JPH02268872A - 光制御板の製造方法 - Google Patents
光制御板の製造方法Info
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- JPH02268872A JPH02268872A JP1092149A JP9214989A JPH02268872A JP H02268872 A JPH02268872 A JP H02268872A JP 1092149 A JP1092149 A JP 1092149A JP 9214989 A JP9214989 A JP 9214989A JP H02268872 A JPH02268872 A JP H02268872A
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- film
- scattering
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、特定角度からの入射光のみを散乱する光制御
板の製造方法に間するものである。
板の製造方法に間するものである。
〈従来の技術〉
従来、プラスチックやガラスからなる透明体はとの角度
からの入射光に対しても透明なものしかなかった。そこ
で特定の角度からの光のみを透過するものとしてはプラ
スチックの透明シート及び不透明シート交互に貼合わせ
積層したプラスチックブロックより切り出した配向膜や
感光性樹脂を用いて透明基板上に格子や縞などの模様を
成すレリーフを設け、更にその上に透明基板などを組み
合わせるいわゆる「遮光板」が−船釣に用いられていた
。この遮光板としては特開昭57−189489号公報
に示されているものがある。しかし、これら従来の配向
膜や遮光板は、その製造方法が煩雑であるために高価で
あり、また膜質が均質にならないという問題点を有して
いた。
からの入射光に対しても透明なものしかなかった。そこ
で特定の角度からの光のみを透過するものとしてはプラ
スチックの透明シート及び不透明シート交互に貼合わせ
積層したプラスチックブロックより切り出した配向膜や
感光性樹脂を用いて透明基板上に格子や縞などの模様を
成すレリーフを設け、更にその上に透明基板などを組み
合わせるいわゆる「遮光板」が−船釣に用いられていた
。この遮光板としては特開昭57−189489号公報
に示されているものがある。しかし、これら従来の配向
膜や遮光板は、その製造方法が煩雑であるために高価で
あり、また膜質が均質にならないという問題点を有して
いた。
また、特願昭82−316460(S62. 12.1
4日出願)「光制御板及びその製造方法」に見られるよ
うな、それぞれの屈折率に差がある。
4日出願)「光制御板及びその製造方法」に見られるよ
うな、それぞれの屈折率に差がある。
分子内に1個以上の重合性炭素−炭素二重結合を有し、
かつ互いに屈折率の異なる少なくとも2種の化合物を含
有する光重合性組成物を膜状体に維持し、これに特定の
方向から光を照射して重合硬化させることによって、製
造される光制御板が知られている。この場合、照射光源
としては棒状ランプをその長さ方向が膜状体の面に平行
な成分を有するように配置して用いられ、その結果硬化
した樹脂板は照射光源の長軸と短軸方向に対して異方性
を示し、光源の長軸方向を軸として樹脂板を回転させた
場合にのみ所定の角度範囲の入射光を散乱する。すなわ
ち、生成した樹脂板は屈折率の異なる領域が、ある方向
に配向した状態で存在しており特定の角度より入射した
光はこの構造により散乱されるものと考えられる。
かつ互いに屈折率の異なる少なくとも2種の化合物を含
有する光重合性組成物を膜状体に維持し、これに特定の
方向から光を照射して重合硬化させることによって、製
造される光制御板が知られている。この場合、照射光源
としては棒状ランプをその長さ方向が膜状体の面に平行
な成分を有するように配置して用いられ、その結果硬化
した樹脂板は照射光源の長軸と短軸方向に対して異方性
を示し、光源の長軸方向を軸として樹脂板を回転させた
場合にのみ所定の角度範囲の入射光を散乱する。すなわ
ち、生成した樹脂板は屈折率の異なる領域が、ある方向
に配向した状態で存在しており特定の角度より入射した
光はこの構造により散乱されるものと考えられる。
しかも上記光制御板は、基板のある一部が正面では透明
でどちらに傾けても不透明になり、残りの部分はその逆
の81能を持つものや、基板の第1の部分は正面から見
たら不透明でどちらに傾けても透明であり、第2の部分
は常に不透明であり、残りの部分は常に透明である光制
御板の作製も可能である。また、ここに述べられている
方法によると、それぞれの屈折率に差がある分子内に1
個以上の重合性炭素−炭素二重結合を有し、かつ互いに
屈折率の異なる少なくとも2種の化合物を含有する光重
合性結成物を膜状体に維持し、これに特定の方向から光
を照射して硬化させる方法において、前記膜状体の表面
の一部を例えばフォトマスクで覆うことにより複数の領
域に分割し、少なくとも一つの領域、例えば前記フォト
マスクの開口に面する部分に第1の線状光照射光源から
の光を照射し、他の少なくとも一つの領域、例えば前記
フォトマスクで覆われていた部分に、前記照射源とは異
なる角度から第2の線状光照射源の光を照射して硬化さ
せ、もしその後に未照射の部分があれば光または熱重合
により硬化を完結させることにより、散乱する角度範囲
の異なる種々の領域を膜状体に持たせた光制御板が得ら
れる。
でどちらに傾けても不透明になり、残りの部分はその逆
の81能を持つものや、基板の第1の部分は正面から見
たら不透明でどちらに傾けても透明であり、第2の部分
は常に不透明であり、残りの部分は常に透明である光制
御板の作製も可能である。また、ここに述べられている
方法によると、それぞれの屈折率に差がある分子内に1
個以上の重合性炭素−炭素二重結合を有し、かつ互いに
屈折率の異なる少なくとも2種の化合物を含有する光重
合性結成物を膜状体に維持し、これに特定の方向から光
を照射して硬化させる方法において、前記膜状体の表面
の一部を例えばフォトマスクで覆うことにより複数の領
域に分割し、少なくとも一つの領域、例えば前記フォト
マスクの開口に面する部分に第1の線状光照射光源から
の光を照射し、他の少なくとも一つの領域、例えば前記
フォトマスクで覆われていた部分に、前記照射源とは異
なる角度から第2の線状光照射源の光を照射して硬化さ
せ、もしその後に未照射の部分があれば光または熱重合
により硬化を完結させることにより、散乱する角度範囲
の異なる種々の領域を膜状体に持たせた光制御板が得ら
れる。
前記第2の線状光照射源からの光の代わりに点光源から
の光もしくは平行光を照射するか、拡散光を照射するか
、または熱を付与してもよい。点光源もしくは平行光を
照射すれば後で硬化した領域は一様にスリガラス状にな
り前記第1の光源によって硬化した領域だけ角度依存性
を有する光制御膜となる。拡散光を照射すれば前記第1
の光源によって硬化した領域だけが角度依存性を有し、
後で硬化した領域は透明な光制御膜となる。上記従来の
方法によると、−枚の樹脂板内に散乱する角度範囲が鮮
明に異なる種々の領域を持つ光制御板を製造することが
できる。
の光もしくは平行光を照射するか、拡散光を照射するか
、または熱を付与してもよい。点光源もしくは平行光を
照射すれば後で硬化した領域は一様にスリガラス状にな
り前記第1の光源によって硬化した領域だけ角度依存性
を有する光制御膜となる。拡散光を照射すれば前記第1
の光源によって硬化した領域だけが角度依存性を有し、
後で硬化した領域は透明な光制御膜となる。上記従来の
方法によると、−枚の樹脂板内に散乱する角度範囲が鮮
明に異なる種々の領域を持つ光制御板を製造することが
できる。
〈発明が解決しようとする課題〉
特願昭62−318460に述べられているのは上記の
ように優れた方法であるが、前記第1の光源からの光を
遮るために照射光源と樹脂膜の間にフォトマスク等の遮
光層を設定する必要がある。
ように優れた方法であるが、前記第1の光源からの光を
遮るために照射光源と樹脂膜の間にフォトマスク等の遮
光層を設定する必要がある。
フォトマスクは転写性を上げるために、できるだけ膜状
体に近接する必要があるが、水平に置いた基板の上に組
成物液を膜状に維持することにより膜状体を得、その上
方から光を照射するのが実用的であり、この場合硬化前
の膜状体にフォトマスクを完全に密着することは難しく
、フォトマスクを僅持するためにフォトマスクと膜状体
との間にはある程度の空間を開けることが必要になる。
体に近接する必要があるが、水平に置いた基板の上に組
成物液を膜状に維持することにより膜状体を得、その上
方から光を照射するのが実用的であり、この場合硬化前
の膜状体にフォトマスクを完全に密着することは難しく
、フォトマスクを僅持するためにフォトマスクと膜状体
との間にはある程度の空間を開けることが必要になる。
その結果、光の回折現象のために、照射する光が膜状体
面上ではフォトマスクの下部領域まで回り込むのでフォ
トマスクの形状通りの完全な転写は難しいことになる。
面上ではフォトマスクの下部領域まで回り込むのでフォ
トマスクの形状通りの完全な転写は難しいことになる。
また、上記方法はフォトマスク等を用いて前記第1の光
源からの光を遮り、その後未照射領域を含めた膜状体全
体に前記第2の光源からの光を照射するという光の二段
Fi!照射によるため、工程が煩雑である。
源からの光を遮り、その後未照射領域を含めた膜状体全
体に前記第2の光源からの光を照射するという光の二段
Fi!照射によるため、工程が煩雑である。
く課題を解決するための手段〉
本発明は上記従来の問題点を解決するためになしたもの
であり、本発明は屈折率が異なる少なくとも2種の化合
物を含有する光重合性結成物を膜状に維持し、この膜状
体に特定の方向から光な照射して重合硬化させて、所定
角度範囲の入射光を散乱する機能を有する光制御板を製
造する方法において、膜状体を通過した照射光の少なく
とも一部が再び膜状体に戻るように、かつその戻る光が
膜状体の場所によって異なるようにする手段を前記照射
光の光源とは反対側の膜状体臭面に近接してFIi!置
することを特徴とする、入射光を散乱する散乱角度範囲
及び散乱の値が場所的に異なる光制御板の製造方法であ
る。
であり、本発明は屈折率が異なる少なくとも2種の化合
物を含有する光重合性結成物を膜状に維持し、この膜状
体に特定の方向から光な照射して重合硬化させて、所定
角度範囲の入射光を散乱する機能を有する光制御板を製
造する方法において、膜状体を通過した照射光の少なく
とも一部が再び膜状体に戻るように、かつその戻る光が
膜状体の場所によって異なるようにする手段を前記照射
光の光源とは反対側の膜状体臭面に近接してFIi!置
することを特徴とする、入射光を散乱する散乱角度範囲
及び散乱の値が場所的に異なる光制御板の製造方法であ
る。
以下、本発明の光制御板の製造方法について更に具体的
に説明する。
に説明する。
本発明の光制御板は、それぞれ分子内に重合性炭素−炭
素二重結合を有し、かつ互いに屈折率が異なる少なくと
も2種の化合物を有する光重合性組成物と光重合開始剤
からなる樹脂組成物を基板上に塗布するかまたはセル中
に封入し、重合用光(紫外線)照射面とは反対側の裏面
に近接して。
素二重結合を有し、かつ互いに屈折率が異なる少なくと
も2種の化合物を有する光重合性組成物と光重合開始剤
からなる樹脂組成物を基板上に塗布するかまたはセル中
に封入し、重合用光(紫外線)照射面とは反対側の裏面
に近接して。
好ましくは膜状体臭面から10mm以内、より好ましく
は1mm以内の位置に、膜状体を通過した照射光の少な
くとも一部が再び膜状体に戻るように、かつその戻る光
が膜状体の場所によって異なるようにする手段を配置す
る。そして樹脂膜の表面側から紫外線を樹脂膜全体に照
射して一括硬化させ、その後に未硬化の部分があれば光
または熱重合により硬化を完結させることだけにより得
られる。即ち、光照射は1段階だけでよい。
は1mm以内の位置に、膜状体を通過した照射光の少な
くとも一部が再び膜状体に戻るように、かつその戻る光
が膜状体の場所によって異なるようにする手段を配置す
る。そして樹脂膜の表面側から紫外線を樹脂膜全体に照
射して一括硬化させ、その後に未硬化の部分があれば光
または熱重合により硬化を完結させることだけにより得
られる。即ち、光照射は1段階だけでよい。
本発明において、前記手段としては、フォトマスクのよ
うな光の吸収率が異なる遮光層だけでなく、反射率また
は散乱率の異なる層または物体を使用することができる
。また前記手段は樹脂膜状体の裏面全体を覆っていても
よく、前記照射光に対する散乱もしくは反射が場所的に
異なる層であればよい。
うな光の吸収率が異なる遮光層だけでなく、反射率また
は散乱率の異なる層または物体を使用することができる
。また前記手段は樹脂膜状体の裏面全体を覆っていても
よく、前記照射光に対する散乱もしくは反射が場所的に
異なる層であればよい。
本発明で使用される光重合性組成物を構成する化合物は
9通常は光重合性のオリゴマーやモノマーであって紫外
線により重合するもので、屈折率が異なり相溶性が適当
なものであれば、どんな組合せであっても使用できるが
、必要に応じて樹脂の化学的、物理的性質を考慮して決
定される。光重合可能なモノマーあるいはオリゴマーと
しては、分子内にアクリロイル基、メタアクリロイル基
、ビニル基あるいはアリル基等を有するものが好適であ
る。
9通常は光重合性のオリゴマーやモノマーであって紫外
線により重合するもので、屈折率が異なり相溶性が適当
なものであれば、どんな組合せであっても使用できるが
、必要に応じて樹脂の化学的、物理的性質を考慮して決
定される。光重合可能なモノマーあるいはオリゴマーと
しては、分子内にアクリロイル基、メタアクリロイル基
、ビニル基あるいはアリル基等を有するものが好適であ
る。
例えば、ポリエステルアクリレート、ポリオールポリア
クリレート、変性ポリオールポリアクリレート、イソシ
アヌル酸骨格のポリアクリレート、メラミンアクリレー
ト、ヒダントイン骨格のボリア・クリレート、ポリブタ
ジェンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、あるいはビスフェノールAジアクリレー
ト、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5
−ジブロモフェニル)プロパンなどの多官能性アクリレ
ートあるいはこれらのアクリレートに対応するメタクリ
レート類、または、メチルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、エチルカルピトールアクリレ
ート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、
イソボルニルアクリレート、フェニルカルピトールアク
リレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロビルアクリレート、ω
−ヒドロキシヘキサノイルオキシエチルアクリレート、
アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイル
オキシエチルフタレート、フェニルアクリレート、トリ
ブロモフェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリ
レート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、p−ブロモベンジルアクリレート
、2−エチルへキシルアクリレート、ラウリルアクリレ
ート、2、 2. 3. 3−テトラフルオロプロピル
アクリレートならびにこれらの単官能性アクリレートに
対応するメタクリレート類、または、スチレン、p−ク
ロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルアセテート、
アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、ビニルナフ
タレン等のビニル化合物、あるいは、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート、ジアリリデンペンタエリ
スリトール、 トリアリルイソシアヌレート、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート等のアリル化合物
などがあげられる。これらの化合物は、モノマーのまま
でもオリゴマーにしてからでも使用できる。
クリレート、変性ポリオールポリアクリレート、イソシ
アヌル酸骨格のポリアクリレート、メラミンアクリレー
ト、ヒダントイン骨格のボリア・クリレート、ポリブタ
ジェンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、あるいはビスフェノールAジアクリレー
ト、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5
−ジブロモフェニル)プロパンなどの多官能性アクリレ
ートあるいはこれらのアクリレートに対応するメタクリ
レート類、または、メチルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、エチルカルピトールアクリレ
ート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、
イソボルニルアクリレート、フェニルカルピトールアク
リレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロビルアクリレート、ω
−ヒドロキシヘキサノイルオキシエチルアクリレート、
アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイル
オキシエチルフタレート、フェニルアクリレート、トリ
ブロモフェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリ
レート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、p−ブロモベンジルアクリレート
、2−エチルへキシルアクリレート、ラウリルアクリレ
ート、2、 2. 3. 3−テトラフルオロプロピル
アクリレートならびにこれらの単官能性アクリレートに
対応するメタクリレート類、または、スチレン、p−ク
ロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルアセテート、
アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、ビニルナフ
タレン等のビニル化合物、あるいは、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート、ジアリリデンペンタエリ
スリトール、 トリアリルイソシアヌレート、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート等のアリル化合物
などがあげられる。これらの化合物は、モノマーのまま
でもオリゴマーにしてからでも使用できる。
本発明では、これらの化合物から選ばれる少なくとも2
種以上を混合物として使用するが、それらの単独重合体
の屈折率は、それぞれ異なっていなければならず、それ
らの屈折率差が大きいほど得られる樹脂のへイス率は高
くなる。少なくとも2種の化合物は少なくとも0.01
、より好ましくは少なくとも0.05の屈折率差を有す
る事が好ましい。3種またはそれ以上の種類の化合物を
使用するときはそれらの単独重合体のいずれか2つの屈
折率の差が上記条件を満足しておればよい。
種以上を混合物として使用するが、それらの単独重合体
の屈折率は、それぞれ異なっていなければならず、それ
らの屈折率差が大きいほど得られる樹脂のへイス率は高
くなる。少なくとも2種の化合物は少なくとも0.01
、より好ましくは少なくとも0.05の屈折率差を有す
る事が好ましい。3種またはそれ以上の種類の化合物を
使用するときはそれらの単独重合体のいずれか2つの屈
折率の差が上記条件を満足しておればよい。
少なくとも0.01の屈折率差を有する2種の化合物の
混合率は重量比率で10:90〜90:10の範囲にあ
ることが好ましい。
混合率は重量比率で10:90〜90:10の範囲にあ
ることが好ましい。
またこれらの樹脂の相溶性は、ある程度低い方が好まし
い、もし相溶性が非常に高い場合には、得られる樹脂が
完全に均一になってしまい所望のへイス(白濁)が発生
しない、また、相溶性が極端に低くなり過ぎると光硬化
する以前に相分離が生じるため得られる樹脂のへイス率
が上昇し過ぎて全面ヘイズとなり全く光制御機能を示さ
なくな本発明において、光制御樹脂板は上記の化合物の
混合物及び必要に応じて光重合開始剤を含む光重合性組
成物を膜状体に維持し、線状光源から光、好ましくは紫
外線を照射することにより得られる。
い、もし相溶性が非常に高い場合には、得られる樹脂が
完全に均一になってしまい所望のへイス(白濁)が発生
しない、また、相溶性が極端に低くなり過ぎると光硬化
する以前に相分離が生じるため得られる樹脂のへイス率
が上昇し過ぎて全面ヘイズとなり全く光制御機能を示さ
なくな本発明において、光制御樹脂板は上記の化合物の
混合物及び必要に応じて光重合開始剤を含む光重合性組
成物を膜状体に維持し、線状光源から光、好ましくは紫
外線を照射することにより得られる。
ここで用いられる光重合開始剤は特に限定されるもので
はなく、通常の光重合で使用されているものならどのよ
うなものでもよい。例えば、ベンゾフェノン、ベンジル
、ミヒラーズケトン、2−クロロチオキサントン、ベン
ゾインエチルエーテル、ジェトキシアセトフェノン、ベ
ンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトンなとがあげられる。
はなく、通常の光重合で使用されているものならどのよ
うなものでもよい。例えば、ベンゾフェノン、ベンジル
、ミヒラーズケトン、2−クロロチオキサントン、ベン
ゾインエチルエーテル、ジェトキシアセトフェノン、ベ
ンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトンなとがあげられる。
本発明においては、上記光重合性組成物を一部吸収率ま
たは反射率の異なる領域を有した基板上に塗布するかあ
るいは光重合用の照射光に対して全面透明な1枚の板状
体と一部吸収率または反射率の異なる領域を有した1枚
の板状体を所定の間隔を隔てて設けたセル中に前記組成
物を封入することにより膜状体が維持される。このセル
を使用する場合、光源側には照射光に対して全面透明な
板状体が使用される。更に、全面透明な基板に上記光重
合組成物を塗布するか、または全面透明な2枚の板状体
からなるセル中に上記組成物を封入した場合は、その下
に一部吸収率、反射率の異なる領域を有した基板または
物体を保持する。
たは反射率の異なる領域を有した基板上に塗布するかあ
るいは光重合用の照射光に対して全面透明な1枚の板状
体と一部吸収率または反射率の異なる領域を有した1枚
の板状体を所定の間隔を隔てて設けたセル中に前記組成
物を封入することにより膜状体が維持される。このセル
を使用する場合、光源側には照射光に対して全面透明な
板状体が使用される。更に、全面透明な基板に上記光重
合組成物を塗布するか、または全面透明な2枚の板状体
からなるセル中に上記組成物を封入した場合は、その下
に一部吸収率、反射率の異なる領域を有した基板または
物体を保持する。
ここで使用される基板は、塗布された膜の表面の平滑性
が得られるものなら何でも良い。例えば、硝子、プラス
チック、金属等の平板あるいは型板などが使用できる。
が得られるものなら何でも良い。例えば、硝子、プラス
チック、金属等の平板あるいは型板などが使用できる。
また、セルを使用する場合にはセルの少なくとも一方の
面は、光重合を開始するのに必要な光、好ましくは紫外
線を透過しなければならず、透明硝子、プラスチック等
が好適である。
面は、光重合を開始するのに必要な光、好ましくは紫外
線を透過しなければならず、透明硝子、プラスチック等
が好適である。
本発明において基板上に塗布されるかまたは、セル中に
封入される光重合性組成物の膜厚はある程度厚くなけれ
ばならず、少なくとも25μ糟必要であり、好ましくは
膜厚は100μm、更に好ましくは200μ園以上であ
る。
封入される光重合性組成物の膜厚はある程度厚くなけれ
ばならず、少なくとも25μ糟必要であり、好ましくは
膜厚は100μm、更に好ましくは200μ園以上であ
る。
すなわち、本発明によれば、光、好ましくは紫外線照射
により硬化した膜状体の内面に特定方向からの入射光の
みを散乱する特殊な構造を有する層が形成される。この
層は屈折率の異なる微小構造が、特定方向にほぼ平行し
て配列して並んだ構造を有しているものと考えられる。
により硬化した膜状体の内面に特定方向からの入射光の
みを散乱する特殊な構造を有する層が形成される。この
層は屈折率の異なる微小構造が、特定方向にほぼ平行し
て配列して並んだ構造を有しているものと考えられる。
光重合性組成物の膜厚が余りに小さいとこの微小構造の
層の形成が妨げられる。この膜厚が大になるに従って、
微小構造の層の厚みも大となり光散乱性能(ヘイズ¥5
)が高くなるので好ましいが、あまり厚くなりすぎると
元来透明であるはずの角度領域でもヘイズ率が高くなっ
てしまい、角度依存性が不明瞭になってくる。
層の形成が妨げられる。この膜厚が大になるに従って、
微小構造の層の厚みも大となり光散乱性能(ヘイズ¥5
)が高くなるので好ましいが、あまり厚くなりすぎると
元来透明であるはずの角度領域でもヘイズ率が高くなっ
てしまい、角度依存性が不明瞭になってくる。
本発明で使用される線状光照射光源は、膜状体の光重合
組成物の光重合に寄与する紫外線または、その他の光を
発するものであフて、被照剖位置く膜面)からみて光源
が線状の形状をなしているものである。被照!1位置か
らみた光源の大きさは、光源の長軸方向の視角Aが少な
くとも8° 好ましくは少なくとも12°以上であり、
光源の短軸方向の視角Bが多くともA/4、より好まし
くは多くともA/10以下であるようなものが好ましい
。棒状の紫外線ランプは好ましい線状照射光源の一つで
ある。長さ約40cm、直径約2cmの棒状紫外線ラン
プ(3KW)を例えば水平に促った10cm*10cm
の膜の上方40cmにランプが膜面に平行になるように
配置したどき上記視角Aは約54°であり、視角Bは約
3°であって、本発明における好適な線状光源である。
組成物の光重合に寄与する紫外線または、その他の光を
発するものであフて、被照剖位置く膜面)からみて光源
が線状の形状をなしているものである。被照!1位置か
らみた光源の大きさは、光源の長軸方向の視角Aが少な
くとも8° 好ましくは少なくとも12°以上であり、
光源の短軸方向の視角Bが多くともA/4、より好まし
くは多くともA/10以下であるようなものが好ましい
。棒状の紫外線ランプは好ましい線状照射光源の一つで
ある。長さ約40cm、直径約2cmの棒状紫外線ラン
プ(3KW)を例えば水平に促った10cm*10cm
の膜の上方40cmにランプが膜面に平行になるように
配置したどき上記視角Aは約54°であり、視角Bは約
3°であって、本発明における好適な線状光源である。
このような線状光源の他に、被照射位置から見て、光源
が見かけ上線状になる様なもの、例えば点光源を多数個
連続して線状に並べた物、またはレーザー光等からの光
を回転鏡及び凹面鏡を用いて走査(被照射位置の1点に
ついて異なる多数の角度から照01)するようにしたH
aも線状光源として使用することができる。
が見かけ上線状になる様なもの、例えば点光源を多数個
連続して線状に並べた物、またはレーザー光等からの光
を回転鏡及び凹面鏡を用いて走査(被照射位置の1点に
ついて異なる多数の角度から照01)するようにしたH
aも線状光源として使用することができる。
照射光が紫外線の場合、線状紫外線ランプは紫外線を発
生するものならば特に限定される物ではないが、通常は
水銀ランプあるいはメタルハライドランプ などが取扱
の容易さを考慮した場合、好適である。線状光源を用い
、その照射条件を調節すると、生成したシート状の硬化
物は光源の長軸と短軸方向に対して異方性を示し、光源
長軸方向を軸として回転させた場合にのみ、特定角度の
光を散乱する。
生するものならば特に限定される物ではないが、通常は
水銀ランプあるいはメタルハライドランプ などが取扱
の容易さを考慮した場合、好適である。線状光源を用い
、その照射条件を調節すると、生成したシート状の硬化
物は光源の長軸と短軸方向に対して異方性を示し、光源
長軸方向を軸として回転させた場合にのみ、特定角度の
光を散乱する。
ここで選択的光散乱機能を有する光制御板について詳述
する。
する。
水平に置かれた未重合の膜の上方に、例えば約40 c
m上方で膜面中央から立てた垂直面から測って約45°
傾斜した位置に前記線状照射光源をその光源の長さ方向
が前記垂直面に平行になるようにかつ水平に配置して光
を照射し、膜の硬化反応を生じさせると、作成された膜
には異方性が生じる。すなわち、第5図に示すように膜
の断面を見ると、光照射面側を11とした膜の内部に微
小構造の層12が形成される。この層の厚みd2は約2
5−5000ミクロンであり、第5図13に示すように
表面からこの層までの深さdiは〇−100ミクロンで
ある。dlの厚みは膜の硬化反応が生じる雰囲気によっ
て変化する。ここで、膜全体の厚みd3は通常は25−
5000μmである。
m上方で膜面中央から立てた垂直面から測って約45°
傾斜した位置に前記線状照射光源をその光源の長さ方向
が前記垂直面に平行になるようにかつ水平に配置して光
を照射し、膜の硬化反応を生じさせると、作成された膜
には異方性が生じる。すなわち、第5図に示すように膜
の断面を見ると、光照射面側を11とした膜の内部に微
小構造の層12が形成される。この層の厚みd2は約2
5−5000ミクロンであり、第5図13に示すように
表面からこの層までの深さdiは〇−100ミクロンで
ある。dlの厚みは膜の硬化反応が生じる雰囲気によっ
て変化する。ここで、膜全体の厚みd3は通常は25−
5000μmである。
平面図である第6図及び側面図である第5図に示すよう
に、微小構造Fi12は線状照射光源16にほぼ平行に
伸びる多数の細長い微小体14、15から構成される。
に、微小構造Fi12は線状照射光源16にほぼ平行に
伸びる多数の細長い微小体14、15から構成される。
第6図のA−A’線できった断面因である第7図−aに
示すようにこの微小体15、15の各々は第7図−すに
示す照!it [からの光の照射方向Zよりも小さい角
度Z′だけ傾斜していることが確認される。この角度Z
′は照射した光が膜内を屈折し進行する屈折角にほぼ等
しい。各微小体14.15のピッチd5は0.1−20
μmである。
示すようにこの微小体15、15の各々は第7図−すに
示す照!it [からの光の照射方向Zよりも小さい角
度Z′だけ傾斜していることが確認される。この角度Z
′は照射した光が膜内を屈折し進行する屈折角にほぼ等
しい。各微小体14.15のピッチd5は0.1−20
μmである。
この膜の光選択散乱性は、第8図において、照射源から
の照射角Zに等しい角度Y1で入射する光、及び膜の反
対側で照射角Zに等しい角Y2で入射する光は最も強く
散乱される。言い替えればその角度で膜を通して向こう
側を見たとき、最も白濁して視界が遮られる。入射する
光は必ずしも第8図の紙面に平行な入射光だけでなく、
前記大射角YlまたはY2の光線を含みかつ紙面に垂直
な平面内を通って膜に入射する光(紙面に投影しても測
った大射角がYlまたはY2に等しい入射光)も最も強
く散乱される。そして種々の入射角の光に対するヘイズ
率はZの入射角近傍において最大である山形のグラフ形
状を示す。
の照射角Zに等しい角度Y1で入射する光、及び膜の反
対側で照射角Zに等しい角Y2で入射する光は最も強く
散乱される。言い替えればその角度で膜を通して向こう
側を見たとき、最も白濁して視界が遮られる。入射する
光は必ずしも第8図の紙面に平行な入射光だけでなく、
前記大射角YlまたはY2の光線を含みかつ紙面に垂直
な平面内を通って膜に入射する光(紙面に投影しても測
った大射角がYlまたはY2に等しい入射光)も最も強
く散乱される。そして種々の入射角の光に対するヘイズ
率はZの入射角近傍において最大である山形のグラフ形
状を示す。
もし線状照射光源の長軸方向大きさが小さくなり、前記
視角で表して、長軸の視角へが5°未溝になった時は重
合後の膜はもはや異方性を示さなくなり、との方向の入
射光に対しても散乱するようになる。このように照射光
源として点光源または実質的に平行な光を用いて重合し
た膜は無方向性の光散乱を示すようになる。
視角で表して、長軸の視角へが5°未溝になった時は重
合後の膜はもはや異方性を示さなくなり、との方向の入
射光に対しても散乱するようになる。このように照射光
源として点光源または実質的に平行な光を用いて重合し
た膜は無方向性の光散乱を示すようになる。
また逆に照射光源の短軸方向の大きさが次第に大きくな
ると、ヘイズ率のグラフの山の高さが低くなり、照射光
源の大きさが前記視角で表わして、短軸方向の視角Bが
100°よりも大きくなった時は、もはや異方性を示さ
なくなる。即ち、照射され重合した膜はどの方向からみ
ても透明であり、選択的な光散乱を示さなくなる。
ると、ヘイズ率のグラフの山の高さが低くなり、照射光
源の大きさが前記視角で表わして、短軸方向の視角Bが
100°よりも大きくなった時は、もはや異方性を示さ
なくなる。即ち、照射され重合した膜はどの方向からみ
ても透明であり、選択的な光散乱を示さなくなる。
このような光源としては、重合すべき膜に比較的近接し
て配置した面光源、または拡散光源を挙げることが出来
る。また、加熱によって膜を重合した場合も透明になる
。
て配置した面光源、または拡散光源を挙げることが出来
る。また、加熱によって膜を重合した場合も透明になる
。
このように線状光源を用いて重合した膜が選択的光散乱
を示す理由は定かではないが、第6図において微小体1
4.15は相互に屈折率が異なるN構造であり、 (こ
のような屈折率差は膜の原料として用いる光重合性の化
合物の単量体の単独重合体の屈折率差と深い関連がある
と考えられる)、微小体の傾斜角z +に近い角度で入
ってきた光は屈折率の異なる領域の境界で回折、散乱さ
れるためであると考えられる。角度選択性は回折の角度
選択性により、層構造の間隔によって決定されると考え
られる。即ち、層間隔が小さければ小さいほど散乱する
角度幅は大きくなると考えられる。
を示す理由は定かではないが、第6図において微小体1
4.15は相互に屈折率が異なるN構造であり、 (こ
のような屈折率差は膜の原料として用いる光重合性の化
合物の単量体の単独重合体の屈折率差と深い関連がある
と考えられる)、微小体の傾斜角z +に近い角度で入
ってきた光は屈折率の異なる領域の境界で回折、散乱さ
れるためであると考えられる。角度選択性は回折の角度
選択性により、層構造の間隔によって決定されると考え
られる。即ち、層間隔が小さければ小さいほど散乱する
角度幅は大きくなると考えられる。
また散乱の程度へイス率は微小構造(微小体14.15
)の屈折率差と層構造の乱れに影響される。
)の屈折率差と層構造の乱れに影響される。
即ち、屈折率差及び乱れが大きければ大きいほどへイス
率は高くなる。また、同じ層構造の乱れであれば膜厚が
厚くなるほど光が通る距離が長くなるために散乱の程度
が増幅されるためへイス率は高くなる。
率は高くなる。また、同じ層構造の乱れであれば膜厚が
厚くなるほど光が通る距離が長くなるために散乱の程度
が増幅されるためへイス率は高くなる。
@射光源が面光源または拡散光源である場合には、この
ような微小構造は形成されることなく、膜は透明であっ
て選択的な光散乱は示さない。また、照射光源が点光源
である場合には膜内には微小構造は形成されるものの、
線状照射光源の場合のような規則性がなくランダムに配
置し、従って、との様な入射光も微小構造内で反射して
、方向性の無い光散乱を与える膜となると考えられる。
ような微小構造は形成されることなく、膜は透明であっ
て選択的な光散乱は示さない。また、照射光源が点光源
である場合には膜内には微小構造は形成されるものの、
線状照射光源の場合のような規則性がなくランダムに配
置し、従って、との様な入射光も微小構造内で反射して
、方向性の無い光散乱を与える膜となると考えられる。
本発明においては、光照射光源とは反対の、前記膜状体
の裏面に位置する基板、マスク層または物体が場所的に
吸収率または反射率の異なる領域を有しているので、照
射光が膜状体を通過した後にその一部が前記膜状体と基
板の界面等において反射される場合にその反射光強度及
び反射角は場所によって変化する。本発明の光制御板は
前述したように光重合過程における層構造形成が重要で
あるので反射光量及び反射角の差にも敏感であり、その
差によって異なった層構造が形成される。そのため基板
の吸収率または反射率の異なった領域に依存してヘイズ
率の絶対値及び角度依存性が異なった領域が形成される
。
の裏面に位置する基板、マスク層または物体が場所的に
吸収率または反射率の異なる領域を有しているので、照
射光が膜状体を通過した後にその一部が前記膜状体と基
板の界面等において反射される場合にその反射光強度及
び反射角は場所によって変化する。本発明の光制御板は
前述したように光重合過程における層構造形成が重要で
あるので反射光量及び反射角の差にも敏感であり、その
差によって異なった層構造が形成される。そのため基板
の吸収率または反射率の異なった領域に依存してヘイズ
率の絶対値及び角度依存性が異なった領域が形成される
。
本発明において使用される基板には従来のフォトマスク
を基板に使用しても良いし、一部スリガラス領域を持つ
ガラス板または鏡を用いても良いし、どんな方法によフ
ても吸収率または反射率の異なる領域を有すれば良い、
また、ガラス基板の下に吸収率または反射率の異なる物
体を置くと、その形状が忠実に転写され、従来のフォト
マスク等の遮蔽層を用いた二段階光@射方法では得られ
なかったような特徴を有する1枚の基板中に光の散乱角
度が異なる領域を有する光制御板を得ることも可能であ
る。
を基板に使用しても良いし、一部スリガラス領域を持つ
ガラス板または鏡を用いても良いし、どんな方法によフ
ても吸収率または反射率の異なる領域を有すれば良い、
また、ガラス基板の下に吸収率または反射率の異なる物
体を置くと、その形状が忠実に転写され、従来のフォト
マスク等の遮蔽層を用いた二段階光@射方法では得られ
なかったような特徴を有する1枚の基板中に光の散乱角
度が異なる領域を有する光制御板を得ることも可能であ
る。
〈発明の効果〉
本発明により、非常に簡易な方法で、その領域が規定通
りに転写される、−枚の基板上に散乱する角度範囲及び
散乱の程度(ヘイズ率)が異なる種々の領域を有する光
制御板を得ることが可能となった。
りに転写される、−枚の基板上に散乱する角度範囲及び
散乱の程度(ヘイズ率)が異なる種々の領域を有する光
制御板を得ることが可能となった。
〈実施例〉
以下、この発明の実施例を挙げて説明するが本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
れらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
平均分子量2000のポリプロピレングリコール、ヒド
ロキシエチルアクリレート、イソホロンジイソシアネー
トから成るポリエーテルウレタンアクリレート(屈折率
1.481)100部、トリブロモフェノキシエチルア
クリレート(屈折率1.567)100部、ヒドロキシ
イソブチルフェノン6部から成る樹脂組成物をiaする
。第1図−すに示すように、全面透明なガラス板2と。
ロキシエチルアクリレート、イソホロンジイソシアネー
トから成るポリエーテルウレタンアクリレート(屈折率
1.481)100部、トリブロモフェノキシエチルア
クリレート(屈折率1.567)100部、ヒドロキシ
イソブチルフェノン6部から成る樹脂組成物をiaする
。第1図−すに示すように、全面透明なガラス板2と。
別の透明ガラス板の表面に光を反射しない黒色の塗料で
rAJの文字の形を描いて被覆して作ったフォトマスク
ガラス板3とを被覆面が内側になるようにして組み立て
た。350μmの間隔を待つにセル中に注入して、前記
樹脂組成物の膜状体を維持する。そして第1図−a、
−bに示すように鏡6の上に前記フォトマスクガラス
板が下になるようにかつX−Y面に平行にかつAの文字
の縦方向がY軸に平行になるようにセルを置いて、全面
透明なガラス板面2の中心から垂線方向に40cmの間
隔をあけて上方(Z方向)に棒状紫外線ランプ(80W
/ c m、 2 K W、 ランプ長25cm
)をY軸に平行に設置し、全面透明なガラス板2側から
紫外線を約2分間照射して樹脂組成物膜状体を重合硬化
させる。そしてフォトマスクガラス板3を取り外すこと
により光制御板が作製された。
rAJの文字の形を描いて被覆して作ったフォトマスク
ガラス板3とを被覆面が内側になるようにして組み立て
た。350μmの間隔を待つにセル中に注入して、前記
樹脂組成物の膜状体を維持する。そして第1図−a、
−bに示すように鏡6の上に前記フォトマスクガラス
板が下になるようにかつX−Y面に平行にかつAの文字
の縦方向がY軸に平行になるようにセルを置いて、全面
透明なガラス板面2の中心から垂線方向に40cmの間
隔をあけて上方(Z方向)に棒状紫外線ランプ(80W
/ c m、 2 K W、 ランプ長25cm
)をY軸に平行に設置し、全面透明なガラス板2側から
紫外線を約2分間照射して樹脂組成物膜状体を重合硬化
させる。そしてフォトマスクガラス板3を取り外すこと
により光制御板が作製された。
JISK−6714に準じ積分球式光線透過率測定装置
によりこの光制御板の全光線透過率および散乱光透過率
をそれぞれ文字Aの部分および文字A以外の部分につい
て測定しヘーズ率(曇価)を求めた。光制御板をその辺
abに平行な軸のまわりに傾けて光を辺abに直角な方
向から入射させ入射光と光制御板との角度を変化させて
、上記価を算出した。入射角(垂直入射は入射角0度)
に対するヘーズ率の変化を第2図に示す、ここで実線は
文字「A」に該当する部分、点線は文字以外に該当する
部分のヘーズ率を表している。すなわち、光制御板の文
字Aに該当する部分における垂直入射光のへイス率の絶
対値は80%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は23°
であり、文字A以外の領域における垂直入射光のへイス
率の絶対値は75%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は
18°であった。この制御板を正面においてIII察す
ると、他の部分よりも約10パーセント高いヘーズ率の
Aの文字が識別でき、制御板を左右各15度以内の傾斜
させてもこの文字が見え、それを越す角度傾斜させると
制御板全面は透明となり文字は見えなかった。このよう
に、 1枚の基板上にヘイズ率の絶対値及び角度依存性
が異なる領域を同時に有する光制御板が作製された。
によりこの光制御板の全光線透過率および散乱光透過率
をそれぞれ文字Aの部分および文字A以外の部分につい
て測定しヘーズ率(曇価)を求めた。光制御板をその辺
abに平行な軸のまわりに傾けて光を辺abに直角な方
向から入射させ入射光と光制御板との角度を変化させて
、上記価を算出した。入射角(垂直入射は入射角0度)
に対するヘーズ率の変化を第2図に示す、ここで実線は
文字「A」に該当する部分、点線は文字以外に該当する
部分のヘーズ率を表している。すなわち、光制御板の文
字Aに該当する部分における垂直入射光のへイス率の絶
対値は80%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は23°
であり、文字A以外の領域における垂直入射光のへイス
率の絶対値は75%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は
18°であった。この制御板を正面においてIII察す
ると、他の部分よりも約10パーセント高いヘーズ率の
Aの文字が識別でき、制御板を左右各15度以内の傾斜
させてもこの文字が見え、それを越す角度傾斜させると
制御板全面は透明となり文字は見えなかった。このよう
に、 1枚の基板上にヘイズ率の絶対値及び角度依存性
が異なる領域を同時に有する光制御板が作製された。
実施例2
ポリテトラメチレンエーテルグリコール、トルエンジイ
ソシアネート、ヒドロキシエチルアクリレートからなる
ポリエーテルウレタンアクリレート100部、 トリブ
ロモフェニルメタクリレート100部、ベンジルジメチ
ルケタール6部からなる梅脂組成物を、水平においた厚
み2 m mのガラス板の表面に300μmの厚みで塗
布し、第3図に示すように鏡の上に100円硬貨を置き
、その上にそのガラス基板を密着保持(X−Y面に平行
)した後、40cmの間隔をあけて上方に棒状の高圧紫
外線ランプ1 (80W / c m、 2 K W
、 ランプ長25cm)をY軸に平行に設置し、1分
間紫外線を照射する。この操作によってヘイズ率の絶対
値及び角度依存性が異なるために1枚の基板上に100
円硬貨の形状及び表面の凹凸例えば「100」の文字が
明確に観察される光制御板が作製された。光制御板の1
00円硬貨に当接していた部分について、入射角(垂直
入射は入射角0度)に対するヘーズ率の変化を第4図の
実線17で。
ソシアネート、ヒドロキシエチルアクリレートからなる
ポリエーテルウレタンアクリレート100部、 トリブ
ロモフェニルメタクリレート100部、ベンジルジメチ
ルケタール6部からなる梅脂組成物を、水平においた厚
み2 m mのガラス板の表面に300μmの厚みで塗
布し、第3図に示すように鏡の上に100円硬貨を置き
、その上にそのガラス基板を密着保持(X−Y面に平行
)した後、40cmの間隔をあけて上方に棒状の高圧紫
外線ランプ1 (80W / c m、 2 K W
、 ランプ長25cm)をY軸に平行に設置し、1分
間紫外線を照射する。この操作によってヘイズ率の絶対
値及び角度依存性が異なるために1枚の基板上に100
円硬貨の形状及び表面の凹凸例えば「100」の文字が
明確に観察される光制御板が作製された。光制御板の1
00円硬貨に当接していた部分について、入射角(垂直
入射は入射角0度)に対するヘーズ率の変化を第4図の
実線17で。
それ以外の部分は点線10でそれぞれ示す、100円硬
貨の領域のへイス率の最大値は82%、ヘイズ率70%
以上の角度範囲は24°であった。
貨の領域のへイス率の最大値は82%、ヘイズ率70%
以上の角度範囲は24°であった。
尚、100円硬貨の領域以外のへイス率の最大値は73
%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は160であった。
%、ヘイズ率70%以上の角度範囲は160であった。
実施例3
フォトマスクガラス板表面に患色塗料で被覆する代わり
に同じrAJの文字の形に作ったアルミ箔を張り付け、
鏡の代わりに黒色の布を用い、棒状の高圧紫外線ランプ
を真上ではなく右斜め上45度の位置から照射した以外
は実施例1と同じ条件で光制御板を作成した。光制御板
をその辺&bに平行な軸のまわりに傾けて光を辺abに
直角な方向から入射させ入射光と光制御板との角度を変
化1μm−すなわち9文字入に該当する部分の光制御板
の領域に置けるヘイズ率の絶対値は76%、ヘイズ率7
0%以上の角度範囲は186であり、その他の領域にお
けるヘイズ率の絶対値は80%、ヘイズ率70%以上の
角度範囲は23°であった。
に同じrAJの文字の形に作ったアルミ箔を張り付け、
鏡の代わりに黒色の布を用い、棒状の高圧紫外線ランプ
を真上ではなく右斜め上45度の位置から照射した以外
は実施例1と同じ条件で光制御板を作成した。光制御板
をその辺&bに平行な軸のまわりに傾けて光を辺abに
直角な方向から入射させ入射光と光制御板との角度を変
化1μm−すなわち9文字入に該当する部分の光制御板
の領域に置けるヘイズ率の絶対値は76%、ヘイズ率7
0%以上の角度範囲は186であり、その他の領域にお
けるヘイズ率の絶対値は80%、ヘイズ率70%以上の
角度範囲は23°であった。
この制御板を正面において観察すると、制御板全面は透
明となり文字は見えなかったが、制御板を右側を手前に
各30−60度の範囲傾斜させると。
明となり文字は見えなかったが、制御板を右側を手前に
各30−60度の範囲傾斜させると。
他の部分よりも約10パーセント低いヘーズ率のAの文
字が識別でき、それを越す角度傾斜させると全面透明と
なった。
字が識別でき、それを越す角度傾斜させると全面透明と
なった。
第1fffl−al−bは、それぞれ本発明の一つの実
施例を示す側面図及び斜視図、第2図はこの実施例によ
って製造した光制御板の散乱特性を示すグラフ、第3図
−a、−bは、それぞれは本発明の他の実施例を示す側
面図、及び斜視図、第4図はこの実施例によって製造し
た光制御板の散乱特性を示すグラフ、第5〜第8図は本
発明を原理的に理解するための概略図である。− 1、線状照射光源 2.全面透明なガラス板 3、フォトマスクガラス板 4.マスク領域5、原料樹
脂組成物膜状体 6.鏡 7、マスク領域上のヘイズ率曲線 8゜ 9゜ 1 0゜ 11゜ 1 3゜ 14゜ 17゜ マスク以外の領域上のへイス率曲線 100円硬貨 100円硬貨以外の領域上のへイス率曲線膜状体の光照
射面 】2.微小構造層光照射面から微小構造層まで
の層 15、微小体 16. 線状照射光源100円
硬貨の領域上のへイス率曲線 //1い 第 図−q 第 図−b (%) 入 射 角 (″) 第2図 ソ 第3 図−〇 第3図−b (”/、) 第 図 第5 図 第 図 第 図−〇 第 図−b A 第81I
施例を示す側面図及び斜視図、第2図はこの実施例によ
って製造した光制御板の散乱特性を示すグラフ、第3図
−a、−bは、それぞれは本発明の他の実施例を示す側
面図、及び斜視図、第4図はこの実施例によって製造し
た光制御板の散乱特性を示すグラフ、第5〜第8図は本
発明を原理的に理解するための概略図である。− 1、線状照射光源 2.全面透明なガラス板 3、フォトマスクガラス板 4.マスク領域5、原料樹
脂組成物膜状体 6.鏡 7、マスク領域上のヘイズ率曲線 8゜ 9゜ 1 0゜ 11゜ 1 3゜ 14゜ 17゜ マスク以外の領域上のへイス率曲線 100円硬貨 100円硬貨以外の領域上のへイス率曲線膜状体の光照
射面 】2.微小構造層光照射面から微小構造層まで
の層 15、微小体 16. 線状照射光源100円
硬貨の領域上のへイス率曲線 //1い 第 図−q 第 図−b (%) 入 射 角 (″) 第2図 ソ 第3 図−〇 第3図−b (”/、) 第 図 第5 図 第 図 第 図−〇 第 図−b A 第81I
Claims (3)
- (1)屈折率が異なる少なくとも2種の化合物を含有す
る光重合性組成物を膜状に維持し、この膜状体に特定の
方向から光を照射して重合硬化させて、所定角度範囲の
入射光を散乱する機能を有する光制御板を製造する方法
において、膜状体を通過した照射光の少なくとも一部が
再び膜状体に戻るように、かつその戻る光が膜状体の場
所によって異なるようにする手段を前記照射光の光源と
は反対側の膜状体裏面に近接して配置することを特徴と
する、入射光を散乱する散乱角度範囲及び散乱の値が場
所的に異なる光制御板の製造方法。 - (2)前記手段は前記照射光を吸収、散乱または反射し
、かつ所定の形状を有する層である特許請求の範囲第1
項記載の光制御板の製造方法。 - (3)前記手段は前記照射光に対する散乱もしくは反射
が場所的に異なる層である特許請求の範囲第1項記載の
光制御板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1092149A JPH02268872A (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | 光制御板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1092149A JPH02268872A (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | 光制御板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02268872A true JPH02268872A (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=14046369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1092149A Pending JPH02268872A (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | 光制御板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02268872A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012141592A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Lintec Corp | 異方性光拡散フィルム用組成物および異方性光拡散フィルム |
-
1989
- 1989-04-12 JP JP1092149A patent/JPH02268872A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012141592A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Lintec Corp | 異方性光拡散フィルム用組成物および異方性光拡散フィルム |
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