JPH02268415A - レジスト塗布カップ自動洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の詳細な説明コ 本発明は、例えば、液晶カラーテレビ用カラーフィルタ
、半導体用フォトマスク、シリコンウェハ等の製造工程
において、インラインにて構成される設備中のスピン方
式レジスト塗布装置のレジスト塗布カップの洗浄方法に
関する。

［従来の技術］ この種のスピン方式レジスト塗布装置は、基板の上に耐
食皮膜を形成するためにスピンチャックに保持された基
板の上にレジストを滴下し、スピンチャックの回転を利
用して基板の表面に均一にレジストを塗布するものであ
るが、その塗布作業中、スピンチャックを包囲する塗布
カップの内側周面にもレジストが飛散、付着する９ そのため、従来は作業者が定期的に製造ラインを止め、
塗布カップの内面に付着したレジストの残滓を洗浄液で
清掃していた。

［発明が解決しようとする１果題］ このように、従来の技術においては清掃中ライン全体を
止めて作業者がレジストの残滓の清掃をしなければなら
ないことから、製造ラインの効率低下と作業者の労働増
加という問題点があった。

本発明は、前記問題点を解決するとともに、塗布カップ
の内側に１寸着したレジストが後続の基板へのレジスト
塗布力の乱気流により基板上に再け着することを防止し
ようとするものである。

［課題を解決するための手段］ 前記課題を解決するための本発明の構成を、実施例に対
応する第１図を用いて説明すると、本発明のレジスト塗
布カップ自動洗浄方法は、インラインにて構成される設
備中のスピン方式レジスト塗布装置において、スピンチ
ャック６に医持された基板にレジストを塗布し該基板を
後工程へ搬出した後、毎回、洗浄液を回転するスピンチ
ャック６上に供給し、スピンチャック６の回転に基づく
遠心力によりスピンチャック６を包囲する塗布カップｌ
の内周面に飛散させて、塗布カップ１の内周面に付着し
たレジストの残滓１２を自動的に洗浄することを特徴と
するものである。

［作用］ 本発明の洗浄方法によれば、スピンチャックに保持され
た基板にレジストが塗布され、続いて基板が後工程へ搬
出された後に、毎回洗浄液が回転するチャックの上に供
給され、供給された洗浄液は遠心力によってチャックを
包囲している塗布カップの内側に飛散され、そこに付着
しなレジストの残滓を自動的に洗浄することができる。

したがって、レジスト塗布カップを洗浄する際に製造ラ
インを止める必要がなくなり、製造ラインの効率を向上
させうるとともに、作業者の塗布カップ清掃作業の労力
を省くことができる。

［実施例コ 以下、本発明の実施例について説明すると、第１図は本
発明で使用するインラインにて構成された設備中のスピ
ン式レジスト塗布装置の断面側面図である。

第１図において、１は塗布カップ、２は密閉カップであ
る。また３は密閉カップ支持部で、エアーシリンダ等に
よって上下駆動ができるようになっており、密閉カップ
２と洗浄ノズル４が取付けられている。５はレジスト塗
布ノズルであり、回転中心から放射方向に延び、旋回さ
せることによってスピンチャック６の中心部まで移動で
きるようになっている、 ７はスピンモータ、８は回転軸であり、スピンチャック
６、回転軸８にはエアー・バキューム兼用の導通穴が開
けてあり、三方弁９によりスピンチャック６の上面外周
端部の基板吸着面１０まで、エアーまたはバキュームが
伝わるようになっている。

１１はシール材で回転軸８が回転中でもエアーバキュー
ムがリークしないようになっている。

次に、本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方法のプロ
セスを第２図のフローチャートに基づいて説明する。

■基板搬入 前工程を終了した基板が搬送アームにより、スピンチャ
ック６上に搬送されてくる。このとき。

密閉カップ２は上昇の状態にある。

■基板固定支持 三方弁９によりバキュームがつながり、スピンチャック
６上の基板を６００　ｍｍＨｇ程度のバキュームにより
基板吸着面１０に固定支持する。

■し、シスト滴下 レジスト塗布ノズル５が回転駆動され、基板の中心部ま
で移動し、レジストが滴下される。

■密閉カップ下降 密閉カップ支持部３が下方へ駆動され、密閉カップ２が
下降し塗布カップ１の上部を密閉する。

■スピンチャック回転開始 スピンチャック６が回転し、所定の膜厚にレジストが塗
布される。このとき、塗布カップ１の周面にレジストの
残滓１２が付着する。

■スピンチャック回転終了 スピンチャック６の回転が止まり、レジスト塗布工程が
終了する。

■基板固定支持解除 バキュームが切れ、固定支持が解除される。

■密閉カップ上昇 密閉カップ支持部３が上方へ駆動され、密閉カップ２が
上昇する。

■基板搬出 搬送アームにより、基板が後工程へ搬送される。

［株］密閉カップ下降 再び密閉カップ支持部３が下方へ駆動され、密閉力・γ
ブ２が下降し、塗布カップ】の上部を密閉する。

（ルスピンチャック回転開始 スピンチャック６が所定の回転数（例えばｌ　（１０ｒ
ｐｍ程度）で回転され始める。このとき、三方弁９によ
り、エアーが供給され、スピンチャック６上の基板吸着
面１０よりエアーが吐出する。

＠洗浄液吐出開始 洗浄液が、洗浄ノズル４よりスピンチャック６上に吐出
され、遠心力により塗布カップ１の内側周面に飛ばされ
る。このとき、基板吸着面１０よりエアーを吐出させる
ことで、洗浄液のスピンチャ・Ｉり６の導通穴への入り
込みを防いでいる。

■洗浄液吐出終了 洗浄液により、塗布カップ１の内側周面に付着したレジ
ストの残滓１２を洗い落し、下方のドレインへと流下し
、洗浄液の吐出を終了する。

ＯΦスピンチャック高速回転 次に、スピンチャック６の回転が高速回転（例乙ば２０
Ｏｒｐｍ程度）に移り、スピンチャック６の乾燥に入る
。

■スピン゛チャック回転終了 スピンチャック６が乾燥したら、その回転を停止させ、
エアーの吐出が止められる５ ｑ約密閉カツプ上昇 密閉カップ支持部３が上方へ駆動され、密閉カップ２が
上昇し、１サイクルが終了する。

なお、本発明において使用するレジストはポリビニール
アルコール、カゼインゼラチン等の水溶性ｖＡ脂が主な
ものであるが、この場合の洗浄液には４０°Ｃ位の湯を
使用する。他の溶剤系のフォ１−レジストの場合には専
用の洗浄液または溶剤を使用することになる。

また、前記のフローチャー１・で示した各工程の自動化
は、コンピュータのプログラムによって行うものである
。

［発明の効果］ 本発明は、以上のような構成と作用を有しているので、
スピンチャックに保持された基板にレジストを塗布する
スピン方式レジスト塗布装置において、レジスト塗布カ
ップの内周面を自動的に洗浄することができ、従来技術
の塗布カップが汚れたら、ラインを止めて作業者が洗浄
を行うという作業を廃止できるため、牛業者の労力がへ
り、生産効率が上昇する。

また、１サイクルごとに塗布カップを洗浄するため、従
来起きていたレジストの残滓の跳ね返りによる基板上へ
の再付着に基づく不良品の発生をなくすことかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方法を実
施するためのスピン方式レジスト塗布装置の断面側面図
、第２図は同自動洗浄方法の１サイクルの工程のフロー
チャートである。 １・・・・塗布カップ、　　　　２・・・・密閉カップ
、３・・・・密閉カップ支持部、４・・・・洗浄ノズル
、５・・・・レジスト塗布ノズル、 ６・・・・スピンチャック、　７・・・・スピンモータ
、８・・・・回転軸、　　　　　　９・・・・三方弁、
１０・・・ 基板吸着面、 １１・・・・シール材、 ・・レジスト残滓。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. インラインにて構成される設備中のスピン方式レジスト
   塗布装置において、スピンチャックに保持された基板に
   レジストを塗布し該基板を後工程へ搬出した後、毎回、
   洗浄液を回転するスピンチャック上に供給し、スピンチ
   ャックの回転に基づく遠心力によりスピンチャックを包
   囲する塗布カップ内周面に飛散させて、塗布カップの内
   周面に付着したレジストの残滓を自動的に洗浄すること
   を特徴とするレジスト塗布カップ自動洗浄方法。