JPH0226767B2 - - Google Patents
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- JPH0226767B2 JPH0226767B2 JP56052924A JP5292481A JPH0226767B2 JP H0226767 B2 JPH0226767 B2 JP H0226767B2 JP 56052924 A JP56052924 A JP 56052924A JP 5292481 A JP5292481 A JP 5292481A JP H0226767 B2 JPH0226767 B2 JP H0226767B2
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- JP
- Japan
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- ribbon
- magnetic permeability
- amorphous
- alloy
- constant magnetic
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15308—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Fe/Ni
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- Electromagnetism (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は恒透磁性のすぐれたアモルフアス合金
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
恒透磁性とは透磁率が磁界Ｈの大きさに強く依
存せずほぼ一定な性質のことであるが、この特徴
を生かして通信機の波回路、サイリスタ保護回
路、パルストランス等の磁心として使用されてい
る。このような特性を有する材料としては従来イ
ソパームと呼ばれるFe−60Ni合金がよく知られ
ている。しかしこの材料は恒透磁率範囲がたかだ
か10Oeまでと狭く、広範囲な用途に対応できな
い憾みがあつた。
存せずほぼ一定な性質のことであるが、この特徴
を生かして通信機の波回路、サイリスタ保護回
路、パルストランス等の磁心として使用されてい
る。このような特性を有する材料としては従来イ
ソパームと呼ばれるFe−60Ni合金がよく知られ
ている。しかしこの材料は恒透磁率範囲がたかだ
か10Oeまでと狭く、広範囲な用途に対応できな
い憾みがあつた。
本発明はこのような従来一般に使用されている
恒透磁性材料よりはるかに広い範囲にわたつて恒
透磁性を有する材料の製造法に関するものであ
る。
恒透磁性材料よりはるかに広い範囲にわたつて恒
透磁性を有する材料の製造法に関するものであ
る。
すなわち本発明はFeを主成分とし、これにAl
を0.3〜５原子％含有し、さらにＰ、Ｃ、Ｂ、Si
等の半金属を13〜25％含有する合金を溶融し、酸
化性雰囲気中（例えば大気中）で急冷し薄帯を製
造するか、あるいは前述のようにして薄帯を製造
した後、該薄帯を250℃〜結晶化温度で１〜120分
間焼鈍することを特徴とする恒透磁性のすぐれた
アモルフアス合金の製造法に関するものである。
を0.3〜５原子％含有し、さらにＰ、Ｃ、Ｂ、Si
等の半金属を13〜25％含有する合金を溶融し、酸
化性雰囲気中（例えば大気中）で急冷し薄帯を製
造するか、あるいは前述のようにして薄帯を製造
した後、該薄帯を250℃〜結晶化温度で１〜120分
間焼鈍することを特徴とする恒透磁性のすぐれた
アモルフアス合金の製造法に関するものである。
以下本発明の要旨を説明する。
本発明の恒透磁性アモルフアス合金を製造する
には、先ず原料として0.3〜５原子％のAlとＰ、
Ｃ、Ｂ、Si等の半金属の一種または二種以上を合
計で13〜25原子％、残部Feを用意し溶融し、公
知の液体急冷法（遠心急冷法、双ロール法、片ロ
ール法等）を用いて酸化性雰囲気中で104〜106
℃／secの冷却速度で鋳造しアモルフアス薄帯を
製造する。あるいは前述のようにして一旦アモル
フアス薄帯を製造した後、さらに該薄帯を250℃
〜結晶化温度で１〜120分間酸化性雰囲気中で焼
鈍することによつて製造する。
には、先ず原料として0.3〜５原子％のAlとＰ、
Ｃ、Ｂ、Si等の半金属の一種または二種以上を合
計で13〜25原子％、残部Feを用意し溶融し、公
知の液体急冷法（遠心急冷法、双ロール法、片ロ
ール法等）を用いて酸化性雰囲気中で104〜106
℃／secの冷却速度で鋳造しアモルフアス薄帯を
製造する。あるいは前述のようにして一旦アモル
フアス薄帯を製造した後、さらに該薄帯を250℃
〜結晶化温度で１〜120分間酸化性雰囲気中で焼
鈍することによつて製造する。
一般に、アモルフアス合金薄帯の鋳造後または
それを焼鈍した後の磁性特性は角形を示す。すな
わちBr／Bs（Br：残留磁束密度、Bs：飽和磁束
密度）が大きいのが特徴である。従つて、たとえ
鋳造後の特性が残留応力などの影響で一見恒透磁
性を示すことがあつても、特性を均質化するため
に、焼鈍すると角形性を示すようになる。
それを焼鈍した後の磁性特性は角形を示す。すな
わちBr／Bs（Br：残留磁束密度、Bs：飽和磁束
密度）が大きいのが特徴である。従つて、たとえ
鋳造後の特性が残留応力などの影響で一見恒透磁
性を示すことがあつても、特性を均質化するため
に、焼鈍すると角形性を示すようになる。
これに対して本発明のアモルフアス合金は鋳造
後はもちろん焼鈍後もすぐれた恒透磁性を示すの
が特徴である。本発明の合金においては、酸化性
雰囲気中で行なえば、焼鈍はむしろ恒透磁性を示
す磁界範囲を拡大する作用をもつ。
後はもちろん焼鈍後もすぐれた恒透磁性を示すの
が特徴である。本発明の合金においては、酸化性
雰囲気中で行なえば、焼鈍はむしろ恒透磁性を示
す磁界範囲を拡大する作用をもつ。
本発明においては特に0.3〜５原子％のAlを含
有することが恒透磁性を生じさせるために必須で
ある。すなわち上記のFe−半金属合金にAlを添
加し、前記のような液体急冷法を用い、酸化性雰
囲気中でアモルフアス合金薄帯を製造すると、該
薄帯は恒透磁性を示す。この理由は明らかではな
いが、AlがO2と極めて結合しやすく、従つて前
記のような高速急冷鋳造中にも薄帯表面に酸化膜
が形成されるためではないかと推測される。なお
Alの含有量を0.3〜５原子％とした理由は0.3％以
下では効果がなく、また５％を超えると飽和磁束
密度が大巾に低下して応用範囲が限定されてしま
うからである。また半金属の成分範囲はFeを主
成分とする半金属との合金が容易にアモルフアス
化するために13〜25原子％とした。
有することが恒透磁性を生じさせるために必須で
ある。すなわち上記のFe−半金属合金にAlを添
加し、前記のような液体急冷法を用い、酸化性雰
囲気中でアモルフアス合金薄帯を製造すると、該
薄帯は恒透磁性を示す。この理由は明らかではな
いが、AlがO2と極めて結合しやすく、従つて前
記のような高速急冷鋳造中にも薄帯表面に酸化膜
が形成されるためではないかと推測される。なお
Alの含有量を0.3〜５原子％とした理由は0.3％以
下では効果がなく、また５％を超えると飽和磁束
密度が大巾に低下して応用範囲が限定されてしま
うからである。また半金属の成分範囲はFeを主
成分とする半金属との合金が容易にアモルフアス
化するために13〜25原子％とした。
なお、前記のように本発明において恒透磁性を
さらに高い磁界まで拡大するためには薄帯を酸化
性雰囲気中で250℃〜結晶化温度の範囲で１〜120
分間焼鈍することが有効である。
さらに高い磁界まで拡大するためには薄帯を酸化
性雰囲気中で250℃〜結晶化温度の範囲で１〜120
分間焼鈍することが有効である。
次に本発明の実施例を示す。
実施例 １
Fe81.3 Si4 B14 Al0.7（原子％）の組成からなる
合金溶湯を公知の片ロールを用いて大気中で高速
鋳造し、巾20mm、厚さ約30μｍのアモルフアス合
金薄帯を製造した。この薄帯約３ｍを内径50mmの
トロイダル状に巻き、350℃×30分間真空中で
30Oeの磁界をかけて焼鈍した。この薄帯の直流
磁化特性は焼鈍後においても第１図ａのように優
れた恒透磁性を示した。
合金溶湯を公知の片ロールを用いて大気中で高速
鋳造し、巾20mm、厚さ約30μｍのアモルフアス合
金薄帯を製造した。この薄帯約３ｍを内径50mmの
トロイダル状に巻き、350℃×30分間真空中で
30Oeの磁界をかけて焼鈍した。この薄帯の直流
磁化特性は焼鈍後においても第１図ａのように優
れた恒透磁性を示した。
実施例 ２
実施例１と同じ組成、同じ鋳造法によつて作製
した薄帯を大気中で350℃×30分、30Oeの磁界中
で焼鈍したところ、第１図ｂに示すような直流磁
化特性を示した。これは焼鈍後においても実施例
１の場合よりさらに優れた恒透磁性を示している
ことがわかる。
した薄帯を大気中で350℃×30分、30Oeの磁界中
で焼鈍したところ、第１図ｂに示すような直流磁
化特性を示した。これは焼鈍後においても実施例
１の場合よりさらに優れた恒透磁性を示している
ことがわかる。
以上説明したように本発明によれば従来のよう
にカツトコアを使用せず、薄帯をトロイダル状に
巻き巻鉄心とするのみで使用できるので鉄心組立
工程の簡略化をはかることができる等その効果は
大きい。
にカツトコアを使用せず、薄帯をトロイダル状に
巻き巻鉄心とするのみで使用できるので鉄心組立
工程の簡略化をはかることができる等その効果は
大きい。
第１図は本発明によつて得られたアモルフアス
合金のＢ−Ｈ曲線である。
合金のＢ−Ｈ曲線である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Feを主成分とし、これにAlを0.3〜５原子％
含有し、さらにＰ、Ｃ、Ｂ、Si等の半金属の一種
または二種以上を合計で13〜25原子％含有する合
金を溶融し、酸化性雰囲気中で急冷凝固して薄帯
を製造することを特徴とする恒透磁性のすぐれた
アモルフアス合金の製造法。 ２ Feを主成分とし、これにAlを0.3〜５原子％
含有し、さらにＰ、Ｃ、Ｂ、Si等の半金属の一種
または二種以上を合計で13〜25原子％含有する合
金を溶融し、しかる後酸化性雰囲気中で急冷凝固
させて薄帯とし、該薄帯を250℃〜結晶化温度で
１〜120分間酸化性雰囲気中で焼鈍することを特
徴とする恒透磁性のすぐれたアモルフアス合金の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56052924A JPS57169208A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Manufacture of amorphous alloy with excellent constant permeability |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56052924A JPS57169208A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Manufacture of amorphous alloy with excellent constant permeability |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57169208A JPS57169208A (en) | 1982-10-18 |
| JPH0226767B2 true JPH0226767B2 (ja) | 1990-06-12 |
Family
ID=12928376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56052924A Granted JPS57169208A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Manufacture of amorphous alloy with excellent constant permeability |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57169208A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3644062B2 (ja) * | 1995-01-13 | 2005-04-27 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金 |
| CN101589169B (zh) * | 2007-02-28 | 2011-08-03 | 新日本制铁株式会社 | 软磁特性优异的Fe系非晶质合金 |
| JP5320765B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-10-23 | 新日鐵住金株式会社 | 軟磁気特性に優れたＦｅ系非晶質合金 |
| JP5320764B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2013-10-23 | 新日鐵住金株式会社 | 軟磁気特性に優れたＦｅ系非晶質合金 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL176090C (nl) * | 1977-02-26 | 1985-02-18 | Vacuumschmelze Gmbh | Werkwijze voor het verminderen van de ommagnetisatieverliezen in dunne banden uit week-magnetische amorfe metaallegeringen. |
| JPS5572092A (en) * | 1978-11-25 | 1980-05-30 | Tdk Corp | Production of amorphous material for power/displacement transducer |
| JPS5616633A (en) * | 1979-03-31 | 1981-02-17 | Tdk Corp | Manufacture of amorphous magnetic alloy |
-
1981
- 1981-04-10 JP JP56052924A patent/JPS57169208A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57169208A (en) | 1982-10-18 |
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