JPH02270909A - 溶融金属の清浄化方法 - Google Patents
溶融金属の清浄化方法Info
- Publication number
- JPH02270909A JPH02270909A JP8977089A JP8977089A JPH02270909A JP H02270909 A JPH02270909 A JP H02270909A JP 8977089 A JP8977089 A JP 8977089A JP 8977089 A JP8977089 A JP 8977089A JP H02270909 A JPH02270909 A JP H02270909A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten metal
- gas
- molten steel
- gas bubbles
- deoxidizing
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、溶融金居中に浮遊する介在物を除去する溶
融金属の清浄化方法に関する。
融金属の清浄化方法に関する。
溶融金属中に浮遊する介在物（例えば溶鋼中のアルミナ
系介在物）は、製品品質欠陥の原因となるため、その低
減・除去方法が種々提案されている。
系介在物）は、製品品質欠陥の原因となるため、その低
減・除去方法が種々提案されている。
本発明者等は、高級材製造を目的とした場合溶鋼中のト
ータル酸素量は１５ｐｐｍ以下に抑える必要があるとの
要請に艦み、次のような提案を行なった。即ち、溶融金
属を、それに可溶なガスでバブリングして該溶融金属中
にガスを溶解せしめ、その後急速に減圧して溶融金属中
に微細ガス気泡を発生させるというものである。この方
法によれば溶融金属中の通常の介在物は最初のバブリン
グでそのガス気泡にトラップされ浮上せしめられること
になる。他方バブリングにより溶融金属中に溶は込んで
いたガスは、その後の急速な減圧で微細なガス気泡とな
って溶融金属全域から発生する。
ータル酸素量は１５ｐｐｍ以下に抑える必要があるとの
要請に艦み、次のような提案を行なった。即ち、溶融金
属を、それに可溶なガスでバブリングして該溶融金属中
にガスを溶解せしめ、その後急速に減圧して溶融金属中
に微細ガス気泡を発生させるというものである。この方
法によれば溶融金属中の通常の介在物は最初のバブリン
グでそのガス気泡にトラップされ浮上せしめられること
になる。他方バブリングにより溶融金属中に溶は込んで
いたガスは、その後の急速な減圧で微細なガス気泡とな
って溶融金属全域から発生する。
この時、微細な介在物は該ガス気泡にトラップされて浮
上する６ 更に、加圧状態にした溶融金属に対して上記ガスバブリ
ングを行えば、多量のガスが該溶融金属中に溶は込むこ
とになり、減圧後の微細ガス気泡発生量が増えて介在物
除去率を高めることができる、又、大気圧又はそれ以下
の状態でバブリングを行えば、減圧処理中に微細ガス気
泡の発生があるだけでなく、製品として要望される溶融
金属中の脱ガスも一緒に行われることになるため、溶融
金属中に多量に溶は残るバブリングガスの脱ガスを別処
理工程として行う必要がなくなり、処理効率を上げるこ
とができる。このためバブリング時の圧力調整は、目標
清浄度及び処理効率に応じて適宜決定すれば良い。
上する６ 更に、加圧状態にした溶融金属に対して上記ガスバブリ
ングを行えば、多量のガスが該溶融金属中に溶は込むこ
とになり、減圧後の微細ガス気泡発生量が増えて介在物
除去率を高めることができる、又、大気圧又はそれ以下
の状態でバブリングを行えば、減圧処理中に微細ガス気
泡の発生があるだけでなく、製品として要望される溶融
金属中の脱ガスも一緒に行われることになるため、溶融
金属中に多量に溶は残るバブリングガスの脱ガスを別処
理工程として行う必要がなくなり、処理効率を上げるこ
とができる。このためバブリング時の圧力調整は、目標
清浄度及び処理効率に応じて適宜決定すれば良い。
このように溶解金属中の介在物を除去するには効率の良
い方法であり、従来のバブリング法等に比べ、短時間で
超清浄溶湯を得られるが、処理時間はまだ１０分程度必
要であり、これを更に短縮せしめて効率化を図りたいと
いう要請があった。
い方法であり、従来のバブリング法等に比べ、短時間で
超清浄溶湯を得られるが、処理時間はまだ１０分程度必
要であり、これを更に短縮せしめて効率化を図りたいと
いう要請があった。
又最終清浄レベルについてもＴ・（ＯＦ ＝ ５〜７
ｐｐｍ程度であり、ＡＱキルド鋼の溶解酸素量と比較す
ると、Ｔ・〔○〕にして３〜５ ｐｐｍ程高く 、無視
し得ない量の介在物酸素が残存している問題があった。
ｐｐｍ程度であり、ＡＱキルド鋼の溶解酸素量と比較す
ると、Ｔ・〔○〕にして３〜５ ｐｐｍ程高く 、無視
し得ない量の介在物酸素が残存している問題があった。
本発明は以上の問題に鑑み創案されたものであって、微
細ガス気泡による介在物のトラップ効率を高めるように
したものである。
細ガス気泡による介在物のトラップ効率を高めるように
したものである。
そのため本発明は、上述した溶融金属の清浄化方法を実
施するに当り、溶融金属中に、脱酸力が類似の２種以上
の脱酸元素を添加するようにしたことを基本的特徴とし
ている。
施するに当り、溶融金属中に、脱酸力が類似の２種以上
の脱酸元素を添加するようにしたことを基本的特徴とし
ている。
この溶融金属の清浄化方法が実施された場合。
溶融金属中に発生した微細ガス気泡により介在物をトラ
ップして除去する効率は、該介在物の径が大きい程高く
なる。従って脱酸元素添加時生成した微細な酸化物系介
在物を凝集肥大化すれば、該介在物のトラップ除去効率
を上げることができる。
ップして除去する効率は、該介在物の径が大きい程高く
なる。従って脱酸元素添加時生成した微細な酸化物系介
在物を凝集肥大化すれば、該介在物のトラップ除去効率
を上げることができる。
本発明者等はこのような考えを基に、介在物の、粗大化
を図る方法につき種々検討を重ねたところ。
を図る方法につき種々検討を重ねたところ。
脱酸力が類似の２種以上の脱酸元素を溶融金属中に添加
することで夫々が酸化物を作り、凝集してこれらの複合
酸化物系となるよう制御することが有効であることを見
い出した。更にこれを溶融金属の清浄化方法に適用した
ところ、清浄化に抜群の効果があることが分かり、上述
の構成が本発明法として成立したものである。
することで夫々が酸化物を作り、凝集してこれらの複合
酸化物系となるよう制御することが有効であることを見
い出した。更にこれを溶融金属の清浄化方法に適用した
ところ、清浄化に抜群の効果があることが分かり、上述
の構成が本発明法として成立したものである。
本発明で使用される脱酸元素の組合わせとしては、ＡＱ
キルド鋼を対象とする場合、Ａα を主脱酸元素として
加え、更にＣａ、 Ｍｇを副脱酸元素として添加するよ
うな組合せをその一例として挙げることができる。又介
ＡＱキルド鋼の場合、主脱酸元素としてＳｉやＴｉ、及
び副脱酸元素としてＭｎという組合せの例を挙げること
ができる。
キルド鋼を対象とする場合、Ａα を主脱酸元素として
加え、更にＣａ、 Ｍｇを副脱酸元素として添加するよ
うな組合せをその一例として挙げることができる。又介
ＡＱキルド鋼の場合、主脱酸元素としてＳｉやＴｉ、及
び副脱酸元素としてＭｎという組合せの例を挙げること
ができる。
更にこれらの元素の添加タイミングであるが。
これらは最低限減圧処理開始前に夫々別々に又はこれら
を−緒に溶融金属中に添加しておけば良いことがわかっ
た。
を−緒に溶融金属中に添加しておけば良いことがわかっ
た。
以下本発明の具体的実施例のつき説明する６５０ｔｏｎ
ＶＯＤ設備内に溶鋼５０ｔｏｎを下記衣に示す脱酸剤と
共に入れ、これを１６６０℃で６５０ｔｏｒｒに保ち、
取鍋底部よりポーラスプラグで１０分間かけて６Ｎｍ’
、のＮ２ガスを吹込んだ。その後急速に１ ｔｏｒｒま
で減圧させ、２０分間保持した。この時同時に取鍋底部
からＡｒガスを１５ ＯＮＱ／ｍｉｎでバブリングし、
溶鋼の撹拌を行った。この時溶鋼中にできた酸化物系介
在物は、本発明法１でＣａ０ＡＱｚＯ３系、本発明法２
でＡ Ｑ、ｚＯａ −ＭｇＯ系、及び比較法で単体のＡ
Ｑ、０３であった。
ＶＯＤ設備内に溶鋼５０ｔｏｎを下記衣に示す脱酸剤と
共に入れ、これを１６６０℃で６５０ｔｏｒｒに保ち、
取鍋底部よりポーラスプラグで１０分間かけて６Ｎｍ’
、のＮ２ガスを吹込んだ。その後急速に１ ｔｏｒｒま
で減圧させ、２０分間保持した。この時同時に取鍋底部
からＡｒガスを１５ ＯＮＱ／ｍｉｎでバブリングし、
溶鋼の撹拌を行った。この時溶鋼中にできた酸化物系介
在物は、本発明法１でＣａ０ＡＱｚＯ３系、本発明法２
でＡ Ｑ、ｚＯａ −ＭｇＯ系、及び比較法で単体のＡ
Ｑ、０３であった。
＼
この表から明らかなように、酸化物系介在物の除去能力
については、本発明法１及び２の方が優れており、従っ
て溶鋼中の介在物を同一レベルまで低下せしめるために
必要な減圧放置時間は本発明法１及び２の方が短時間で
済むことになる。
については、本発明法１及び２の方が優れており、従っ
て溶鋼中の介在物を同一レベルまで低下せしめるために
必要な減圧放置時間は本発明法１及び２の方が短時間で
済むことになる。
以上詳述したように、本発明法によれば、溶融金属中に
脱酸力が類似の２種以上の脱酸剤を添加せしめることで
、介在物が粗大化され、該介在物のトラップ除去効率を
高めることができるため。
脱酸力が類似の２種以上の脱酸剤を添加せしめることで
、介在物が粗大化され、該介在物のトラップ除去効率を
高めることができるため。
溶融金属の清浄化方法を実施するに当り、溶融金属の清
浄化レベルを上げることができるようになると共に、処
理時間を短縮せしめることが可能となるという優れた効
果を有している。
浄化レベルを上げることができるようになると共に、処
理時間を短縮せしめることが可能となるという優れた効
果を有している。
Claims (1)
- 溶融金属を、これに可溶なガスでバブリングして該溶融
金属中にガスを溶解せしめ、その後急速に減圧して溶解
金属中に微細ガス気泡を発生させ、溶解金属中に浮遊す
る介在物をバブリングによるガス気泡及び減圧により発
生した微細ガス気泡にトラップせしめて、浮上後これを
除去する溶融金属の清浄化方法を実施するに当り、溶融
金属中に、脱酸力が類似の２種以上の脱酸元素を添加す
ることを特徴とする溶融金属の清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8977089A JPH02270909A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 溶融金属の清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8977089A JPH02270909A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 溶融金属の清浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02270909A true JPH02270909A (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=13979923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8977089A Pending JPH02270909A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 溶融金属の清浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02270909A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4914015A (en) * | 1988-10-17 | 1990-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Red and infrared films containing 5-substituted-thio-1,2,3,4-thiatriazoles and 5-substituted-oxy-1,2,3,4-thiatriazoles |
-
1989
- 1989-04-11 JP JP8977089A patent/JPH02270909A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4914015A (en) * | 1988-10-17 | 1990-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Red and infrared films containing 5-substituted-thio-1,2,3,4-thiatriazoles and 5-substituted-oxy-1,2,3,4-thiatriazoles |
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