JPH02265619A - 無触媒脱硝における還元剤の制御法 - Google Patents
無触媒脱硝における還元剤の制御法Info
- Publication number
- JPH02265619A JPH02265619A JP1085683A JP8568389A JPH02265619A JP H02265619 A JPH02265619 A JP H02265619A JP 1085683 A JP1085683 A JP 1085683A JP 8568389 A JP8568389 A JP 8568389A JP H02265619 A JPH02265619 A JP H02265619A
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- Japan
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- reducing agent
- gas liquor
- amount
- denitrification
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、安水を噴霧し、窒素酸化物を除去するごみ焼
却炉の無触媒脱硝設備において、還元剤注入ポンプ(以
下安水ポンプという)の吐出量を安定化し、還元剤を制
御する方法に関するものである。
却炉の無触媒脱硝設備において、還元剤注入ポンプ(以
下安水ポンプという)の吐出量を安定化し、還元剤を制
御する方法に関するものである。
[従来の技術]
都市ごみ焼却炉から排出される燃焼排ガス中の窒素酸化
物(NO>の濃度は、通常150 ppm(0□12%
換算値、以下同様)前後であるが、近年、規制がますま
す厳しくなる傾向にある。
物(NO>の濃度は、通常150 ppm(0□12%
換算値、以下同様)前後であるが、近年、規制がますま
す厳しくなる傾向にある。
その為、都市ごみ焼却炉の排ガス中のNO除去が大きな
問題となっている。
問題となっている。
排ガス中のNO低減技術としては、燃焼方法の改善によ
りNOの発生を抑制する方法と燃焼排ガス中のNo
を積極的に除去する無触媒還元脱硝による方法がある。
りNOの発生を抑制する方法と燃焼排ガス中のNo
を積極的に除去する無触媒還元脱硝による方法がある。
この無触媒還元脱硝方法は
(1)設°備が簡単で保守にほとんど手が掛からない。
(2)通常運転中の操作は不要
(3)還元剤、添加量の自動制御により安定した脱硝効
率が得られる。
率が得られる。
(4)維持管理費が紙庫
等多くの利点を持っている。
上記の無触媒還元脱硝方法は、高温の燃焼ガス中に、ア
ンモニアガス、アンモニア水等の還元剤を焼却炉に吹込
み700〜850℃にて、次の反応式により、排ガス中
のNo を無害なN とH20に分解して除去する方
法である。
ンモニアガス、アンモニア水等の還元剤を焼却炉に吹込
み700〜850℃にて、次の反応式により、排ガス中
のNo を無害なN とH20に分解して除去する方
法である。
4NH+4NO+O−4N2+6H20第2図に無触媒
還元脱硝設備の模式図を示す。
還元脱硝設備の模式図を示す。
第2図に示すように、アンモニアタンクのアンモニア水
(25%濃度、以下安水という)は二流体噴霧ノズルで
圧縮空気により霧化されて、焼却炉のガス混合室に噴霧
する。
(25%濃度、以下安水という)は二流体噴霧ノズルで
圧縮空気により霧化されて、焼却炉のガス混合室に噴霧
する。
還元剤(アンモニアガス)噴霧量と脱硝率の関係を第3
図に示す。還元剤噴霧量の増加に伴い脱硝効率も向上す
る。
図に示す。還元剤噴霧量の増加に伴い脱硝効率も向上す
る。
また温度条件によって異なるが、アンモニア噴霧量をN
H3/NOx比を1,2〜1.5以上にすると、未反応
アンモニアと塩化水素が反応して塩化アンモニウムの白
煙を生ずるのでNH3/NOx比を1.2〜1.5以下
に抑える必要がある。
H3/NOx比を1,2〜1.5以上にすると、未反応
アンモニアと塩化水素が反応して塩化アンモニウムの白
煙を生ずるのでNH3/NOx比を1.2〜1.5以下
に抑える必要がある。
また[N)I3/NoX比]をパラメータとした反応域
温度と脱硝率の関係を第4図に示す。
温度と脱硝率の関係を第4図に示す。
第4図に示すように、反応域温度と脱硝率の関係は85
0℃近辺で極大値を示す。反応域温度を750〜900
℃程度に維持し、アンモニア噴霧量をNH3/NOx比
が最大1.2程度の条件で運転することにより、白煙を
生ずること無く約30〜70%のNo を除去するこ
とが可能である。
0℃近辺で極大値を示す。反応域温度を750〜900
℃程度に維持し、アンモニア噴霧量をNH3/NOx比
が最大1.2程度の条件で運転することにより、白煙を
生ずること無く約30〜70%のNo を除去するこ
とが可能である。
[発明が解決しようとする課題]
上記の従来のごみ焼却炉の排ガス中のNO除去する無触
媒還元脱硝法においては、安水を直動。
媒還元脱硝法においては、安水を直動。
油圧ダイヤフラム式等による定量ポンプによって、焼却
炉に吹込んでいた。
炉に吹込んでいた。
この場合、安水ポンプは通常ストローク長により安水吐
出量の制御をしているが、第5図(a)に示すように、
ポンプ吐出量の25〜20%の範囲以下では制御性が充
分でないことがわかっている。
出量の制御をしているが、第5図(a)に示すように、
ポンプ吐出量の25〜20%の範囲以下では制御性が充
分でないことがわかっている。
これをカバーするために、回転数十ストローク長による
制御法があるが、これも第5図(b)に示すように、ポ
ンプ吐出量の約5%以下の範囲では制御性が充分でなく
、また右運転上経済的でないことも明らかとなっている
。
制御法があるが、これも第5図(b)に示すように、ポ
ンプ吐出量の約5%以下の範囲では制御性が充分でなく
、また右運転上経済的でないことも明らかとなっている
。
一方、焼却炉の運転によっては、発生No が微量の
ため、No 発生濃度によっては、無触媒脱硝設備に
おける安水吹込量が微量となるため、安水の脈動や、こ
の為ノズルの詰まり及び焼損等の問題が生ずる。これを
防止するための安定した安水ポンプ吐出量を確保するこ
とは、従来の回転数+ス・トローク長による制御法によ
っても困難である。
ため、No 発生濃度によっては、無触媒脱硝設備に
おける安水吹込量が微量となるため、安水の脈動や、こ
の為ノズルの詰まり及び焼損等の問題が生ずる。これを
防止するための安定した安水ポンプ吐出量を確保するこ
とは、従来の回転数+ス・トローク長による制御法によ
っても困難である。
即ち本発明の目的は、窒素酸化物を除去するごみ焼却炉
の無触媒脱硝設備において、−元側注入ポンプの吐出量
を安定化し、還元剤を制御し、NO゛の低減を図るため
の方法を提供することにある。
の無触媒脱硝設備において、−元側注入ポンプの吐出量
を安定化し、還元剤を制御し、NO゛の低減を図るため
の方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、
還元剤の安水を安水ポンプにより焼却炉内に噴霧し、窒
素酸化物を除去する無触媒脱硝方法において、 還元剤注入ポンプの吸込口と還元剤貯留槽との間の配管
に、安水噴霧量が微量な時に清水を添加しつるように清
水を添加する配管を設けたことを特徴とする無触媒脱硝
における還元剤の制御法である。
素酸化物を除去する無触媒脱硝方法において、 還元剤注入ポンプの吸込口と還元剤貯留槽との間の配管
に、安水噴霧量が微量な時に清水を添加しつるように清
水を添加する配管を設けたことを特徴とする無触媒脱硝
における還元剤の制御法である。
[作用]
本発明の無触媒脱硝における還元剤の制御法においては
、還元剤注入ポンプの吸込口と還元剤貯留槽の間の配管
に、清水を添加する配管を設けたので、この配管により
、NO発生量が少なく、! 安水噴霧量が微量な時に、清水を添加しうるようになっ
たので安水量が増え、安水ポンプの運転性能を制御性の
良い範囲に移行させられるものである。
、還元剤注入ポンプの吸込口と還元剤貯留槽の間の配管
に、清水を添加する配管を設けたので、この配管により
、NO発生量が少なく、! 安水噴霧量が微量な時に、清水を添加しうるようになっ
たので安水量が増え、安水ポンプの運転性能を制御性の
良い範囲に移行させられるものである。
次に本発明の実施例について述べる。
[実施例]
第1図は本発明の実態様例であるNo 低減刃法を適
用した無触媒脱硝における還元剤の制御法の説明図であ
る。
用した無触媒脱硝における還元剤の制御法の説明図であ
る。
第1図において、1は安水タンク、2は安水ポンプ、3
は清水配管、4は圧縮空気配管、5は調整弁、6は流量
計、7は安水配管、8は安水吹込ノズル、9は電磁弁、
10は安水吸込管である。
は清水配管、4は圧縮空気配管、5は調整弁、6は流量
計、7は安水配管、8は安水吹込ノズル、9は電磁弁、
10は安水吸込管である。
第1図に示すように、通常は安水タンク1から安水ポン
プ2により、安水(25%濃度)を安水配管7を通して
、安水吹込ノズル8に導き、圧縮空気配管4の圧縮空気
により霧化され、焼却炉内に噴霧される。
プ2により、安水(25%濃度)を安水配管7を通して
、安水吹込ノズル8に導き、圧縮空気配管4の圧縮空気
により霧化され、焼却炉内に噴霧される。
次に安水が微量吹込みとなった場合、電磁弁9を全開と
して安水吸込管10に清水を供給する。
して安水吸込管10に清水を供給する。
調整弁5は前もって開度調整し流量計6により確認する
。
。
[発明の効果]
本発明の無触媒脱硝における還元剤の制御法によれば、
微量安水吹込み時従来の安水ポンプの制御性の悪さ、安
水の脈動等が安水配管に清水配管を接続し清水を供給す
ることにより、容易に改善出来るものである。
微量安水吹込み時従来の安水ポンプの制御性の悪さ、安
水の脈動等が安水配管に清水配管を接続し清水を供給す
ることにより、容易に改善出来るものである。
また安水を清水にてうすめ、吹込み量が増したことによ
り吹込圧力が上り、その結果安水の噴霧粒子が微細とな
り、広範囲に噴霧されることにななり、炉内排ガスとよ
り良い混合状態を作ることが出来、脱硝効率の向上につ
ながる等の効果を奏するものである。
り吹込圧力が上り、その結果安水の噴霧粒子が微細とな
り、広範囲に噴霧されることにななり、炉内排ガスとよ
り良い混合状態を作ることが出来、脱硝効率の向上につ
ながる等の効果を奏するものである。
第1図は本発明の実態様例である無触媒脱硝における還
元剤の制御法の系統説明図、第2図は無触媒還元脱硝設
備の模式図、第3図は還元剤噴霧量と脱硝率の関係図、
第4図は[N)I3/Nox比]をパラメータとした反
応域温度と脱硝率の関係図、第5図(a) 、 (b)
は夫々ポンプの制御説明図である。 図において、1:安水タンク、2:安水ポンプ、3:清
水配管、4:圧縮空気配管、5:調整弁、6;流量計、
7:安水配管、8:安水吹込ノズル、9:電磁弁、10
:安水吸込管。
元剤の制御法の系統説明図、第2図は無触媒還元脱硝設
備の模式図、第3図は還元剤噴霧量と脱硝率の関係図、
第4図は[N)I3/Nox比]をパラメータとした反
応域温度と脱硝率の関係図、第5図(a) 、 (b)
は夫々ポンプの制御説明図である。 図において、1:安水タンク、2:安水ポンプ、3:清
水配管、4:圧縮空気配管、5:調整弁、6;流量計、
7:安水配管、8:安水吹込ノズル、9:電磁弁、10
:安水吸込管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 還元剤の安水を安水ポンプにより焼却炉内に噴霧し、窒
素酸化物を除去する無触媒脱硝方法において、 前記還元剤注入ポンプの吸込口と還元剤貯留槽との間の
配管に、前記安水噴霧量が微量な時に清水を添加しうる
ように該清水を添加する配管を設けたことを特徴とする
無触媒脱硝における還元剤の制御法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085683A JPH02265619A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 無触媒脱硝における還元剤の制御法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085683A JPH02265619A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 無触媒脱硝における還元剤の制御法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265619A true JPH02265619A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13865646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1085683A Pending JPH02265619A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 無触媒脱硝における還元剤の制御法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265619A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6432373B1 (en) | 1992-03-27 | 2002-08-13 | Tokyo Gas Co., Ltd. | Method for removing nitrogen oxides from exhaust gas |
| WO2007093410A1 (de) | 2006-02-18 | 2007-08-23 | Daimler Ag | Dosiervorrichtung und verfahren zum betrieb derselben |
-
1989
- 1989-04-06 JP JP1085683A patent/JPH02265619A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6432373B1 (en) | 1992-03-27 | 2002-08-13 | Tokyo Gas Co., Ltd. | Method for removing nitrogen oxides from exhaust gas |
| WO2007093410A1 (de) | 2006-02-18 | 2007-08-23 | Daimler Ag | Dosiervorrichtung und verfahren zum betrieb derselben |
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