JPH0226928Y2 - - Google Patents

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JPH0226928Y2
JPH0226928Y2 JP1984086326U JP8632684U JPH0226928Y2 JP H0226928 Y2 JPH0226928 Y2 JP H0226928Y2 JP 1984086326 U JP1984086326 U JP 1984086326U JP 8632684 U JP8632684 U JP 8632684U JP H0226928 Y2 JPH0226928 Y2 JP H0226928Y2
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JP
Japan
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slab
scale
induction heating
heating furnace
furnace
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JP1984086326U
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JPS612440U (ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/25Process efficiency

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  • Furnace Details (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (技術分野) スラブ誘導加熱炉に関してこの明細書で述べる
技術内容は、該加熱炉内におけるスラブの加工中
に生成するスケールの、炉内堆積による障害を排
除することについての開発成果を提案するところ
にある。
(背景技術) スラブの熱間圧延のために、誘導加熱炉が用い
られ始めている。この加熱炉では、スラブを横置
するタイプにすると、スケールが誘導コイル上に
堆積し、下に溶出して煉瓦の損傷を来したり、ひ
どい場合はスラブの搬送が困難になる等の問題が
有るので、スラブの直立姿勢にて誘導加熱するた
て型タイプがむしろ一般的である。この場合にあ
つても、加熱時におけるスケールの生成はもちろ
ん不可避である。
このようなスケールの生成量を抑制する目的
で、加熱炉内の酸素濃度を下げる雰囲気の制御が
行われ、いわゆる密封方式である。
つまりスケールの生成量は、主に雰囲気温度、
滞留時間、そして酸素濃度によつて自ら定まるか
らである。
雰囲気温度、滞留時間については共に、スラブ
に熱間圧延を施すに十分な均一性を有する温度に
加熱する必要があり、そして鋼中に析出した各種
添加元素を十分に固溶させる必要があることなど
から、それぞれ最底値が決定される。一方におい
て炉内酸素濃度は一般に、その値をいくら低くし
ても何ら品質操業面に悪影響をおよぼさず、可能
な限り濃度を低くするとスケール生成量が抑制さ
れ得る。
つまり誘導加熱炉は、炉形を密封形とし炉内雰
囲気の酸素濃度を下げて、スケール生成量を減少
させる方法が指向される所以である。
(問題点) ところが、炉内装入時すでにスラブ表面にスケ
ールが付着し、また雰囲気制御下の加熱中にも僅
かながらスケールの生成は不可避であり、とくに
方向性けい素鋼スラブの如く、1300℃以上の表面
温度への加熱を要して、そこに発生する溶融スケ
ールなどが、従来の密封形誘導加熱炉による場合
にあつても、直立姿勢のスラブ支持を司るスキツ
ドの上面や炉内下部炉壁に付着、堆積して、スラ
ブの自立支持の妨げとなり、また気密性を悪化さ
せたり、さらには下部炉壁を損傷するなどの問題
が生じ、複数のスラブを連続的に加熱する操業を
困難にしたり、また余分な炉の保守費が必要とな
つていた。
(考案の目的) 上記のようなスケール、溶融スケールの付着落
下に起因する問題点を解決し、連続的に円滑な誘
導加熱が行なえるようにすることがこの考案の目
的である。
(考案の構成) この考案は、熱間圧延に際して、直立姿勢のス
ラブ加熱に供するたて形誘導加熱炉において、直
立姿勢のスラブの支持を司るスキツド上面を、ス
ラブ厚さよりも狭幅とし、このスキツドの両側面
に面して誘導加熱炉の下方を開閉する一対の底扉
を設け、各底扉には落下スケールを受ける処理用
樋を設けてなり又この処理用樋にスケールを除去
する排出装置を設けてなるたて型スラブ誘導加熱
炉である。
さて第1図A,Bに2つの考案に従うたて形ス
ラブ誘導加熱炉の実施例をスラブ加熱状態とスケ
ール排除状態について個別図解し、図中1は加熱
コイル、2はスラブ、3は炉体、4はスキツドで
あり、5は一対の底扉、6はその開閉用操作シリ
ンダー、7はスキツド支持ビーム、8はスケール
処理樋、そして9は高圧水又は気体噴射用ヘツダ
ー、10はヘツダー9の昇降シリンダー、11は
スケールバツクである。ここにスキツド4はスラ
ブ厚さよりもやや狭幅の上面にてスラブ2を直立
姿勢にて支持し、下向きに末広がりをなす側面傾
斜部を設けることにより、スケール、溶融スケー
ルの落下を滑らかに導いて処理樋8内に収容す
る。
一対の底扉5は、水平方向にスライド開閉式と
し、この底扉上に上記処理用樋8を配設する。
底扉5は、炉体3に対する摺動部と、スキツド
4又はその支持ビーム7の側面とに対し気密保持
を司る耐熱パツキン(図示略)を取付け炉体3を
密封することが好ましい。
このようにして第1図Aの状態の加熱中に生成
するスケール、溶融スケールを処理用樋8で受
け、スラブ2の加熱完了後に底扉5を第1図Bの
ように開きスラブ2をスキツド4およびその支持
ビーム7とともに降下させてから、熱間圧延工程
へ搬送する間に高圧水又は、気体の噴射などによ
り処理用樋8からスケールを排出する。
このスケール排出のありさまを、第2図Aに示
すように、底扉5の開放待避位置にてヘツダー昇
降シリンダー10よりヘツダー9を処理用樋8に
適合させ、樋内のスケールをスケールバツグ11
に向けて洗い流すのである。
もちろんこのスケール排出は、第2図Bのよう
に処理用樋8に沿つて可動としたへら、又はブラ
シ12によつてスケールバツク11に向け掃き出
すような機械的な仕組みによつてもよい。図中1
3,14は、ブラシ12の駆動に供したピニオ
ン、ラツク、15は駆動モータ、16はガイドロ
ツドである。
この考案の適用は、すでに述べたように密封方
式とするのが好ましく、それというのは、第3図
に在炉時間に応じるスケール生成量をスラブの表
面温度と、雰囲気酸素濃度とをパラメータとして
示したように、表面温度が高い程、酸素濃度の影
響が著しいからである。
(実施例) サイズ250mm厚さ×1000mm幅×10000mm長さの熱
間圧延用スラブを、スラブ表面温度が、1280℃ま
で加熱するにあたり第1図に示した密封式たて型
スラブ誘導加熱炉を用いた。
連続鋳造機で製造したスラブ2を、転回機にて
直立姿勢つまり側面を下向きに、平面を鉛直状態
にしてスキツド4上に保持して、底扉5を開放し
た炉体3内に上昇装入し、底扉5をその開閉用操
作シリンダ6によつて気密に閉ざし、炉内雰囲気
を調整した上で加熱コイルに通電して加熱を行
う。
約90分の在炉時間でスラブ2の表面温度は1280
℃、また厚み中心部温度はほぼ1240℃となり、こ
のとき逆に底扉5を開いて加熱スラブ2を抽出
し、再び転回機を用いて横置姿勢に戻し圧延ライ
ンへ供給した。
この加熱スラブ2の抽出スラブ2の抽出時点
で、処理用樋8に落下したスケールを排出清掃し
次の装入を待機させた。
(考案の効果) この考案によればスラブの誘導加熱完了の際に
はいつでも処理用樋に受けたスケールを排出する
ことができるので、連続して円滑なスラブ加熱が
可能となり、炉内におけるスケールの堆積、滞留
による一切のトラブルが解消した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、たて型スラブ加熱炉の稼動および、
待機の各過程における断面図、第2図は、スケー
ル排出要領の設明図、第3図は、在炉時間とスケ
ール生成量の関係グラフである。 1…加熱コイル、2…スラブ、3…炉体、4…
スキツド、5…底扉、8…処理用樋、9,12…
スケール除去装置(ヘツダー、ブラシ)。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 熱間圧延に際して、直立姿勢のスラブ加熱に
    供するたて形誘導加熱炉において、直立姿勢の
    スラブの支持を司るスキツド上面を、スラブ厚
    さよりも狭幅とし、このスキツドの両側面に面
    して誘導加熱炉の下方を開閉する一対の底扉を
    設け、各底扉には落下スケールを受ける処理用
    樋を設けてなるたて型スラブ誘導加熱炉。 2 処理用樋がスケールを除去する排出装置をそ
    なえる実用新案登録請求の範囲1記載のたて型
    スラブ誘導加熱炉。
JP1984086326U 1984-06-11 1984-06-11 たて型スラブ誘導加熱炉 Granted JPS612440U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984086326U JPS612440U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 たて型スラブ誘導加熱炉

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984086326U JPS612440U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 たて型スラブ誘導加熱炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS612440U JPS612440U (ja) 1986-01-09
JPH0226928Y2 true JPH0226928Y2 (ja) 1990-07-20

Family

ID=30637529

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1984086326U Granted JPS612440U (ja) 1984-06-11 1984-06-11 たて型スラブ誘導加熱炉

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JP (1) JPS612440U (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0771673B2 (ja) * 1990-11-21 1995-08-02 勇 岩井 濾材循環式汚水浄化装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS612440U (ja) 1986-01-09

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