JPH02273537A - 真空容器 - Google Patents

真空容器

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JPH02273537A
JPH02273537A JP9244889A JP9244889A JPH02273537A JP H02273537 A JPH02273537 A JP H02273537A JP 9244889 A JP9244889 A JP 9244889A JP 9244889 A JP9244889 A JP 9244889A JP H02273537 A JPH02273537 A JP H02273537A
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JP
Japan
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vacuum container
film
vacuum
coating
extremely high
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JP9244889A
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English (en)
Inventor
Seiichi Iwamatsu
誠一 岩松
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は真空容器内面の被覆膜に関する。
(従来の技術) 従来、真空容器はパイレックス、ガラス、ステンレス 
あるいはアルミニュウム合金等で形成されて成り、内面
にはとりたてて被覆膜が形成される事は無かった。
(発明が解決しようとする課題) しかし、上記従来技術によると、真空容器からの水素ガ
ス放出により、真空度が向上しないと云う課題があった
本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、高い真空度
を得ることができる真空容器の内面被覆膜を提供する事
を目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために、本発明は、真空容器に関し
、真空容器内面に窒化ホウ累膜叉はアルミナ膜又はダイ
ヤモンド膜を被覆する手段をとる。
(実施例) 以下、実施例により本発明を詳述する。
いま、真空容器ペルジャー内面に窒化ホウ素膜又はアル
ミナ膜又はダイヤモンド膜をスパッタ法文はCVD法で
1ミクロン乃至100ミクロン形成し、該ペルジャーを
用いた真空装置に於ては、ペルジャーからの水素放出が
保護膜により防止され、極めて高い真空度を得ることが
できる。
尚、ペルジャー内面のみならず、真空容器内の他の器具
表面や台座表面あるいは配管内面にも窒化ホウ素膜やア
ルミナ膜又はダイヤモンド膜を形成することにより、−
層の高真空を得ること力5できることは云うまでもない
更に、ガス配管やバルブあるいはガスボンベ内面に孕化
ホウ累膜あるいはアルミナ膜あるいはダイヤモンド膜を
被覆することにより、アルゴンガス、窒素ガス、塩素ガ
ス等のガスで水素ガス以外での水素ガス混入を防止する
ことができる。
(発明の効果) 本発明により、極めて高真空の真空装置が得られると共
に、ガス中への水素ガス混入も防止する効果がある。
以  ト 出願人 セ・イコーエプソン株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空容器内面には窒化ホウ酸膜またはアルミナ膜または
    ダイヤモンド膜が被覆されて成る事を特徴とする真空容
    器。
JP9244889A 1989-04-12 1989-04-12 真空容器 Pending JPH02273537A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014038314A1 (ja) * 2012-09-07 2014-03-13 三菱重工業株式会社 常温接合装置および常温接合方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014038314A1 (ja) * 2012-09-07 2014-03-13 三菱重工業株式会社 常温接合装置および常温接合方法
JP2014050860A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 常温接合装置および常温接合方法

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