JPH02267895A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH02267895A JPH02267895A JP8900289A JP8900289A JPH02267895A JP H02267895 A JPH02267895 A JP H02267895A JP 8900289 A JP8900289 A JP 8900289A JP 8900289 A JP8900289 A JP 8900289A JP H02267895 A JPH02267895 A JP H02267895A
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- Japan
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- ray
- liquid
- discharged
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- Pending
Links
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は新らしいＸ線発生装置に関する。
［従来の技術］
従来、氷等の固体ペレットをノズルから吐出し、該吐出
ペレットにレーザー光を照射して核融合反応までは到ら
ないエネルギーにてＸ線を放射させるＸ線発生装置等の
アイデアはあった。
ペレットにレーザー光を照射して核融合反応までは到ら
ないエネルギーにてＸ線を放射させるＸ線発生装置等の
アイデアはあった。
〔発明が解決しようとする課題］
しかし、上記従来技術によると、氷等の固体ペレット作
成が困難であったり、又氷等の固体ペレットをノズルか
ら吐出させるのが困難であったり、更に、固体ペレット
被覆体が有る場合には、被覆体のガス化とチャンバー側
壁への再付着によるＸ線放射強度の低下等の課題があっ
た。
成が困難であったり、又氷等の固体ペレットをノズルか
ら吐出させるのが困難であったり、更に、固体ペレット
被覆体が有る場合には、被覆体のガス化とチャンバー側
壁への再付着によるＸ線放射強度の低下等の課題があっ
た。
本発明・は、かかる従来技術の課題を解決し、ノズルか
らの吐出が容易な、且つ高エネルギーのＸ線を発生する
事が出来る新しいＸ線発生装置を提供する事を目的とす
る。
らの吐出が容易な、且つ高エネルギーのＸ線を発生する
事が出来る新しいＸ線発生装置を提供する事を目的とす
る。
［課題を解決する為の手段］
上記課題を解決するために、本発明はＸ線発生装置に関
し、耐熱性ノズルからの液滴または粘性吐出体にレーザ
ー光を照射しプラズマ化し、Ｘ線を発生させる手段をと
る。
し、耐熱性ノズルからの液滴または粘性吐出体にレーザ
ー光を照射しプラズマ化し、Ｘ線を発生させる手段をと
る。
［実施例］
以下九実施例により本発明を詳述する。
第１図は本発明の一実施例を示すＸ線発生装置の要部の
模式図である。すなわち、セラミック製の耐熱ノズルぐ
の先端から氷等の液滴２を吐出させ、該液滴２にレーザ
ー３からのレーザー光４を照射する事により、前記液滴
２はプラズマ化し、Ｘ線５が発生する。
模式図である。すなわち、セラミック製の耐熱ノズルぐ
の先端から氷等の液滴２を吐出させ、該液滴２にレーザ
ー３からのレーザー光４を照射する事により、前記液滴
２はプラズマ化し、Ｘ線５が発生する。
尚液滴２は水以外のアルコール等地の液滴であっても良
く、更には、該液滴中に、粉体を混入させたものであり
ても良く、更には、液滴２は必ずしも液体である必要は
な（、粘性のあるものをノズル１の先端から吐出させて
も良い。
く、更には、該液滴中に、粉体を混入させたものであり
ても良く、更には、液滴２は必ずしも液体である必要は
な（、粘性のあるものをノズル１の先端から吐出させて
も良い。
更に、ノズル１からの吐出液滴や粘性あるものの吐出位
置は必ずしもノズル１の先端にある必要はなく、落下さ
せてもよ（、その場合には標的に同期して、レーザー光
４の照射位置と照射タイミングを変化させる必要がある
。
置は必ずしもノズル１の先端にある必要はなく、落下さ
せてもよ（、その場合には標的に同期して、レーザー光
４の照射位置と照射タイミングを変化させる必要がある
。
［発明の効果］
本発明により、固体ペレットへのレーザー照射によるＸ
＠発生強度と同程度の強度のｘ′ｍをノズルからの吐出
が容易な状態で発生させる事が出来る効果がある。
＠発生強度と同程度の強度のｘ′ｍをノズルからの吐出
が容易な状態で発生させる事が出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の一実施例を示すＸ線発生装置の要部
の模式図である。 １・・・・・・・・・ノズル ２・・・・・・・・・液 滴 ６・・・・・・・・・レーザー ４・・・・・・・・・レーサー光 ５・・・・・・・・・Ｘ線 以上
の模式図である。 １・・・・・・・・・ノズル ２・・・・・・・・・液 滴 ６・・・・・・・・・レーザー ４・・・・・・・・・レーサー光 ５・・・・・・・・・Ｘ線 以上
Claims (1)
- 耐熱性ノズルからの液滴または粘性吐出体にはレーザー
光を照射してプラズマ化し、Ｘ線を発生させる事を特徴
とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8900289A JPH02267895A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8900289A JPH02267895A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02267895A true JPH02267895A (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=13958606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8900289A Pending JPH02267895A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02267895A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000509190A (ja) * | 1996-04-25 | 2000-07-18 | ジェテック、アクチボラグ | Ｘ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置 |
| WO2003013197A1 (fr) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Japan Science And Technology Agency | Procede et appareil de production de rayons x |
| JP2003528710A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-09-30 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | ミクロン及びサブミクロンの小滴の濃霧を生成する方法及びその装置、並びに特にリソグラフィのための極紫外線の生成への応用 |
| US6831963B2 (en) | 2000-10-20 | 2004-12-14 | University Of Central Florida | EUV, XUV, and X-Ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions |
-
1989
- 1989-04-08 JP JP8900289A patent/JPH02267895A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000509190A (ja) * | 1996-04-25 | 2000-07-18 | ジェテック、アクチボラグ | Ｘ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置 |
| JP2003528710A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-09-30 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | ミクロン及びサブミクロンの小滴の濃霧を生成する方法及びその装置、並びに特にリソグラフィのための極紫外線の生成への応用 |
| US6831963B2 (en) | 2000-10-20 | 2004-12-14 | University Of Central Florida | EUV, XUV, and X-Ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions |
| US7092488B2 (en) | 2000-10-20 | 2006-08-15 | University Of Central Florida Research Foundation, Inc. | EUV, XUV, and X-ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions |
| WO2003013197A1 (fr) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Japan Science And Technology Agency | Procede et appareil de production de rayons x |
| US7023961B2 (en) | 2001-07-31 | 2006-04-04 | Japan Science And Technology Agency | Method and apparatus for generating X-ray |
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