JPH02269319A - デポジション プロセス - Google Patents
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- JPH02269319A JPH02269319A JP1287258A JP28725889A JPH02269319A JP H02269319 A JPH02269319 A JP H02269319A JP 1287258 A JP1287258 A JP 1287258A JP 28725889 A JP28725889 A JP 28725889A JP H02269319 A JPH02269319 A JP H02269319A
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- 238000005137 deposition process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 11
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000001046 green dye Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 2
- UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N Cloperastine hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(Cl)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)OCCN1CCCCC1 UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
この発明はデポジションプロセスに関し、そして詳細に
は、相互に関して正確に位置ぎめされた領域を有する材
料の基板薄膜上にデポジションを行なうプロセスに関ｆ
、６゜ 多くの異なる種類の電子デバイスを製造する際に、２つ
以上の薄膜材料が、例えば真空蒸着によって、薄膜の１
つの区域が他方の薄膜の区域に対して正確に位置ぎめさ
れるように、基板上に付着されなければならない。
は、相互に関して正確に位置ぎめされた領域を有する材
料の基板薄膜上にデポジションを行なうプロセスに関ｆ
、６゜ 多くの異なる種類の電子デバイスを製造する際に、２つ
以上の薄膜材料が、例えば真空蒸着によって、薄膜の１
つの区域が他方の薄膜の区域に対して正確に位置ぎめさ
れるように、基板上に付着されなければならない。
そのようなデバイスの１つは、カラーテレビ受像器用の
パネル状液晶デイスプレィがある。
パネル状液晶デイスプレィがある。
そのようなデイスプレィは２枚の間隔を置いた平行な透
明プレートから成り、その間に多量の液晶材料が封じ込
められている。１プレートの内側面には、赤、青および
緑の染料から成る平行ストライプ、あるいはまたロー（
行〕とコラム（列〕の矩形素子区域が付着されて、カラ
ーフィルタとして作用する。液晶セルの良めの電極とし
て作用するには、染料のストライプあるいは区域上に、
それらと正確に位置合わせして、対応する透明導電材料
のストライプあるいは区域が付着されなければならない
。
明プレートから成り、その間に多量の液晶材料が封じ込
められている。１プレートの内側面には、赤、青および
緑の染料から成る平行ストライプ、あるいはまたロー（
行〕とコラム（列〕の矩形素子区域が付着されて、カラ
ーフィルタとして作用する。液晶セルの良めの電極とし
て作用するには、染料のストライプあるいは区域上に、
それらと正確に位置合わせして、対応する透明導電材料
のストライプあるいは区域が付着されなければならない
。
口、従来の技術
そのような電極を付着する従来のプロセスは、デイスプ
レィ領域全体に導電材料のフィルムを付着する段階と、
導電フィルムの上にレジスト材料の層を付着する段階と
、レジスト層をマスクする段階と、レジスト層を撮像す
る段階と、染料区域間の空間に対応するレジスト層の区
域を溶解させる段階と、およびこれらの空間に対応する
導電着をエツチングする段階、とから成る。
レィ領域全体に導電材料のフィルムを付着する段階と、
導電フィルムの上にレジスト材料の層を付着する段階と
、レジスト層をマスクする段階と、レジスト層を撮像す
る段階と、染料区域間の空間に対応するレジスト層の区
域を溶解させる段階と、およびこれらの空間に対応する
導電着をエツチングする段階、とから成る。
導電着の残りの区域は、ストライプあるいは区域が数ミ
クロンの幅しかなかったとしても、染料ストライプある
いは矩形区域と正確に位置合わせされなければならない
。このプロセスは非常に正確なマスクの位置ぎめを必要
としており、それは時間浪費でｌ）、かつ高価な設備を
必要とする。
クロンの幅しかなかったとしても、染料ストライプある
いは矩形区域と正確に位置合わせされなければならない
。このプロセスは非常に正確なマスクの位置ぎめを必要
としており、それは時間浪費でｌ）、かつ高価な設備を
必要とする。
別のプロセスでは、染料ストライプあるいは区域間にお
ける導電着の不要部分は、レーザビームによって腐食さ
れる。これもまた、非常に正確な、かつ高価な位置ぎめ
設備を必要とする。
ける導電着の不要部分は、レーザビームによって腐食さ
れる。これもまた、非常に正確な、かつ高価な位置ぎめ
設備を必要とする。
ハ８作用
本発明の目的は、透明な基板上に、上述の染料および導
電材料の区域のような、正確に位置ぎめされた区域を形
成する簡略化プロセスを提供することである。
電材料の区域のような、正確に位置ぎめされた区域を形
成する簡略化プロセスを提供することである。
この発明の第１の様相によれば、基板の前面に、同じま
たは異なるカラーフィルタ材料の、間隔をあけた第１領
域と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめされた、別
の材料の、間隔をあけた第２領域とを形成するプロセス
であって、このプロセスは、前記第１領域を基板上に形
成する段階と、前記第１領域の上およびその間の空間の
上に前記他の材料の層を付着させる段階と、基板の裏面
を、基板と前記他の材料はそれに対してほぼ透明であシ
、そして前記第１領域の名々の材料はほぼ不透明になっ
ている放射線で照射し、それによってその放射線は基板
を通り抜け、そして前記空間内の前記第２材料のこれら
の領域のみに衝突し、よって前記第２材料のこれらの領
域を、照射されていない第２材料が可溶である溶剤に対
して不溶性にする段階と、および前記溶剤を使用して前
記空間における以外の第２材料を取除く段階、とから成
る前記プロセスが提供されている。
たは異なるカラーフィルタ材料の、間隔をあけた第１領
域と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめされた、別
の材料の、間隔をあけた第２領域とを形成するプロセス
であって、このプロセスは、前記第１領域を基板上に形
成する段階と、前記第１領域の上およびその間の空間の
上に前記他の材料の層を付着させる段階と、基板の裏面
を、基板と前記他の材料はそれに対してほぼ透明であシ
、そして前記第１領域の名々の材料はほぼ不透明になっ
ている放射線で照射し、それによってその放射線は基板
を通り抜け、そして前記空間内の前記第２材料のこれら
の領域のみに衝突し、よって前記第２材料のこれらの領
域を、照射されていない第２材料が可溶である溶剤に対
して不溶性にする段階と、および前記溶剤を使用して前
記空間における以外の第２材料を取除く段階、とから成
る前記プロセスが提供されている。
前記第１と第２の領域は好ましいことに、共にほぼ平坦
化層を形成している。
化層を形成している。
この発明の別の様相によれば、基板の前面に、同じま危
は異なるカラーフィルタ材料の、間隔をあけた第１領域
と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめされた、別の
材料の、間隔をあけた第２領域とを形成するプロセスで
あって、このプロセスは、前記第１領域を基板上に形成
する段階と、前記第１領域の上およびその間の空間の上
に前記他の材料の層を付着させる段階と、前記第２層の
上にレジスト材料の層を付着させる段階と、基板の裏面
を、基板と前記他の材料はそれに対してほぼ透明であシ
、そして前記第１領域の各々の材料はほぼ不透明になっ
ている放射線で照射し、よってその放射線は基板を、そ
してそこから前記第１領域間の空間を通り抜け、そして
前記空間の上の区域におけるレジスト層にのみ衝突し、
よってこれらのレジスト層区域を可溶性にする段階と、
およびこれらのレジスト層区域を溶解し、その下の前記
他の材料の対応区域を除去する段階、とから成る前記プ
ロセスが提供されている。
は異なるカラーフィルタ材料の、間隔をあけた第１領域
と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめされた、別の
材料の、間隔をあけた第２領域とを形成するプロセスで
あって、このプロセスは、前記第１領域を基板上に形成
する段階と、前記第１領域の上およびその間の空間の上
に前記他の材料の層を付着させる段階と、前記第２層の
上にレジスト材料の層を付着させる段階と、基板の裏面
を、基板と前記他の材料はそれに対してほぼ透明であシ
、そして前記第１領域の各々の材料はほぼ不透明になっ
ている放射線で照射し、よってその放射線は基板を、そ
してそこから前記第１領域間の空間を通り抜け、そして
前記空間の上の区域におけるレジスト層にのみ衝突し、
よってこれらのレジスト層区域を可溶性にする段階と、
およびこれらのレジスト層区域を溶解し、その下の前記
他の材料の対応区域を除去する段階、とから成る前記プ
ロセスが提供されている。
前記第１領域は染料材料から形成することができ、そし
て前記他の材料は透明導電材料であってよい。放射線は
紫外線であることが望ましい。
て前記他の材料は透明導電材料であってよい。放射線は
紫外線であることが望ましい。
二、実施例
次に、添付の図面を参照して、この発明の実施態様を、
−例として説明する。
−例として説明する。
第１（ａ）図では、先ず、赤、緑および青の染料材料か
ら成るストライプ１，２および３、あるいはローとコラ
ムの素子区域が、通常のマスキングおよびデポジション
技術によって、ガラスあるいはその他の透明基板４上に
付着され、その間に空間５および６のような空間を残す
。この基板は液晶デイスプレィパネルの１プレートを形
成することになっている。染料材料は、例えば、染色ポ
リイミド、染色ホトレジスト材料あるいはゼラチンベー
ス材料であってよい。電着材料を使用することもできる
。
ら成るストライプ１，２および３、あるいはローとコラ
ムの素子区域が、通常のマスキングおよびデポジション
技術によって、ガラスあるいはその他の透明基板４上に
付着され、その間に空間５および６のような空間を残す
。この基板は液晶デイスプレィパネルの１プレートを形
成することになっている。染料材料は、例えば、染色ポ
リイミド、染色ホトレジスト材料あるいはゼラチンベー
ス材料であってよい。電着材料を使用することもできる
。
次いで、感光ポリイミドのような、負感光材料の層７（
第１（ｂ）図）がストライプ１．２および３の上に付層
される。図示されるように、この層には、ストライプの
上では隆起し、空間では下降するりねシがある。
第１（ｂ）図）がストライプ１．２および３の上に付層
される。図示されるように、この層には、ストライプの
上では隆起し、空間では下降するりねシがある。
第１（Ｃ）図では、次いで、放射線源８を利用して基板
をその裏側から照射する。放射線の種類は、基板と感光
層の材料がそれに対してほぼ透明であるが、染料区域は
それに対してほぼ不透明であるように選択される。さら
に、放射線は感光材料を活性化することができなければ
ならない。上述の材料に対して、４０５ｎｍ波長の紫外
線は有効であると判断される。他の応用例において、赤
外線のような他の波長の放射線を利用することができる
。
をその裏側から照射する。放射線の種類は、基板と感光
層の材料がそれに対してほぼ透明であるが、染料区域は
それに対してほぼ不透明であるように選択される。さら
に、放射線は感光材料を活性化することができなければ
ならない。上述の材料に対して、４０５ｎｍ波長の紫外
線は有効であると判断される。他の応用例において、赤
外線のような他の波長の放射線を利用することができる
。
紫外線は基板４および空間５と６を通り抜け、そして層
７の区域の空間のすぐ上は通り抜けるが、染料ストライ
プは通り抜けない。よって、ポリイミドの重合化領域９
，１０．１１および１２が空間内と上に形成されるが、
染料ストライプ上の領域ｔ３，１４および１５は影響を
受けない。
７の区域の空間のすぐ上は通り抜けるが、染料ストライ
プは通り抜けない。よって、ポリイミドの重合化領域９
，１０．１１および１２が空間内と上に形成されるが、
染料ストライプ上の領域ｔ３，１４および１５は影響を
受けない。
次いでこのデバイスは溶剤で処理されるが、この溶剤は
不活性化ポリイミド領域１３．１４および１５を溶解し
、領域９，１０，１１および１２をそのままに残すが（
第１（ｄ）図）、染料ストライプ１．２．３の上方に突
出させている。
不活性化ポリイミド領域１３．１４および１５を溶解し
、領域９，１０，１１および１２をそのままに残すが（
第１（ｄ）図）、染料ストライプ１．２．３の上方に突
出させている。
ポリイミド層の厚さは慎重に調節されて、必要とされる
いずれの高温焼出し後でも、はぼ平坦層（第１（ｅ）図
）を与える。例えば、導電着のような別の層を、このほ
ぼ平坦層の上に形成することができる。
いずれの高温焼出し後でも、はぼ平坦層（第１（ｅ）図
）を与える。例えば、導電着のような別の層を、このほ
ぼ平坦層の上に形成することができる。
層７としてポリイミドを使用する代りに、いずれの他の
適切な感光材料を使用することができる。
適切な感光材料を使用することができる。
第２図は、この発明による別のプロセスを示す。この場
合、染料材料のストライプｊ６．１７および１８、ある
いは矩形区域は、上述のようにその間に空間２０．２）
を有する透明基板１９上に付着される。この染料材料は
前に述べた染料材料のどれでらってもよい。空間２０．
２）は上述のように、インジウム・すず酸化物（ＩＴＯ
）のような透明導電物質の層がその上に付着される（第
２（ｂ）図）前に、ポリイミドで満たされて平坦層を形
成する。あるいはまた、・ストライプ１６．１７．１８
は、紫外線に対して透明な平坦化材料を使用して、通常
の技術によって平坦化することができる。
合、染料材料のストライプｊ６．１７および１８、ある
いは矩形区域は、上述のようにその間に空間２０．２）
を有する透明基板１９上に付着される。この染料材料は
前に述べた染料材料のどれでらってもよい。空間２０．
２）は上述のように、インジウム・すず酸化物（ＩＴＯ
）のような透明導電物質の層がその上に付着される（第
２（ｂ）図）前に、ポリイミドで満たされて平坦層を形
成する。あるいはまた、・ストライプ１６．１７．１８
は、紫外線に対して透明な平坦化材料を使用して、通常
の技術によって平坦化することができる。
次いでＩＴＯ層２２の上に、正レジスト材料の層２３（
第２（Ｃ）図）が付着される。次いで、前述のように、
紫外線の光源２４は基板を照射しく第２（ｄ）図〕、従
ってレジストを活性化する紫外線は基板を通り抜け、空
間２０と２）でのポリイミドを通り抜けるが、染料区域
１６，１７．１８は通り抜けない。染料区域を通り抜け
る波長を除去し、そしてレジストを活性化するために、
基板を照射する紫外線を選択的にフィルタする必要もあ
シ得る。次に紫外線１ｊＩＴｏ層を通り抜け、そして空
間２０と２）のすぐ上のレジスト層の領域２５．２６を
照射するが（第２（ｅ）図）、染料ストライプ１６．１
７．１８の上の領域２７゜２８．２９はそれぞれ照射さ
れない。よって領域２５と２６は可溶性になシ、そして
それらは適切な溶剤にデバイスを浸すことによって除去
される。このことによって、その下方のＩＴＯ層区域３
０と５１を現わしく第２（ｆ）図）、そしてこれらの区
域は次いで、レジスト層の領域２７゜２８および２９を
マスクとして利用することによって、エツチングされる
（第２ （ｇＪ図）。
第２（Ｃ）図）が付着される。次いで、前述のように、
紫外線の光源２４は基板を照射しく第２（ｄ）図〕、従
ってレジストを活性化する紫外線は基板を通り抜け、空
間２０と２）でのポリイミドを通り抜けるが、染料区域
１６，１７．１８は通り抜けない。染料区域を通り抜け
る波長を除去し、そしてレジストを活性化するために、
基板を照射する紫外線を選択的にフィルタする必要もあ
シ得る。次に紫外線１ｊＩＴｏ層を通り抜け、そして空
間２０と２）のすぐ上のレジスト層の領域２５．２６を
照射するが（第２（ｅ）図）、染料ストライプ１６．１
７．１８の上の領域２７゜２８．２９はそれぞれ照射さ
れない。よって領域２５と２６は可溶性になシ、そして
それらは適切な溶剤にデバイスを浸すことによって除去
される。このことによって、その下方のＩＴＯ層区域３
０と５１を現わしく第２（ｆ）図）、そしてこれらの区
域は次いで、レジスト層の領域２７゜２８および２９を
マスクとして利用することによって、エツチングされる
（第２ （ｇＪ図）。
次に、レジスト層の領域２７．２８および２９が除去さ
れて、それぞれ、染料ストライプあるいは区域１６．１
７および１８と正確に位置合わせしたＩＴＯ層の区域５
２．３３および３４を現わす（第２（ｈ）図）。
れて、それぞれ、染料ストライプあるいは区域１６．１
７および１８と正確に位置合わせしたＩＴＯ層の区域５
２．３３および３４を現わす（第２（ｈ）図）。
複雑で高価なマスキングならびに位置ぎめ手順を何も必
要としないで、区域３２．３３および３４が形成され得
ることが明らかであろう。
要としないで、区域３２．３３および３４が形成され得
ることが明らかであろう。
上述の実、施態様において、空間２０および２）をポリ
イミドで溝たす段階は、選択的に省略することができる
。その場合、ＩＴＯ層が染料ストライプの上、および空
間２０と２）の中へ付着されることになる。そして上で
述べたと同様に、プロセスの残シを実行して、位置合わ
せしたＩＴＯと染料領域を生成することができる。
イミドで溝たす段階は、選択的に省略することができる
。その場合、ＩＴＯ層が染料ストライプの上、および空
間２０と２）の中へ付着されることになる。そして上で
述べたと同様に、プロセスの残シを実行して、位置合わ
せしたＩＴＯと染料領域を生成することができる。
本発明のプロセスを利用して、１組の領域の材料が放射
線に対してほぼ透明であり、そして他の組の材料がほぼ
不透明である場合に、その他の種類の材料から成る領域
の位置合わせし九組を生成できることが分るでおろう〇 第１図の空間５と６、および第２図の空間２０と２）を
満たす喪めに使用し九材料は、要求通り、例えば黒に着
色することができて、結果の液晶デイスプレィのコント
ラストを改善している。この材料は、感光材料を活性化
するのに必要とされる放射線波長を通さなければならな
いことは当然である。
線に対してほぼ透明であり、そして他の組の材料がほぼ
不透明である場合に、その他の種類の材料から成る領域
の位置合わせし九組を生成できることが分るでおろう〇 第１図の空間５と６、および第２図の空間２０と２）を
満たす喪めに使用し九材料は、要求通り、例えば黒に着
色することができて、結果の液晶デイスプレィのコント
ラストを改善している。この材料は、感光材料を活性化
するのに必要とされる放射線波長を通さなければならな
いことは当然である。
第１（８３図〜第１（Ｃ）図は、本発明による第１デポ
ジシヨンプロセスにおける種々の段を示す略断面図、お
よび 第２（ａ）図〜第２（Ｃ）図は、本発明による第２デポ
ジシヨンプロセスにおける種々の段を示す略断面図であ
る。 図中、１，２．５（１６，１７，１８）染料ストライプ
、４（ｌｌｔｉ基板、５．６）２０，２））は空間、オ
ヨび８１２４）は放射線源をそれぞれ示す。 −ノ −エノ 手 続 補 正 書 （自発） 平成 １年１２月 ５日
ジシヨンプロセスにおける種々の段を示す略断面図、お
よび 第２（ａ）図〜第２（Ｃ）図は、本発明による第２デポ
ジシヨンプロセスにおける種々の段を示す略断面図であ
る。 図中、１，２．５（１６，１７，１８）染料ストライプ
、４（ｌｌｔｉ基板、５．６）２０，２））は空間、オ
ヨび８１２４）は放射線源をそれぞれ示す。 −ノ −エノ 手 続 補 正 書 （自発） 平成 １年１２月 ５日
Claims (13)
- （１）基板の前面に同じまたは異なる材料の間隔をあけ
た第１領域と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめさ
れた、別の材料の間隔をあけた第２領域とを形成するデ
ポジションプロセスは、基板（４）上にカラーフィルタ
材料の前記第１領域（１、２、３）を形成する段階と、
前記第１領域の上およびその間の空間（５、６）の上に
前記他の材料の層（７）を付着させる段階と、基板の裏
面を、基板と前記他の材料はそれに対してほぼ透明であ
り、前記第１領域の各々の材料はほぼ不透明な放射線で
照射し、それによつてその放射線は基板を通り抜け、前
記空間内の前記第２材料の領域（９−１２）のみに衝突
し、よつてこれらの第２材料の領域を、照射されない第
２材料が可溶である溶剤に対して、不溶性にする段階と
、および前記溶剤を使用して前記空間における以外の第
２材料（１３−１５）を除去する段階、とから成ること
を特徴とする前記デポジションプロセス。 - （２）請求項（１）記載のプロセスであつて、第１と第
２の領域（１−３、９′−１２′）は共にほぼ平坦な層
を形成することを特徴とする前記デポジションプロセス
。 - （３）請求項（１）または請求項（２）記載のプロセス
であつて、前記第２領域（９′−１２′）は感光材料か
ら形成されることを特徴とする前記デポジシヨンプロセ
ス。 - （４）請求項（３）記載のプロセスであつて、感光材料
（９′−１２′）はポリイミドであることを特徴とする
前記デポジションプロセス。 - （５）基板の前面に、同じまたは異なる材料の間隔をあ
けた第１領域と、前記第１領域に対して正確に位置ぎめ
された、別の材料の間隔をあけた第２領域とを形成する
デポジションプロセスであつて、基板（１９）上にカラ
ーフィルタ材料の前記第１領域（１６、１７、１８）を
形成する段階と、前記第１領域の上およびその間の空間
の上に前記他の材料の層（２２）を付着させる段階と、
前記第２層の上にレジスト材料の層（２３）を付着させ
る段階と、基板の裏面を、基板と前記他の材料はそれに
対してほぼ透明であり、前記第１領域の各各の材料はほ
ぼ不透明な放射線で照射し、それによつてその放射線は
基板を通り抜け、そこから前記第１領域間の空間を通り
抜けて、前記空間の上の区域（２５、２６）のみのレジ
スト層に衝突し、よつてこれらのレジスト層区域を可溶
性にする段階と、およびこれらのレジスト、層区域を溶
解し、そしてその下の前記他の材料の対応する区域（３
０、３１）を除去する段階、とから成ることを特徴とす
る前記デポジションプロセス。 - （６）請求項（５）記載のプロセスであつて、前記第２
領域（３２、３３、３４）は透明導電材料から形成され
ることを特徴とする前記デポジションプロセス。 - （７）請求項（６）記載のプロセスであつて、前記第２
領域（３２、３３、３４）はインジウム・すず酸化物か
ら形成されることを特徴とする前記デポジションプロセ
ス。 - （８）前述の請求項のいずれか１項記載のプロセスであ
つて、前記第１領域（１−３；１６−１８）は染料材料
から形成されることを特徴とする前記デポジションプロ
セス。 - （９）請求項（１）−（７）のいずれか１項記載のプロ
セスであつて、前記第１領域（１−３；１６−１８）は
染色ポリイミドから形成されることを特徴とする前記デ
ポジションプロセス。 - （１０）請求項（１）−（７）のいずれか１項記載のプ
ロセスであつて、前記第１領域（１−３；１６−１８）
は染色ホトレジストから形成されることを特徴とする前
記デポジションプロセス。 - （１１）請求項（１）−（７）のいずれか１項記載のプ
ロセスであつて、前記第１領域（１−３；１６−１８）
はゼラチンベース材料から形成されることを特徴とする
前記デポジションプロセス。 - （１２）請求項（１）−（７）のいずれか１項記載のプ
ロセスであつて、前記第１領域（１−３；１６−１８）
は電着材料から形成されることを特徴とする前記デポジ
ションプロセス。 - （１３）前述の請求項のいずれか１項記載のプロセスで
あつて、放射線は紫外線であることを特徴とする前記デ
ポジションプロセス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8825826.4 | 1988-11-04 | ||
| GB888825826A GB8825826D0 (en) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | Deposition processes |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02269319A true JPH02269319A (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=10646303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1287258A Pending JPH02269319A (ja) | 1988-11-04 | 1989-11-02 | デポジション プロセス |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5169737A (ja) |
| EP (1) | EP0367466A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02269319A (ja) |
| GB (2) | GB8825826D0 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03287103A (ja) * | 1990-04-02 | 1991-12-17 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの形成法 |
| JP3067362B2 (ja) * | 1991-12-19 | 2000-07-17 | ソニー株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
| GB9203595D0 (en) * | 1992-02-20 | 1992-04-08 | Philips Electronics Uk Ltd | Methods of fabricating thin film structures and display devices produced thereby |
| KR950005442B1 (ko) * | 1992-08-24 | 1995-05-24 | 현대전자산업주식회사 | 위상반전 마스크 형성방법 |
| FR2697922B1 (fr) * | 1992-11-12 | 1995-09-22 | Gold Star Co | Procede de fabrication d'un filtre de couleurs pour un ecran a cristaux liquides. |
| EP0623944B1 (en) * | 1993-05-05 | 1997-07-02 | AT&T Corp. | Flat panel display apparatus, and method of making same |
| US5516625A (en) * | 1993-09-08 | 1996-05-14 | Harris Corporation | Fill and etchback process using dual photoresist sacrificial layer and two-step etching process for planarizing oxide-filled shallow trench structure |
| US5382317A (en) * | 1994-02-18 | 1995-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of selectively applying a coating to a bilevel substrate |
| US5529863A (en) * | 1994-08-01 | 1996-06-25 | Motorola, Inc. | Method for fabricating LCD substrates having solderable die attach pads |
| US5954559A (en) * | 1997-01-13 | 1999-09-21 | Image Quest Technologies, Inc. | Color filter structure and method of making |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1377727A (en) * | 1973-06-05 | 1974-12-18 | Matsushita Electric Co Ltd | Transparent photographic film |
| NL7309451A (nl) * | 1973-07-06 | 1975-01-08 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting. |
| DE2658400A1 (de) * | 1976-12-23 | 1978-06-29 | Ibm Deutschland | Verfahren zur herstellung einer negativen maske auf einem substrat |
| EP0001138A1 (en) * | 1977-08-23 | 1979-03-21 | Howard A. Fromson | Method for making lithographic printing plates |
| GB2099212B (en) * | 1981-05-19 | 1985-01-09 | Secr Defence | Manufacturing crt screens |
| JPS62160421A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-16 | Shinto Paint Co Ltd | 微細な導電性回路の間に機能性塗膜を形成する方法 |
| JPH07117662B2 (ja) * | 1986-04-21 | 1995-12-18 | 神東塗料株式会社 | 微細な透明導電性回路パタ−ン上およびその間隙に機能性薄膜を形成する方法 |
| US4948706A (en) * | 1987-12-30 | 1990-08-14 | Hoya Corporation | Process for producing transparent substrate having thereon transparent conductive pattern elements separated by light-shielding insulating film, and process for producing surface-colored material |
-
1988
- 1988-11-04 GB GB888825826A patent/GB8825826D0/en active Pending
-
1989
- 1989-10-23 GB GB8923854A patent/GB2224861B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-23 EP EP19890310869 patent/EP0367466A3/en not_active Withdrawn
- 1989-10-24 US US07/426,736 patent/US5169737A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-02 JP JP1287258A patent/JPH02269319A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5169737A (en) | 1992-12-08 |
| EP0367466A3 (en) | 1991-07-24 |
| GB8825826D0 (en) | 1988-12-07 |
| GB8923854D0 (en) | 1989-12-13 |
| GB2224861A (en) | 1990-05-16 |
| GB2224861B (en) | 1993-03-10 |
| EP0367466A2 (en) | 1990-05-09 |
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