JPH02267896A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
- Publication number
- JPH02267896A JPH02267896A JP8741889A JP8741889A JPH02267896A JP H02267896 A JPH02267896 A JP H02267896A JP 8741889 A JP8741889 A JP 8741889A JP 8741889 A JP8741889 A JP 8741889A JP H02267896 A JPH02267896 A JP H02267896A
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- JP
- Japan
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- plasma
- pinch
- ray generator
- rays
- window
- Prior art date
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- Pending
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- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はX線発生装置に関する。
[従来の技術]
従来、プラズマのピンチ効果は「理化学辞典」丸善刊、
によると、プラズマ中に流れる電流と、それによりつく
られる磁場との相互作用で、プラズマ自身が紐状にしぼ
られる現象であり、柱状または環状の高温プラズマをつ
くるのに利用される。柱状プラズマの軸方向(Z方向)
に電流を流し方位角方向(θ方向)の磁場によってプラ
ズマをピンチさせるZピンチと、外からの誘導によりθ
方向に電流を流し、Z方向の磁場をつくるθピンチとに
大別される。Zピンチはくびれや曲がりに対して不安定
でかつ電極からの不純物が多く、核融合研究には適さな
い、θピンチは比較的安定でかつ不純物も少なく、比較
的高温高密度のプラズマが短時間ではあるが容易に得ら
れる。Zピンチの過熱は主としてジュール熱に頼ってい
る。θピンチでは、ピンチ効果によりプラズマが内向き
に大きく加速され、それが軸上に集中して熱化される衝
撃波加熱を用いており、イオン温度が電子温度よりも高
いのが特徴である。と記されている。又、本プラズマの
ピンチ効果を応用してトカマク型の核融合炉が開発され
ているのが現状である。
によると、プラズマ中に流れる電流と、それによりつく
られる磁場との相互作用で、プラズマ自身が紐状にしぼ
られる現象であり、柱状または環状の高温プラズマをつ
くるのに利用される。柱状プラズマの軸方向(Z方向)
に電流を流し方位角方向(θ方向)の磁場によってプラ
ズマをピンチさせるZピンチと、外からの誘導によりθ
方向に電流を流し、Z方向の磁場をつくるθピンチとに
大別される。Zピンチはくびれや曲がりに対して不安定
でかつ電極からの不純物が多く、核融合研究には適さな
い、θピンチは比較的安定でかつ不純物も少なく、比較
的高温高密度のプラズマが短時間ではあるが容易に得ら
れる。Zピンチの過熱は主としてジュール熱に頼ってい
る。θピンチでは、ピンチ効果によりプラズマが内向き
に大きく加速され、それが軸上に集中して熱化される衝
撃波加熱を用いており、イオン温度が電子温度よりも高
いのが特徴である。と記されている。又、本プラズマの
ピンチ効果を応用してトカマク型の核融合炉が開発され
ているのが現状である。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、上記従来技術によると、プラズマのピンチ効果
によりX線発生がある事はどこにも記されて居らず、ま
してやトカマク等の核融合炉の周辺は厚い磁石で囲まれ
て居り、該611石で実質的にプラズマのピンチ効果に
より発生するX線を防止し−(いる訳ではあるが、X線
取り出し用の窓などは設置された事もない。
によりX線発生がある事はどこにも記されて居らず、ま
してやトカマク等の核融合炉の周辺は厚い磁石で囲まれ
て居り、該611石で実質的にプラズマのピンチ効果に
より発生するX線を防止し−(いる訳ではあるが、X線
取り出し用の窓などは設置された事もない。
本発明は、1つはプラズマのピンチ効果によりX線が発
生するという現象の発明ではあるが、具体的には該プラ
ズマのピンチ効果により発生するX線をX線露光用のX
線源とするところに目的がある。
生するという現象の発明ではあるが、具体的には該プラ
ズマのピンチ効果により発生するX線をX線露光用のX
線源とするところに目的がある。
[課題を解決するための手段1
上記課題を解決するために本発明は、X線発生装置に関
し、プラズマのピンチ効果により発生するX線を取り出
し窓より取り出す窓を具備する手段を取る事を基本とす
る。
し、プラズマのピンチ効果により発生するX線を取り出
し窓より取り出す窓を具備する手段を取る事を基本とす
る。
[実 施 例]
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図は本発明の一実施例を示すX線発生装置の断面模
式図である。すなわち、鉄や石英等から成る容器1には
X線取り出し用の例えばBe膜等から成る窓2を形成し
、該容器1を真空3で真空に引きながらアルゴン等のガ
ス4を導入し、容器内を数Torrの真空度に保ちつつ
容器内のガスをRF5から成るコイル又は電極に高周波
を印加してプラズマ7を形成し、該プラズマ7の熱拡散
流に対しコイル6に大電流を流すことによりプラズマの
ピンチ8部を形成し、該ピンチ8部からのX線9を前記
窓2部から放出させる。
式図である。すなわち、鉄や石英等から成る容器1には
X線取り出し用の例えばBe膜等から成る窓2を形成し
、該容器1を真空3で真空に引きながらアルゴン等のガ
ス4を導入し、容器内を数Torrの真空度に保ちつつ
容器内のガスをRF5から成るコイル又は電極に高周波
を印加してプラズマ7を形成し、該プラズマ7の熱拡散
流に対しコイル6に大電流を流すことによりプラズマの
ピンチ8部を形成し、該ピンチ8部からのX線9を前記
窓2部から放出させる。
本例は一例であり1例えばトカマク炉の周辺コイルの一
部をはふいて容器壁を露出させて窓部とする事や、プラ
ズマ中に電極を挿入してプラズマに電流を流すことによ
りX線の発生強度を増す事や、外部からの磁界を印加す
る為の1if1石を併せて容器周辺に設置する事等がで
きる事は云うまでもない。
部をはふいて容器壁を露出させて窓部とする事や、プラ
ズマ中に電極を挿入してプラズマに電流を流すことによ
りX線の発生強度を増す事や、外部からの磁界を印加す
る為の1if1石を併せて容器周辺に設置する事等がで
きる事は云うまでもない。
又、柱状プラズマのピンチ効果を応用することができる
ことも本実施例からも明らかである。
ことも本実施例からも明らかである。
〔発明の効果]
本発明によりプラズマのピンチ効果を用いた強力なX線
発生装置が得られる効果があり、X線露光用の光源とし
てスルーブツトの高い露光装置が得られる効果もある。
発生装置が得られる効果があり、X線露光用の光源とし
てスルーブツトの高い露光装置が得られる効果もある。
第1図は本発明の一実施例を示すX線発生装置の断面模
式図である。 ・容器 ・窓 ・真空 ・ガス ・RF ・コイル ・プラズマ ・ピンチ ・X線 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
式図である。 ・容器 ・窓 ・真空 ・ガス ・RF ・コイル ・プラズマ ・ピンチ ・X線 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- プラズマのピンチ効果により発生するX線を取出し窓よ
り取り出す窓を具備する事を特徴とするX線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8741889A JPH02267896A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8741889A JPH02267896A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | X線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02267896A true JPH02267896A (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=13914330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8741889A Pending JPH02267896A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | X線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02267896A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008506238A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド | 誘導駆動プラズマ光源 |
| US7948185B2 (en) | 2004-07-09 | 2011-05-24 | Energetiq Technology Inc. | Inductively-driven plasma light source |
| US8143790B2 (en) | 2004-07-09 | 2012-03-27 | Energetiq Technology, Inc. | Method for inductively-driven plasma light source |
-
1989
- 1989-04-06 JP JP8741889A patent/JPH02267896A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008506238A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド | 誘導駆動プラズマ光源 |
| US7948185B2 (en) | 2004-07-09 | 2011-05-24 | Energetiq Technology Inc. | Inductively-driven plasma light source |
| US8143790B2 (en) | 2004-07-09 | 2012-03-27 | Energetiq Technology, Inc. | Method for inductively-driven plasma light source |
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