JPH02270720A - プロセス装置間の搬送設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、たとえば半導体ウェハのような被処理物を、
製造用のプロセス装置間で機械的にかつ自動的に移すの
に採用されるプロセス装置間の搬送設備に関するもので
ある。

従来の技術 従来、プロセス装置間での搬送設備としては、たとえは
特開昭５８−２２３５５３号公報に開示された構成か提
供されている。すなわち一定循環走行経路上で走行自在
な搬送台車を設り、１）」記一定１１？！環走行経路の
四方に複数のマシニツクセンターを配設している。そし
て搬送台車とマシニツクセンターとの間でのワークの受
け渡しは治具パレットを介して行うのであり、その際に
パレットチェンジャが作動される。

発明が解決しようとする課題 上記の従来形式によると、治具パレッ１〜などの移載レ
ベルが常に一定、またはほぼ一定であることから搬送台
車を共用できるか、たとえは半導体製造のように、複数
のプロセス装置におζＪる装置費は台の位置（高さ、奥
行、姿勢など）が一定でないときには、各プロセス装置
に対応してそれぞれの搬送台車などを設けなければなら
ず、設備が大型、複雑化する。

本発明の目的とするところは、装置η受け台の位置（レ
ベル）か一定でなくても搬送用の可動体を共用できるプ
ロセス装置間の搬送設備を提供する点にある。

課題を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明におけるプロセス装置
間の搬送設備は、装置側受け台を有するプロセス装置を
、その装置側受け台を並べて複数配設し、前記装置側受
け台の外方にターン装置付きの一時受け台を配設し、こ
れら一時受け台の外方間に亘って一定経路上を移動自在
な可動体を設け、この可動体に前記一時受け台との間で
荷を受け渡し自在な移載装置を設け、前記一時受け台に
対向して、この一時受け台と装置側受け台との間で荷を
受け渡し自在な移載機を設けている。

作用 かかる本発明の構成によると、移載装置を介して荷を支
持してなる可動体は一定経路上を移動し、そして目的と
するプロセス装置に対向して停止する。そして荷は移載
装置の作動によって一時荷受け台上に渡されたのち、タ
ーン装置の作動で向きが変更される。次いで荷は移載機
によって装置側受け台上に渡され、プロセス装置によっ
て所期の加工作業を受ける。そして装置側受け台」二に
取出された荷は、逆作用によって可動体に移っされる。

そして可動体は再び移動し、次のプロセス装置に対向し
て停止される。

実緒例 以下に本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

■秤量搬送装置１１を配設した搬送部クリーンルーム１
０と、半導体ウェハ製造用のプロセス装置２１を配設し
た製造部クリーンルーム２０、ならびに工程内搬送装置
３１を配設した作業部クリーンルーム３０とは第１什切
壁１によって区画され、また製造部クリーンルーム２０
と作業部クリーンルーム３０とは第２什切壁２によって
区画されている。

前記搬送部クリーンルーム１０は、天井側からクリーン
エアか下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメツ
シュ形式の床１２を通して床下に吸引するように構成し
てあり、そのクリーン度はたとえばクラス１０，０００
に維持されている。前記工程間搬送装ｆｉ１１は、ダク
ト形式のレール装置１３と、このレール装置１３内で走
行自在な自走体１４と、この自走体１４の上部に設けた
荷受け台１５とからなり、前記レール装置１３を、天井
の近くにおいて第１仕切壁１に沿って配設している。前
記自走体１４は開閉蓋３を有する密閉式のボックス４を
支持搬送するもので、このボックス４は、多数枚の半導
体ウェハ５を支持したカセット（荷の一例）６を収納自
在である。

前記製造部クリーンルーム２０も、天井側からフィルタ
を通してクリーンエアが下吹きされ、そして下降するク
リーンエアをメツシュ形式の床２２を通して床下に吸引
するように構成してあり、そのクリーン度はたとえばク
ラスｉ　、　ｏｏｏに維持されている。この製造部クリ
ーンルーム２０内で、かつ両仕切壁１，２によって形成
されるコーナ部には自動倉庫２３が配設される。この自
動倉庫２３は、囲壁体２４の天板に開口部２５を形成す
るとともに床２２側も開放してあり、さらに内部には棚
２６や移載機２８が配設されている。この移載ｆｉ２８
によって自走体１４との間でボックス４の受け渡しを行
うために、前記第１仕切壁１には第１出入ロアが形成さ
れており、また作業部クリーンルーム３０と連通ずるた
め響２出入口８が第２仕切壁２に形成されている・さら
に第２仕切壁２には、各プロセス装置２１に対応して複
数の連通路９か形成され、そして連通路９を通して、両
クリーンルーム２０．３０間に亘る装置側受け台２７が
設けられる。

前記作業部クリーンルーム３０は天井３２側からクリー
ンエアか下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメ
ツシュ形式の床３３を通して床下に吸引するように構成
しである。前記装置側受け台２７群の外方間に沿った一
定経路３４上で往復移動自在な可動体３５が設けられる
。この可動体３５はガイドレール３６などに支持案内さ
れる台車形式であって、その上部にはターンテーブル３
７が設りられる。このターンテーブル３７上には、向き
が１８０度変位した一対の移載装置ｆ３８が設けられ、
その本体３９を並設方向とは直交する方向Ａに移動自在
に設けている。そして各本体３９には、それぞれ一対の
係止腕４０か、上下方向Ｂに移動自在に設けられる。以
上３５〜４０により工程内搬送装置３１を構成する。前
記移載装置３８の作動による受け渡しレベル範囲内にそ
の受りレベルかある装置側受け台２７に対しては、移載
装置３８を介してカセット６の受け渡しが直接に行われ
る。そして前述した範囲外（上または下）に受けレベル
がある装置側受け台２７と一定経路３４との間には、搬
入側一時受け台４１と搬出側一時受け台４２とが−・定
経路３４の方向に振り分けて配設される。これら一時受
け台４１．４２はターンテーブル（ターン装ｆｉ）　４
３．４４を荷受け面としており、前記可動体３５は、そ
の移載装置３８を介して両ターンテーブル４３．４４と
の間でカセット６の受け渡しを行う。両一時受け台４１
．４２間には、これら一時受け台４１．４２と装置側受
け台２７との間でカセット６を受け渡し自在な移載機４
５が設けられる。この移載ｆｉ４５は、カイト装置４６
に案内されて両一時受け台、１１．４２間で移動り自在
な本体４７を有し、この本体４７の上部に保持装置４８
が設けられる。この保持装置４８は、昇降Ｅ自在でかつ
縦軸心の周りに回動Ｆ自在な保持部４９を有し、この保
持部４９に互いに接近離間Ｇ自在な一対の保持腕５０設
けられる。

次に」二記実繕例における作用を説明する。

多数枚の半導体ウェハ５を支持したカセッ？−６はボッ
クス１に収納され、そして開閉蓋３を閉して密閉にした
状態で荷受け台１５上に載置されている。そして自走体
１４はレール装置１３に支持案内されて自動走行し、第
１出入「１７に対向して停止される。次いでボックス４
は移載機２８などにより自動倉庫２３内に搬入され、こ
の自動倉庫２３内で開閉蓋３が開動され、たのち、カセ
ッ１へ６は取ＨＪ５されて棚２６に格納される。空にな
ったボックス４は開閉蓋３が閉じられたのち荷受け台１
５上に戻される。

裸の状態で棚２６に納められているカセッ１−６は第２
出入口８に取出される。そしてカセッ１へ６は、移載装
置３８によって可動体３５側に移つされる。すなわち係
止腕４０を下降させてなる本体３９を突出移動Ａさせて
、第２出入口８にあるカセッ１〜６の被係止部の下方へ
係止腕４０を突入さぜ、そして係止腕４０を上昇Ｂさせ
てカセット６を持ち−Ｌげたのち、本体３９を退入移動
Ａさせることで移つせる。なお逆作動によって可動体３
５側のカセット６を第２出入口８側へと戻せ得、またタ
ーンテーブル３７を１８０度で回転させることによって
、一対の移載装置３８の使い分けを行える。カセット６
が移つされたり動体３５は一定経路３４上で移動され、
目的とする装置側受け台２７の四部で停止する。

ここで装置側受け台２７の受けレベルが、移載装置３８
における係止腕４０の昇降Ｂによる受け渡しレベル範囲
内にあるときには、この移載装置３８の作動によって装
置側受け台２７にカセッｌ−６か直接に渡される。この
装置側受け台２７に渡されたカセット６は連通路９を通
してプロセス装置２１に渡され、そして半導体ウェハ５
はカセット６から一枚づつ取出され、表面蒸着などの表
面加工が行われたのちカセット６に戻される。そして装
置側受け台２７の端部に搬出されたカセッ１〜６は、移
載装置３８の前述とは逆作動によって再び可動体３５に
支持される。次いでカセッｌ−６はプロセスに基づいて
順次−９、−− 移つされるのであるが、その際に装置側受け台２７の受
けレベルが、移載装置３８における係廿腕４０の昇降Ｉ
３による受け渡しレベル範囲外にあるときには、この移
載装置３８の作動によって、カセッ１−６は搬入側−・
待受け台４１のターンテーブル４３上に渡される。次い
でターンデープル４３の回転によってカセット６の向き
が９０度変位される。このとき移載機４５では、保持腕
５０かカセッ１−６側に向いており、さらに保持腕５０
は下降限に位置するとともに互いに接近動している。こ
の状態で、まず本体４７を搬入側一時受け台４１に接近
移動りさぜ、その保持腕５０をカセッｌ−６の被係止部
の下方へ突入させる。次いで保持腕５０を」１昇Ｅさせ
てカセッｌ−６を持ち上げたのち、縦軸心の周りに回転
１？させることで装置側受け台２７の上方に位置させる
。そして保持腕５０を下降Ｅさぜることでカセッ１へ６
を装置側受け台２７に着地し得、その後、保持腕５０を
離間動Ｇし、上昇Ｅしたのち回転ドすることで、空の保
持腕５０を装置側受（つ台２７−１．から外方へ退出し
得る。なお装置側受け台２７に取出されたカ七７１−〇
は、移載機４５を搬出側一時受け台４２側に移動させた
のち、上述とは逆操作を行うことによって可動体３５上
へ戻せ得る。

上記実雄例では搬入側一時受け台４１と搬出側一時受け
台４２とに振り分けて配設したが、これは−方のみで搬
入と搬出とを兼用して行ってもよい。

なお移載機４５のガイド装置４６部を床３３と同一にな
るようにすることにより、メンテナンスを容易に行うこ
とができる。前記移載機４５は、その保持腕５０を交換
可能に構成することで、種々な装置に対応して使用する
ことができる。

発明の効果 上記構成の本発明によると、移載装置を介して荷を支持
してなる可動体を一定経路上で移動させ、そして目的と
するプロセス装置に対向して停止させたのち移載装置を
作動させることで、荷を一時荷受け台上に渡すことがで
き、さらにターン装置の作動で向き変更を行うことがで
きる。次いで荷は移載機によって装置側受け台上に渡す
ことができ、そしてプロセス装置によって所期の加工作
業を受ｃ′）で装置側受け台上に取出された荷は、逆作
用によって可動体に移つすことができる。このようにし
て荷を複数のプロセス装置を順送りできるとともに、装
置受け台の位置（レベル）の変化は移載機で吸収でき、
したがって装置受け台の位置が一定でなくても搬送用の
可動体を共用できて、設備を小型化、簡素化できるとと
もに、移載装置そのものも構造をシンプル化できる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示し、第１図は要部の斜視図
、第２図は全体の斜視図である。 ５・・・半導体ウェハ、６・・・カセット（荷）、９・
・・連通路、１０・・−搬送部クリーンルーム、２０・
・・製造部クリーンルーム、２１・・・プロセス装置、
２７・・・装置側受け台、３０・・・作業部クリーンル
ーム、３１・・・工程内搬送装置、３４・・・一定経路
、３５・・・可動体、３７・・・ターンテーブル、３８
・・・移載装置、４０・・・係止腕、４１・・・搬入側
−待受り台、４２・・・搬出側一時受け台、４３．４４
・・・ターンテーブル（ターン装置）、４５・・・移載
機、４８・・・保持装置、５０・・−保持腕。 −１２−一

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、装置側受け台を有するプロセス装置を、その装置側
   受け台を並べて複数配設し、前記装置側受け台の外方に
   ターン装置付きの一時受け台を配設し、これら一時受け
   台の外方間に亘って一定経路上を移動自在な可動体を設
   け、この可動体に前記一時受け台との間で荷を受け渡し
   自在な移載装置を設け、前記一時受け台に対向して、こ
   の一時受け台と装置側受け台との間で荷を受け渡し自在
   な移載機を設けたことを特徴とするプロセス装置間の搬
   送設備。