JPH02271185A - バルブ機構 - Google Patents
バルブ機構Info
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- JPH02271185A JPH02271185A JP1093573A JP9357389A JPH02271185A JP H02271185 A JPH02271185 A JP H02271185A JP 1093573 A JP1093573 A JP 1093573A JP 9357389 A JP9357389 A JP 9357389A JP H02271185 A JPH02271185 A JP H02271185A
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- JP
- Japan
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- valve
- chamber
- valve body
- vacuum
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/30—Details
- F16K3/34—Arrangements for modifying the way in which the rate of flow varies during the actuation of the valve
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/85978—With pump
- Y10T137/86131—Plural
- Y10T137/86163—Parallel
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
バルブ機構に関し、
特に真空装置のチャンバと排気系との間に設けて、粗引
きの際の急激な気圧差を緩和することを目的とし、 筒状の弁箱の一方の端部にはチャンバ口が設けられ、他
方の端部は密閉され、両端部間に、弁箱内を２つの空間
に仕切り、かつ中心孔を有する仕切り板が設けられ、前
記チャンハロ側の弁箱の側面の一部にはボンプロが開孔
され、前記チャンバ口側の弁箱内には、ボンプロを開閉
する柱状の弁体が気密摺動可能に設けられ、前記弁体の
一端に固着された軸の他端は、仕切り板の中心孔を貫通
し、かつ弁箱の内壁に対して気密摺動可能なパッキンに
固定され、前記軸上の、弁体と仕切り板との間には、押
しばねと、押しばねの周囲を包被するベローズが取り付
けられ、前記パツキンに対面する仕切り板面には、外部
から導入される圧気の吹き出し孔が設けられてなるよう
に構成する。
きの際の急激な気圧差を緩和することを目的とし、 筒状の弁箱の一方の端部にはチャンバ口が設けられ、他
方の端部は密閉され、両端部間に、弁箱内を２つの空間
に仕切り、かつ中心孔を有する仕切り板が設けられ、前
記チャンハロ側の弁箱の側面の一部にはボンプロが開孔
され、前記チャンバ口側の弁箱内には、ボンプロを開閉
する柱状の弁体が気密摺動可能に設けられ、前記弁体の
一端に固着された軸の他端は、仕切り板の中心孔を貫通
し、かつ弁箱の内壁に対して気密摺動可能なパッキンに
固定され、前記軸上の、弁体と仕切り板との間には、押
しばねと、押しばねの周囲を包被するベローズが取り付
けられ、前記パツキンに対面する仕切り板面には、外部
から導入される圧気の吹き出し孔が設けられてなるよう
に構成する。
本発明は、気圧差の衝撃を緩和する真空バルブ機構に関
する。
する。
近年、半導体集積回路を中心としたマイクロエレクトロ
ニクス（ＭＥ）の進展に伴い、このＭＥデバイスの製造
分野においては、真空雰囲気のチャンバ内で処理を行う
装置、あるいは一端真空にしてからガスを導入して、特
殊なガス雰囲気のチャンバ内で処理を行う装置などが、
ＭＥデバイス製造工程に欠かせなくなっている。
ニクス（ＭＥ）の進展に伴い、このＭＥデバイスの製造
分野においては、真空雰囲気のチャンバ内で処理を行う
装置、あるいは一端真空にしてからガスを導入して、特
殊なガス雰囲気のチャンバ内で処理を行う装置などが、
ＭＥデバイス製造工程に欠かせなくなっている。
この真空も含めた特殊雰囲気を利用する製造装置におい
ては、真空装置のチャンバの内部と外部（大気）との遮
絶に対して、高真空を上回る超高真空系（Ｉ Ｘ １０
−”Ｔｏｒｒ以下）相当の性能が要求され、この傾向は
ますます増大している。
ては、真空装置のチャンバの内部と外部（大気）との遮
絶に対して、高真空を上回る超高真空系（Ｉ Ｘ １０
−”Ｔｏｒｒ以下）相当の性能が要求され、この傾向は
ますます増大している。
そして、これらの真空装置の重要な構成部品の１つであ
るバルブには、真空装置のチャンバ内部から大気への漏
洩、つまり気密性が検出限界をはるかに超えた性能が要
求されるものまである。
るバルブには、真空装置のチャンバ内部から大気への漏
洩、つまり気密性が検出限界をはるかに超えた性能が要
求されるものまである。
こうして、真空装置で用いられるバルブの重要性が見直
されており、その中でも、チャンバと真空系の間に介在
させるバルブには、まだまだ改良の余地が残されている
。
されており、その中でも、チャンバと真空系の間に介在
させるバルブには、まだまだ改良の余地が残されている
。
一般に、真空装置には、チャンバの内部と直接大気との
気密を保持する、いわゆるリークバルブの他に、例えば
、チャンバと低真空排気系、低真空排気系と高真空排気
系との間にも各種のバルブが用いられている。
気密を保持する、いわゆるリークバルブの他に、例えば
、チャンバと低真空排気系、低真空排気系と高真空排気
系との間にも各種のバルブが用いられている。
−Ｃに、大気に開放された大気圧のチャンバの内部は、
まず、油回転真空ポンプなどの低真空排気系によって、
例えば、１０”３〜１Ｏ−６Ｐ ａ （Ｎ ／ ｍ２）
程度の真空度まで上げる、いわゆる粗引きが行われる。
まず、油回転真空ポンプなどの低真空排気系によって、
例えば、１０”３〜１Ｏ−６Ｐ ａ （Ｎ ／ ｍ２）
程度の真空度まで上げる、いわゆる粗引きが行われる。
その後、バルブによって、油や水銀の拡散ポンプとか、
各種イオンポンプとかの高真空排気系に切り換え、例え
ば、１０””Ｐａとか、１０−”Ｐａとかの高真空を、
場合によっては、１０〜１ｏｐａ以上の超高真空を得て
いる。
各種イオンポンプとかの高真空排気系に切り換え、例え
ば、１０””Ｐａとか、１０−”Ｐａとかの高真空を、
場合によっては、１０〜１ｏｐａ以上の超高真空を得て
いる。
そして、チャンバと真空排気系との間には、目的に応じ
て、例えば、ボンネットシールにダイヤフラムやベロー
ズなどを使用したアングル弁（Ｌ形弁）や仕切弁（ゲー
ト弁）、あるいはバタフライ弁（螺形弁）などが用いら
れている。
て、例えば、ボンネットシールにダイヤフラムやベロー
ズなどを使用したアングル弁（Ｌ形弁）や仕切弁（ゲー
ト弁）、あるいはバタフライ弁（螺形弁）などが用いら
れている。
これらのバルブは、チャンバ内の真空度が上がって気圧
が低下した後も効率よく排気できるために、一般に、排
気断面積、つまりバルブの開口面積を大きく採っである
。
が低下した後も効率よく排気できるために、一般に、排
気断面積、つまりバルブの開口面積を大きく採っである
。
第２図は従来のベローズを用いた真空弁の一例の説明図
で、同図（Ａ）は休止中の一部切欠き断面図、同図（Ｂ
）は動作中の一部切欠き断面図、同図（Ｃ）はチャンバ
口の開口の断面積の時間変化図を示す。
で、同図（Ａ）は休止中の一部切欠き断面図、同図（Ｂ
）は動作中の一部切欠き断面図、同図（Ｃ）はチャンバ
口の開口の断面積の時間変化図を示す。
まず、同図（Ａ）において、筒状の弁箱２の一方の端部
には、真空装置のチャンバが連結されるチャンバ口３が
開口しており、他方は、フランジ状の仕切り板５で仕切
られており、その端部には圧気導入口１５が設けである
。
には、真空装置のチャンバが連結されるチャンバ口３が
開口しており、他方は、フランジ状の仕切り板５で仕切
られており、その端部には圧気導入口１５が設けである
。
また、弁箱２の、チャンバ口３と仕切り板５との間の側
壁には、ボンプロ４が開口している。
壁には、ボンプロ４が開口している。
仕切り板５の、チャンバ口３に対向した側には、ベロー
ズ７の一方の端部が固定されており、そのベローズ７の
他方の端部には、チャンバ口３を開閉する弁体８が固着
されている。
ズ７の一方の端部が固定されており、そのベローズ７の
他方の端部には、チャンバ口３を開閉する弁体８が固着
されている。
そして、ベローズ７が、その中空に内設された押しばね
９によって常時伸張され、弁体８の表面の溝に嵌入され
た０リング１６がチャンバ口３を常時閉鎖（ノルマリー
クローズ）している。
９によって常時伸張され、弁体８の表面の溝に嵌入され
た０リング１６がチャンバ口３を常時閉鎖（ノルマリー
クローズ）している。
さらに、ベローズ７の、押しばね９が内設された中空に
は、弁体８の中心部に一端が固着された軸１０が通って
おり、その軸１０の他端は仕切り板５の中心孔６を滑ら
かに挿通し、その先端部には、弁箱２の内壁と気密状態
で滑動するピストンの働きをなすパツキン１１がねし留
めされている。
は、弁体８の中心部に一端が固着された軸１０が通って
おり、その軸１０の他端は仕切り板５の中心孔６を滑ら
かに挿通し、その先端部には、弁箱２の内壁と気密状態
で滑動するピストンの働きをなすパツキン１１がねし留
めされている。
一方、圧気導入口１５は、弁箱２の壁の中を通って、仕
切り板５の、パツキン１１と対向する面に開口する吹き
出し孔１４に通じている。
切り板５の、パツキン１１と対向する面に開口する吹き
出し孔１４に通じている。
同図（Ａ）においては、弁体８はチャンバ口３に圧接し
ており、バルブは休止状態である。
ており、バルブは休止状態である。
次に、同図（Ｂ）において、圧気導入口１５から、例え
ば、加圧窒素ガスなどを導入すると、パツキン１１がベ
ローズ７を収縮させるように移動し、弁体８がチャンバ
口３から離れて開放される。
ば、加圧窒素ガスなどを導入すると、パツキン１１がベ
ローズ７を収縮させるように移動し、弁体８がチャンバ
口３から離れて開放される。
この状態が、このバルブの動作状態である。
このような従来の真空装置において用いられるバルブの
開閉の方式においては、一般に、バルブの開口断面積が
大きいばかりでなく、同図（Ｃ）に示すとおり、チャン
バ口３の開口の断面積は、完全開放か完全閉鎖のどちら
かしかない。
開閉の方式においては、一般に、バルブの開口断面積が
大きいばかりでなく、同図（Ｃ）に示すとおり、チャン
バ口３の開口の断面積は、完全開放か完全閉鎖のどちら
かしかない。
すなわち、バルブが動作すると、瞬時にチャンバ口３と
ボンプロ４とが連結される。
ボンプロ４とが連結される。
つまり、真空装置のチャンバと低真空の排気系とが連結
され、大気圧のチャンバ内においては、例えば、１０−
”Ｐａの低真空の排気系との間に急激な気圧差が生じる
ことを避けることができない。
され、大気圧のチャンバ内においては、例えば、１０−
”Ｐａの低真空の排気系との間に急激な気圧差が生じる
ことを避けることができない。
以上述べたように、従来のベローズを用いた真空弁にお
いては、バルブの開閉動作が完全開放か完全閉鎖のどち
らかしかなく、バルブの開口の断面積を可変して、排気
量を制御することができない構成になっている。
いては、バルブの開閉動作が完全開放か完全閉鎖のどち
らかしかなく、バルブの開口の断面積を可変して、排気
量を制御することができない構成になっている。
従って、この真空弁を真空装置のチャンバと真空排気系
との間に設置して用いると、大気圧のチャンバ内を排気
し始める、いわゆる粗引きの際に、バルブが開くと大き
な気圧差を生じ、チャンバ内の空気が急激に排出され、
チャンバ内の空気が一時掻き回される。
との間に設置して用いると、大気圧のチャンバ内を排気
し始める、いわゆる粗引きの際に、バルブが開くと大き
な気圧差を生じ、チャンバ内の空気が急激に排出され、
チャンバ内の空気が一時掻き回される。
一方、真空装置のチャンバ内には、内部で生じる塵が多
い上に、一般に、入り組んだ治具などが内装されていて
清掃し難い場合が多い。
い上に、一般に、入り組んだ治具などが内装されていて
清掃し難い場合が多い。
従って、何をどう処理する装置なのかによって違いはあ
るが、例えば、金属とか誘電体とか、いろんな材料の、
微細な小片であったり、微粉末であったり、薄膜の剥離
片であったり、何れにしても小さくて軽い塵が多い。
るが、例えば、金属とか誘電体とか、いろんな材料の、
微細な小片であったり、微粉末であったり、薄膜の剥離
片であったり、何れにしても小さくて軽い塵が多い。
そのため、従来のバルブを用いた真空装置のチャンバ内
においては、粗引きの際に掻き回される空気によって、
塵が舞い上がる。
においては、粗引きの際に掻き回される空気によって、
塵が舞い上がる。
この舞い上がった塵は、例えば、装置内に配置された処
理しようとする基板の表面に付着したり、成膜装置の場
合ならば蒸着源とか、ターゲットとかに付着したりして
工程の歩留りを低下させる原因となり、厄介な問題であ
った。
理しようとする基板の表面に付着したり、成膜装置の場
合ならば蒸着源とか、ターゲットとかに付着したりして
工程の歩留りを低下させる原因となり、厄介な問題であ
った。
（課題を解決するための手段〕
上で述べた課題は、筒状の弁箱の一方の端部にはチャン
バ口が設けられ、他方の端部は密閉され、両端部間に、
弁箱内を２つの空間に仕切り、かつ中心孔を有する仕切
り板が設けられ、前記チャンバ口側の弁箱の側面の一部
にはボンプロが開口され、前記チャンバ口側の弁箱内に
は、ボンプロを開閉する柱状の弁体が気密摺動可能に設
けられ、前記弁体の一端に固着された軸の他端は、仕切
り板の中心孔を貫通し、かつ弁箱の内壁に対して気密摺
動可能なパツキンに固定され、前記軸上の、弁体と仕切
り板との間には、押しばねと、押しばねの周囲を包被す
るベローズが取り付けられ、前記パツキンに対面する仕
切り板面には、外部から導入される圧気の吹き出し孔が
設けられてなるように構成されたパルプ機構によって解
決される。
バ口が設けられ、他方の端部は密閉され、両端部間に、
弁箱内を２つの空間に仕切り、かつ中心孔を有する仕切
り板が設けられ、前記チャンバ口側の弁箱の側面の一部
にはボンプロが開口され、前記チャンバ口側の弁箱内に
は、ボンプロを開閉する柱状の弁体が気密摺動可能に設
けられ、前記弁体の一端に固着された軸の他端は、仕切
り板の中心孔を貫通し、かつ弁箱の内壁に対して気密摺
動可能なパツキンに固定され、前記軸上の、弁体と仕切
り板との間には、押しばねと、押しばねの周囲を包被す
るベローズが取り付けられ、前記パツキンに対面する仕
切り板面には、外部から導入される圧気の吹き出し孔が
設けられてなるように構成されたパルプ機構によって解
決される。
上で述べたように、従来の真空弁においては、バルブの
開閉動作が完全開放か完全閉鎖のどちらかしかなかった
のに替えて、本発明においては、バルブの開口面積を可
変して、排気量を制御することができるようにしている
。
開閉動作が完全開放か完全閉鎖のどちらかしかなかった
のに替えて、本発明においては、バルブの開口面積を可
変して、排気量を制御することができるようにしている
。
すなわち、従来のバルブの弁座と弁体との相互の動作関
係が、圧接状態で閉鎖しており、離反状態でバルブが開
いている、つまり、開と閉の２つの動作しかないのに対
して、本発明になるバルブにおいては、開口の周りに、
例えば、０リングを配して弁座となし、その弁座に対し
て弁体が弾接したま＼横滑りするようにしており、弁体
の端面が弁座の開口を横切る遮断面積、つまり開口面積
を加減できるようにしている。
係が、圧接状態で閉鎖しており、離反状態でバルブが開
いている、つまり、開と閉の２つの動作しかないのに対
して、本発明になるバルブにおいては、開口の周りに、
例えば、０リングを配して弁座となし、その弁座に対し
て弁体が弾接したま＼横滑りするようにしており、弁体
の端面が弁座の開口を横切る遮断面積、つまり開口面積
を加減できるようにしている。
従って、大気に開放された真空チャンバを粗引きする際
に、バルブを徐々に開くように制御すれば、従来のバル
ブの場合のような、瞬時に大きな気圧差が生じてチャン
バ内で塵が舞い上がることを防ぐことができる。
に、バルブを徐々に開くように制御すれば、従来のバル
ブの場合のような、瞬時に大きな気圧差が生じてチャン
バ内で塵が舞い上がることを防ぐことができる。
第１図は本発明の詳細な説明図であり、同図（Ａ）は一
部切欠き側面断面図、同図（Ｂ）は休止中の一部切欠き
正面断面図、同図（Ｃ）は動作中の一部切欠き正面断面
図、同図（Ｄ）はチャンバ口の開口の断面積の時間変化
図である。
部切欠き側面断面図、同図（Ｂ）は休止中の一部切欠き
正面断面図、同図（Ｃ）は動作中の一部切欠き正面断面
図、同図（Ｄ）はチャンバ口の開口の断面積の時間変化
図である。
同図（Ａ）の真空弁１において、弁箱２には内径２００
■φの鋳物製を用い、仕切り板５を挟んでフランジで螺
着できるようにした。
■φの鋳物製を用い、仕切り板５を挟んでフランジで螺
着できるようにした。
チャンバ口３とボンプロ４の２つの開口の内径は、それ
ぞれ１２０ｍｍφと８０ｍ−φとした。
ぞれ１２０ｍｍφと８０ｍ−φとした。
また、弁座１３を構成する０リング１２には、シリコー
ンゴム製を用いて壁の表面から０．５ｍｍ突出させ、０
リング１２が嵌合する環状の溝は、断面を台形にして、
容易に外れないようにした。
ンゴム製を用いて壁の表面から０．５ｍｍ突出させ、０
リング１２が嵌合する環状の溝は、断面を台形にして、
容易に外れないようにした。
ベローズ７には真鍮製を用い、弁体８はアルミニウムで
製作し、先端を円弧状に整形した。
製作し、先端を円弧状に整形した。
弁箱２と弁体８との寸法関係は、弁箱２の中を弁体８が
滑らかに動けるすベリばめとし、摺動面にはシリコーン
製の真空グリースを塗布した。
滑らかに動けるすベリばめとし、摺動面にはシリコーン
製の真空グリースを塗布した。
一方、パツキン１１にもシリコーンゴム製を用い、弁箱
２との摺動面には潤滑油としてシリコーン製の真空グリ
ースを塗布した。
２との摺動面には潤滑油としてシリコーン製の真空グリ
ースを塗布した。
弁体８は、リン青銅製のコイルばねで１ ｋｇの荷重で
押止されるようにし、５気圧の加圧窒素ガスを図示して
ない流量調整弁で加減しながら圧気導入口１５に流し込
み、弁体８の移動を制御できるようにした。
押止されるようにし、５気圧の加圧窒素ガスを図示して
ない流量調整弁で加減しながら圧気導入口１５に流し込
み、弁体８の移動を制御できるようにした。
こうして、製作した真空弁１を図示してない真空チャン
バと真空排気系との間に連設して、性能の評価を行った
。
バと真空排気系との間に連設して、性能の評価を行った
。
その結果、同図（Ｂ）の休止中でチャンバ内の気圧が高
いとき、弁体８が弁座１３に押し付けられるような力が
働くので、気密性には何らの問題もなかった。
いとき、弁体８が弁座１３に押し付けられるような力が
働くので、気密性には何らの問題もなかった。
次に、同図（Ｃ）において、圧気導入口１５から窒素ガ
スを流入すると、パツキン１１が徐々に移動して弁体８
を動かすことができた。
スを流入すると、パツキン１１が徐々に移動して弁体８
を動かすことができた。
同図（Ｄ）は、チャンバ口の開口の断面積の時間変化を
示した図である。
示した図である。
横軸の時間は、任意単位で表しであるが、圧気導入口１
５からの加圧ガスの流入量を制御すれば、広い範囲、つ
まり瞬時に近い時間から分の単位まで制御できることが
確認できた。
５からの加圧ガスの流入量を制御すれば、広い範囲、つ
まり瞬時に近い時間から分の単位まで制御できることが
確認できた。
そして、バルブの開栓を徐々に行えば、急激な気圧差を
抑えることができ、チャンバ内で塵が舞い上がることも
防げることが確認できた。
抑えることができ、チャンバ内で塵が舞い上がることも
防げることが確認できた。
こ−では、弁体の先端を円弧状に整形したが、どのよう
な形状であっても、弁体の動かし方によって開口断面を
緩やかに拡大することができ、形状には種々の変形が可
能である。
な形状であっても、弁体の動かし方によって開口断面を
緩やかに拡大することができ、形状には種々の変形が可
能である。
以上述べたように、真空チャンバと排気系との管路の開
閉を、従来のベローズを用いた真空弁によって行うと、
いわゆる粗引きの際に、チャンバ内と排気系との間に大
きな気圧差があるので、チャンバ内の塵が舞い上がって
しまう。
閉を、従来のベローズを用いた真空弁によって行うと、
いわゆる粗引きの際に、チャンバ内と排気系との間に大
きな気圧差があるので、チャンバ内の塵が舞い上がって
しまう。
そして、この塵は、例えば、基板の表面に付着したり、
蒸着源とか、ターゲットとかに付着したりして工程の歩
留りを低下させる原因となった。
蒸着源とか、ターゲットとかに付着したりして工程の歩
留りを低下させる原因となった。
それに替えて、本発明になるバルブ機構の真空弁を用い
れば、バルブの開閉の度合いを細かく制御して、徐々に
開くことができるので、チャンバ内に急激な気圧差によ
る空気の乱流を抑えることができる。
れば、バルブの開閉の度合いを細かく制御して、徐々に
開くことができるので、チャンバ内に急激な気圧差によ
る空気の乱流を抑えることができる。
従って、本発明によれば、粗引きの際に、チャンバ内で
塵が舞い上がることを防ぐことができ、真空装置を用い
た各種処理工程の歩留り向上に大きく寄与できる。
塵が舞い上がることを防ぐことができ、真空装置を用い
た各種処理工程の歩留り向上に大きく寄与できる。
第１図は本発明の詳細な説明図、
第２図は従来のベローズを用いた真空弁の一例の説明図
、 である。 同図において、 工は真空弁、 ２は弁箱、 ３はチャンバ口、 ４はボンプロ、５は仕切り板
、 ６は中心孔、７はベローズ、 ８
は弁体、 ９は押しばね、 ＩＯは軸、 １１はパツキン、 １２はＯリング、１３は弁
座、 １４は吹き出し孔、１５は圧気導入口
、 である。 （Ａ）一部話欠きイ貝り面断蒼す図 （ＢＭｉｌｆ（７ｒ＄ｔ〕］７９Ｊｌｌ＊ｆｉｉｌＺ岑
発明の詳細な説明図 集１回（子の１） （Ｃ）ｔμ￥−中の一部ｔ７’ｌケき正、恒１丘引バ２
（ＤＬ４−ｗン）＼口の開口のどｌ運責の哨Ｆｇ′ｌ袈
イロ２第 １ 図 （その２） Ｊ巽墾弁 （Ａ＞休止中め一＠βを川て館灯面回 （Ｂ＞動作中の一部ｔｅｌ焚さ断面図 従来のへ゛ロース゛を用シ゛Ｔこ真り弁の一例の悦明図
第２ 回（′？の１）
、 である。 同図において、 工は真空弁、 ２は弁箱、 ３はチャンバ口、 ４はボンプロ、５は仕切り板
、 ６は中心孔、７はベローズ、 ８
は弁体、 ９は押しばね、 ＩＯは軸、 １１はパツキン、 １２はＯリング、１３は弁
座、 １４は吹き出し孔、１５は圧気導入口
、 である。 （Ａ）一部話欠きイ貝り面断蒼す図 （ＢＭｉｌｆ（７ｒ＄ｔ〕］７９Ｊｌｌ＊ｆｉｉｌＺ岑
発明の詳細な説明図 集１回（子の１） （Ｃ）ｔμ￥−中の一部ｔ７’ｌケき正、恒１丘引バ２
（ＤＬ４−ｗン）＼口の開口のどｌ運責の哨Ｆｇ′ｌ袈
イロ２第 １ 図 （その２） Ｊ巽墾弁 （Ａ＞休止中め一＠βを川て館灯面回 （Ｂ＞動作中の一部ｔｅｌ焚さ断面図 従来のへ゛ロース゛を用シ゛Ｔこ真り弁の一例の悦明図
第２ 回（′？の１）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 筒状の弁箱（２）の一方の端部にはチャンバ口（３）が
設けられ、他方の端部は密閉され、両端部間に、弁箱（
２）内を２つの空間に仕切り、かつ中心孔（６）を有す
る仕切り板（５）が設けられ、前記チャンバ口（３）側
の弁箱（２）の側面の一部にはポンプ口（４）が開口さ
れ、 前記チャンバ口（３）側の弁箱（２）内には、ポンプ口
（４）を開閉する柱状の弁体（８）が気密摺動可能に設
けられ、 前記弁体（８）の一端に固着された軸（１０）の他端は
、前記仕切り板（５）の中心孔（６）を貫通し、かつ前
記弁箱（２）の内壁に対して気密摺動可能なパッキン（
１１）に固定され、 前記軸（１０）上の、前記弁体（８）と仕切り板（５）
との間には、押しばね（９）と、該押しばね（９）の周
囲を包被するベローズ（７）が取り付けられ、前記パッ
キン（１１）に対面する仕切り板（５）面には、外部か
ら導入される圧気の吹き出し孔（１４）が設けられてな
ることを特徴とするバルブ機構。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1093573A JPH02271185A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | バルブ機構 |
| US07/508,556 US5150734A (en) | 1989-04-13 | 1990-04-13 | Processing apparatus at reduced pressure and valve used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1093573A JPH02271185A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | バルブ機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02271185A true JPH02271185A (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=14086004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1093573A Pending JPH02271185A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | バルブ機構 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5150734A (ja) |
| JP (1) | JPH02271185A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1989-04-13 JP JP1093573A patent/JPH02271185A/ja active Pending
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Also Published As
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|---|---|
| US5150734A (en) | 1992-09-29 |
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