角形あるいは３角形の断面を持つことができる。
断面が円形あるいは卵形の管片４は、第２８図に
示したように、外面になるべく縁の鋭い２つの条
片４ａを備えているのが有利であり、これらの条
片は鋭い縁として役立ちかつ渦系を発生させるた
めのパルスを大きくする。

最後に、第１９図ないし第２２図には扁平な組
込み素子３の４種類の実施例が示されている。こ
れらの図から、これまで説明したデルタ形構成の
代わりに組込み素子３を円形、卵形、放物線形あ
るいは菱形に構成することも可能であることが分
かる。第２３図によれば、組込み素子３は、安定
性を高めるために、Ｖ字状断面で構成することが
できる。さらに、組込み素子３に、第２４図に示
したように、折曲げ縁３ｂを備えることができ、
これらの折曲げ縁は一方では安定性を高め、他方
では充分強い渦パルスを発生させる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、連続している主通路と鋭角をなして
接続されている付加通路とを持つ第１の実施例の
縦断面図、第２図は、第１図による装置の平面
図、第３図は、連続している主通路と側方で鋭角
をなして接続されている付加通路とを持つ第２の
実施例の縦断面図、第４図は、連続している主通
路と側方で鋭角をなして接続されている付加通路
とを持つ第３の実施例の縦断面図、第５図は、連
続している主通路に２つの側方付加通路が互いに
ずらされてかつ鋭角をなして接続されている別の
実施例の縦断面図、第６図は、３つの付加通路が
異なる角をなして接続されている主通路の縦断面
図、第７図は、対称的にかつ鋭角をなして集合せ
しめられている２つの付加通路につながる主通路
の縦断面図、第８図は、互いに向き合う２つの付
加通路が、直角に突出している主通路へ開口して
いる別の実施例の縦断面図、第９図は、不変の流
通断面を持ちかつ異なる角度をなして開口してい
る３つの方形付加通路から構成されている主通路
の縦断面図、第１０図は、第９図による主通路の
平面図、第１１図は、不変の横断面を持ちかつ互
いに同心的に延びている２つの付加通路により構
成されている主通路の縦断面図、第１２図は、第
１１図による主通路の平面図、第１３図は、横断
面は円形であるがしかし横断面積は小さい３つの
付加通路が開口している円形横断面を持つ主通路
の下側部分の縦断面図、第１４図は、第１３図に
よる主通路の平面図、第１５図は、狭くなる横断
面を持ちかつ側方で接続されている複数の付加通
路を持つ主通路の縦断面図、第１６図は、管片が
主通路内へ突出しかつ任意の横断面を持つ６つの
付加通路が接続されている円形横断面を持つ主通
路の縦断面図、第１７図は、第１６図による主通
路の平面図、第１８ａ図は、煙濃度のモデル測定
の対象としての装置の平面図、第１８ｂ図は、煙
濃度のモデル測定の対象としての装置の縦断面
図、第１８ｃ図は、第１８ａ図に平面図として示
されかつ第１８ｂ図に縦断面図として示されてい
るモデルの対角線ｓ−ｓ上の高さｈの所で測定さ
れた煙濃度のモデル測定の線図、第１９図ないし
第２２図は、組込み素子の４種類の基本形状の平
面図、第２３図および第２４図はそれぞれ組込み
素子の横断面図、第２５図ないし第２８図は４つ
の管状組込み素子の横断面図である。 １……主通路、２……付加通路、３……組込み
素子。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 状態量の異なる少なくとも２つの部分流Q₁
   およびQ₂のうち少なくとも一方の部分流Q₁また
   はQ₂の流通断面に、少なくとも１つの組込み素
   子３または３ａにより、下流へ流れ方向に対して
   直角に広がつて不連続な渦系になる渦パルスを発
   生し、前記一方の部分流の主流方向に対して直角
   な渦系成分を他方の部分流Q₂またはQ₁の流通断
   面へ入り込ませることを特徴とする、状態量の異
   なる少なくとも２つの部分流を混合する方法。 ２ 渦パルスを組込み素子の少なくとも１つの湾
   曲面により発生することを特徴とする、特許請求
   の範囲第１項に記載の方法。 ３ 渦パルスを面あるいは立体として形成される
   組込み素子３，３ａの少なくとも１つの縁により
   発生することを特徴とする、特許請求の範囲第１
   項に記載の方法。 ４ デルタ組込み素子３，３ａの互いに鋭角をな
   して延びる２つの流れ剥離縁により渦パルスを発
   生することを特徴とする、特許請求の範囲第１項
   および第３項のうち１つに記載の方法。 ５ 状態量の異なる少なくとも２つの部分流Q₁
   およびQ₂のうち少なくとも一方の部分流Q₁また
   はQ₂の流通断面に、少なくとも１つの組込み素
   子３または３ａにより、下流へ流れ方向に対して
   直角に広がつて不連続な渦系になる渦パルスを発
   生し、前記一方の部分流の主流方向に対して直角
   な渦系成分を他方の部分流Q₁またはQ₁へ入り込
   ませるものにおいて、不連続な渦系を発生する組
   込み素子３，３ａが、前記一方の部分流Q₁また
   はQ₂の主流方向に対して直角に向く成分を有す
   る少なくとも１つの剥離縁を持つていることを特
   徴とする、状態量の異なる少なくとも２つの部分
   流を混合する装置。 ６ 連続している主通路が、一方の部分流の付加
   通路であり、他方の部分流用の少なくとも１つの
   付加通路が主通路の側方に接続され、少なくとも
   １つの組込み素子３，３ａが付加通路２，２ａ，
   ２ｂ，２ｃあるいは主通路１内の少なくとも１つ
   の部分流Q₁，Q₂の流通断面に設けられているこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第５項に記載の
   装置。 ７ 組込み素子３が主通路１において付加通路２
   の合流口の範囲に設けられかつ全部分流Q₁，Q₂
   の流通断面に入り込むことを特徴とする、特許請
   求の範囲第５項および第６項のうち１つに記載の
   装置（第１図および第２図）。 ８ 各部分流Q₂の流通断面に少なくとも１つの
   組込み素子３が設けられていることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第５項に記載の装置（第３
   図、第４図および第７図）。 ９ 主通路１の側方に接続されている各付加通路
   ２ａ，２ｂの流通断面にそれぞれ１つの組込み素
   子３が設けられていることを特徴とする、特許請
   求の範囲第５項および第６項のうち１つに記載の
   装置（第５図）。 １０ 主通路１において付加通路２ａ，２ｂ，２
   ｃの合流口の後ろに少なくとも１つの組込み素子
   ３が設けられていることを特徴とする、特許請求
   の範囲第５項に記載の装置（第６図および第８
   図）。 １１ 複数の付加通路が互いに平行して共通の主
   通路へ開口し、それぞれ少なくとも１つの組込み
   素子３が、隣接している部分流Q_2a，Q_2b，Q_2cの
   流通断面間の境界流面に設けられていることを特
   徴とする、特許請求の範囲第５項に記載の装置
   （第９図および第１０図）。 １２ 付加通路２ａ，２ｂ，２ｃが互いに並んで
   主通路１へ開口していることを特徴とする、特許
   請求の範囲第１１項に記載の装置（第９図および
   第１０図）。 １３ 付加通路２が互いに同心的に延びかつ複数
   の組込み素子３が、環状に閉じられている境界流
   面に均一に分布して設けられていることを特徴と
   する、特許請求の範囲第１１項に記載の装置（第
   １１図および第１２図）。 １４ 主通路１において、境界流面に設けられた
   組込み素子３の下流に、逆の入射方向を持つ別の
   組込み素子３ａが設けられていることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第１１項ないし第１３項のう
   ち１つに記載の装置（第９図および第１０図）。 １５ 複数の付加通路、特に煙突へ至る煙道ガス
   供給管路が、互いに平行して共通の主通路へ開口
   し、各付加通路２ａ，２ｂ，２ｃの合流口範囲に
   組込み素子３が設けられていることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第５項に記載の装置（第１３
   図および第１４図）。 １６ 複数の付加通路が主通路の側方において狭
   隘部の前へ開口し、それぞれ１つの組込み素子３
   が部分流Q₂の境界流面に設けられていることを
   特徴とする、特許請求の範囲第５項に記載の装置
   （第１５図）。 １７ 複数の付加通路が主通路の側方へ開口し、
   付加通路２の管片４が主通路内へ突出し、この管
   片４の湾曲面が、それぞれ１つの不連続渦系を発
   生させるように構成されていることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第５項に記載の装置（第１６
   図および第１７図）。 １８ 管片４が円形断面あるいは角形断面を持つ
   ていることを特徴とする、特許請求の範囲第１７
   項および第１８項のうち１つに記載の装置（第２
   ８図）。 １９ 管片４が湾曲面に縁の鋭い条片４ａを備え
   ていることを特徴とする、特許請求の範囲第１７
   項および第１８項のうち１つに記載の装置（第２
   ８図）。 ２０ 組込み素子３，３ａが、主流方向に延びて
   いる成分および主流方向に対して直角に延びてい
   る成分を持つように延びている縁を有する面とし
   て構成されていることを特徴とする、特許請求の
   範囲第５項ないし第１６項のうち１つに記載の装
   置。 ２１ 組込み素子３，３ａが、主流方向に延びて
   いる対称面を有しかつ対称的に延びている縁を持
   つていることを特徴とする、特許請求の範囲第２
   ０項に記載の装置。 ２２ 組込み素子３，３ａが、円形、楕円形、卵
   形、放物線形あるいは菱形の基本形状で構成され
   ていることを特徴とする、特許請求の範囲第２０
   項および第２１項のうち１つに記載の装置（第１
   ９図ないし第２２図）。 ２３ 組込み素子３，３ａが、主流方向に対して
   逆に向いている先端を持つデルタ形に構成されて
   いることを特徴とする、特許請求の範囲第２０項
   および第２１項のうち１つに記載の装置。 ２４ 組込み素子３，３ａが断面をＶ字状に構成
   されかつ（あるいは）折曲げ縁３ｂを備えている
   ことを特徴とする、特許請求の範囲第２０項ない
   し第２３項のうち１つに記載の装置（第２３図お
   よび第２４図）。