JPH02276018A - Magnetic recording and reproducing method and magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording and reproducing method and magnetic recording medium

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JPH02276018A
JPH02276018A JP18928089A JP18928089A JPH02276018A JP H02276018 A JPH02276018 A JP H02276018A JP 18928089 A JP18928089 A JP 18928089A JP 18928089 A JP18928089 A JP 18928089A JP H02276018 A JPH02276018 A JP H02276018A
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JP
Japan
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magnetic
layer
film
magnetic recording
recording medium
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Application number
JP18928089A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruyuki Morita
治幸 森田
Yasushi Uno
宇野 泰史
Jiyouichirou Ezaki
江崎 城一朗
Yoshifuchi Kobayashi
小林 由縁
Kiyosumi Kanazawa
金沢 潔澄
Akio Nakamura
中村 暁生
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Abstract

PURPOSE:To decrease the friction between the magnetic recording medium and a magnetic head and to decrease the fluctuation thereof during durable traveling by providing a specific protective lubricating film on a magnetic layer and/or the magnetic head. CONSTITUTION:The magnetic recording medium 1 has the magnetic layer 4 of a continuous thin film type on a rigid substrate 2 and the protective lubricating film 6 is provided on this magnetic layer 4. The substrate 2 is formed by using surface tempered glass to withstand a heat treatment at the time of the formation of the magnetic layer 4 and for the purpose of controlling the surface roughness thereof. The magnetic layer 4 of the continuous thin film type essentially consisting of, for example, gamma-Fe2O3 is formed on the rigid substrate 2. The protective lubricating film 6 contg. alcohol with >=30 deg.C m.p. is installed on the magnetic layer 4. The magnetic recording medium having the high traveling property and durability is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、潤滑作用および保護作用を有する保護潤滑膜
を有する磁気記録媒体と、これを用いる磁気記録再生方
法とに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a magnetic recording medium having a protective lubricant film having lubricating and protective functions, and a magnetic recording and reproducing method using the same.

〈従来の技術〉 計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。
<Prior Art> A hard type magnetic disk in which a magnetic layer is formed on a rigid substrate and a floating magnetic head are used in magnetic disk drives used in computers and the like.

このような磁気ディスク駆動装置においては、従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。
Conventionally, coated magnetic disks have been used in such magnetic disk drive devices, but as the capacity of magnetic disks has increased, sputtering methods have been used because they are advantageous in terms of magnetic properties, recording density, etc. Thin-film magnetic disks having a continuous thin-film magnetic layer formed by a vapor phase deposition method or the like have come to be used.

薄膜型磁気ディスクとしては、Aρ系のディスク状金属
板にN1−P下地層をめっきにより設層するか、あるい
はこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したもの
を基板とし、この基板上にCr層、Co−Ni等の金属
磁性層、さらにC等の保護潤滑膜をスパッタ法により順
次設層して構成されるものが一般的である。
Thin-film magnetic disks are made by plating an N1-P underlayer on an Aρ-based disk-shaped metal plate, or by oxidizing the surface of this metal plate to form alumite. It is generally constructed by sequentially depositing a Cr layer, a metal magnetic layer such as Co--Ni, and a protective lubricant film such as C by sputtering.

しかし、Co−Ni等の金属磁性層は耐食性が低く、さ
らに硬度が低く、信頼性に問題が生じる。 これに対し
、特開昭62−43819号公報に記載されているよう
な酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に安定なため
腐食の心配がなく、また、充分な硬度を有している。
However, a metal magnetic layer such as Co--Ni has low corrosion resistance and low hardness, causing problems in reliability. On the other hand, magnetic thin films mainly composed of iron oxide, such as those described in JP-A No. 62-43819, are chemically stable, so there is no fear of corrosion, and they also have sufficient hardness. There is.

一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。
On the other hand, a flying type magnetic head is a magnetic head having a slider that generates buoyancy, and a composite type in which the core is integrated with the slider, or a monolithic type in which the core also serves as a slider is usually used.

さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる薄膜型の浮上型磁気ヘッドが注目されている
。 薄膜型の浮上型磁気ヘッドは、セラミックス基体上
に磁極層、ギャップ層、コイル層などを気相成膜法等に
より形成したものである。 このような薄膜型の浮上型
磁気ヘッドでは、基体がスライダとしてはたらく。
Furthermore, in addition to these, so-called thin-film floating magnetic heads are attracting attention because they are capable of high-density recording. A thin-film floating type magnetic head has a magnetic pole layer, a gap layer, a coil layer, etc. formed on a ceramic substrate by a vapor phase deposition method or the like. In such a thin film floating type magnetic head, the base body functions as a slider.

これらの浮上型磁気ヘッドにおいて、スライダは、各種
フェライト、Ant Ox −T i C1Zr0□、
SiC,AβN等の各種セラミックスから構成される。
In these floating magnetic heads, the slider is made of various ferrites, Ant Ox -T i C1Zr0□,
It is composed of various ceramics such as SiC and AβN.

浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ(C3S)時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面(スライダの磁気ディスク側表面)と磁
気ディスクが接触する。 このとき、磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドにキズの発生、破損などが生じたり
、あるいは磁気ディスクへの浮上型磁気ヘッドの吸着が
生じ易い。 このため、磁気ディスクあるいは磁気ヘッ
ド表面に種々の保護膜あるいは潤滑膜を設ける提案がな
されている。
In a magnetic disk device using a floating magnetic head, the floating surface of the floating magnetic head (the surface of the slider on the magnetic disk side) comes into contact with the magnetic disk during contact start/stop (C3S). At this time, the magnetic disk and the floating magnetic head are likely to be scratched or damaged, or the floating magnetic head is likely to be attracted to the magnetic disk. For this reason, proposals have been made to provide various protective films or lubricant films on the surfaces of magnetic disks or magnetic heads.

特に、酸化鉄ばCo−Ni等の金属に比べ硬度が高いた
め、特開昭62−43819号公報に記載されているよ
うな酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクでは、例え磁気
ディスク表面に潤滑膜あるいは保護膜を設けてあっても
C8Sの繰り返しによりヘッド浮揚面がキズつき易く、
また、ヘッドとディスクの間の摩擦が増大し易い。 こ
のため、このような組み合わせにおいては、潤滑膜ある
いは保護膜構成材料の選択には注意を要する。
In particular, since iron oxide has higher hardness than metals such as Co-Ni, in a magnetic disk having an iron oxide magnetic layer as described in JP-A No. 62-43819, even if a lubricating film is formed on the surface of the magnetic disk. Or even if a protective film is provided, the head floating surface is easily scratched due to repeated C8S.
Furthermore, friction between the head and the disk tends to increase. Therefore, in such a combination, care must be taken in selecting the materials constituting the lubricating film or the protective film.

また、酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクとM n −
Z nフェライト製基体を有する浮上型ヘッドとを組み
合わせて用いる場合、MnZnフェライトの硬度が酸化
鉄の硬度よりも低いため、このような問題は一層顕著と
なる。
Moreover, a magnetic disk having an iron oxide magnetic layer and M n −
When used in combination with a floating head having a base made of Zn ferrite, such a problem becomes even more pronounced because the hardness of MnZn ferrite is lower than that of iron oxide.

さらに、酸化鉄磁性層を有する薄膜型磁気ディスクに対
し、Mn−Znフェライトより硬度の高いAj2t 0
3−TiC,Zr0t、SiC,Aj2Nなどの基体を
有する浮上型磁気ヘッドを用いる場合、前記のような問
題はある程度解消するが、このような磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドの組み合わせにおいては、磁性層お
よびスライダのいずれもが高い硬度を有するため、より
高い潤滑および保護効果が必要となる。  特に、高密
度記録を行なうために薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用い
る場合、上記問題はより顕著となる。
Furthermore, for thin-film magnetic disks with iron oxide magnetic layers, Aj2t 0, which has higher hardness than Mn-Zn ferrite,
3-When using a floating magnetic head having a substrate of TiC, Zr0t, SiC, Aj2N, etc., the above-mentioned problems are solved to some extent, but in such a combination of a magnetic disk and a floating magnetic head, the magnetic layer and the slider both have high hardness, which requires higher lubrication and protection effects. In particular, when a thin-film floating magnetic head is used for high-density recording, the above problem becomes more pronounced.

すなわち、薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディ
スク駆動装置では、高密度記録を行なうために磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの間隔(フライングバイト)を極め
て小さく設定できるので、磁気ディスクの振動あるいは
駆動装置外部からの衝撃などにより磁気ディスクと浮上
型磁気ヘッドとの接触事故が生じたり、また、フライン
グバイトが小さい場合、C8S時に磁気ヘッドおよび磁
気ディスクが受ける被害がより太き(なるからである。
In other words, in a magnetic disk drive device that uses a thin-film floating magnetic head, the distance between the magnetic disk and the magnetic head (flying bite) can be set extremely small in order to perform high-density recording. This is because if a contact accident occurs between the magnetic disk and the floating magnetic head due to an external shock or the like, or if the flying bite is small, the damage to the magnetic head and magnetic disk during C8S will be greater.

特に、特開昭62−43819号公報に記載されている
ような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有する磁気ディ
スクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使用しており
、磁性層の表面粗さが非常に小さなものとなっている。
In particular, a magnetic disk having a magnetic thin film mainly composed of iron oxide, as described in JP-A No. 62-43819, uses a glass substrate with a mirrored surface, and the surface of the magnetic layer is The roughness is extremely small.

 このため、好適な保護膜を選定しないと磁気ディスク
と磁気ヘッドとの間の摩擦が大きくなり、C8S等の際
に磁気ヘッドがスティックスリップしたり、吸着したり
するという問題を生じる。 このため、このような組み
合わせにおいても、潤滑膜あるいは保護膜構成材料の選
択には注意を要する。
Therefore, unless a suitable protective film is selected, the friction between the magnetic disk and the magnetic head will increase, causing problems such as stick-slip or adsorption of the magnetic head during C8S or the like. Therefore, even in such a combination, care must be taken in selecting the materials constituting the lubricating film or the protective film.

以上に挙げたような浮上型磁気ヘッドおよび磁気記録媒
体に設けられる保護潤滑膜には、種々の潤滑剤が用いら
れている。
Various lubricants are used in protective lubricant films provided on the above-mentioned flying magnetic heads and magnetic recording media.

他方、磁気記録媒体の高密度記録化は進む一方であるが
、従来広く用いられている磁性層面内記録方法では、磁
性層中の反磁界作用により減磁が生じ、−窓以上の記録
密度向上は困難である。
On the other hand, the recording density of magnetic recording media continues to increase, but in the conventionally widely used in-plane recording method of the magnetic layer, demagnetization occurs due to the action of the demagnetizing field in the magnetic layer, making it impossible to increase the recording density by more than a -window. It is difficult.

このような面内記録に対し、垂直磁気記録媒体が提案さ
れている。
Perpendicular magnetic recording media have been proposed for such longitudinal recording.

垂直磁気記録は、磁性層を垂直方向に磁化することによ
り記録を行なう方法である。 垂直磁気記録では高密度
記録を行なう程減磁が減少するため、減磁の影響を受け
ることなく極めて高密度な記録を行なうことができる。
Perpendicular magnetic recording is a method of recording by magnetizing a magnetic layer in the perpendicular direction. In perpendicular magnetic recording, demagnetization decreases as recording density increases, so extremely high density recording can be performed without being affected by demagnetization.

垂直磁気記録媒体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト等の基体上に、パーマロイ等の軟磁性膜およびCo−
Cr合金のスパッタ磁性層を順次形成したものがよく知
られている。
Perpendicular magnetic recording media include soft magnetic films such as permalloy and Co-
A device in which sputtered magnetic layers of Cr alloy are sequentially formed is well known.

また、このような垂直磁気記録媒体に高密度記録を行な
うための磁気ヘッドとしては、薄膜型の磁気ヘッドが好
適である。 薄膜型の磁気ヘッドは、セラミクス基体上
に磁極、保護膜等が、スパッタ法等の薄膜形成法により
積層されているものである。
Further, a thin film type magnetic head is suitable as a magnetic head for performing high density recording on such a perpendicular magnetic recording medium. A thin film magnetic head has a magnetic pole, a protective film, etc. laminated on a ceramic substrate by a thin film forming method such as a sputtering method.

上記したように、垂直磁気記録媒体は原理的に高密度記
録に好適であるが、実用化を考えた場合、下記のような
性能が要求される。
As described above, perpendicular magnetic recording media are suitable for high-density recording in principle, but when considering practical use, the following performance is required.

■耐久性が高いこと。■High durability.

■耐食性、耐候性が高いこと。■High corrosion resistance and weather resistance.

■高速記録読出し下でのへラドタッチが良好であること
■Good helad touch under high-speed recording and readout.

■再生出力が高いこと。■High playback output.

■モジュレーションの発生が低いこと。■Low occurrence of modulation.

■生産性が高いこと。■High productivity.

等である。etc.

本発明者らはこのような性能゛を満足するために、基体
、軟磁性膜、磁性層、保護層および潤滑層をこの順で有
する垂直磁気記録媒体において、各構成部分の物性、構
成材料等を限定する提案を行なっている(特開昭63−
197028号公報)。
In order to satisfy such performance, the present inventors developed a perpendicular magnetic recording medium that has a substrate, a soft magnetic film, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricant layer in this order, and improved the physical properties and constituent materials of each component. We are proposing to limit the
197028).

また、本発明者らは、この提案をさらに発展させ、R(
ただしRは、Yを含む希土類元素から選択される1種以
上の元素を表わす。)を除く金属または半金属から選択
される1種以上の元素と、0およびNとを含有し、さら
に、これらの元素に対し1〜10at%のRを含有する
固体保護層を有する垂直磁気記録媒体を提案しており(
特願平1−96964号)、さらに、固体保護層表面の
水との接触角を規定する提案を行なっている(特願平1
−98077号)。
In addition, the present inventors further developed this proposal and R(
However, R represents one or more elements selected from rare earth elements including Y. Perpendicular magnetic recording comprising a solid protective layer containing one or more elements selected from metals or semimetals excluding ), O and N, and further containing 1 to 10 at% R with respect to these elements We are proposing media (
(Japanese Patent Application No. 1996-96964), and has also proposed regulating the contact angle of the surface of the solid protective layer with water (Japanese Patent Application No. 1-96964).
-98077).

これらの提案における磁気記録媒体は、上記■〜■の性
能を高水準で満たすものであり、特に耐久性、耐食性、
耐候性は極めて高いものである。 また、磁気ヘッドの
偏摩耗も防止される。
The magnetic recording media proposed in these proposals satisfy the above-mentioned performance items 1 to 2 at a high level, and are particularly durable, corrosion resistant, and
Weather resistance is extremely high. Furthermore, uneven wear of the magnetic head is also prevented.

しかし、垂直磁気記録媒体は極めて高密度の記録がなさ
れるため、さらに高い信頼性が要求される。
However, since perpendicular magnetic recording media perform extremely high-density recording, even higher reliability is required.

そして、上記各提案において、磁気記録媒体に対し磁気
ヘッドは常に摺動しているため、信頼性を確保するため
には固体保護層の上に設けられる潤滑膜の選択が重要で
ある。
In each of the above proposals, since the magnetic head is constantly sliding against the magnetic recording medium, the selection of the lubricant film provided on the solid protective layer is important in order to ensure reliability.

すなわち、摩擦係数が低いことが当然要求される他、繰
返し使用によっても摩擦低減効果が低下しないことが必
要とされる。
That is, in addition to being naturally required to have a low coefficient of friction, it is also required that the friction reduction effect does not decrease even after repeated use.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、これら各種システムの媒体やヘッドでは、従来
の保護潤滑膜では十分な保護潤滑効果は得られない。
<Problems to be Solved by the Invention> However, in the media and heads of these various systems, a sufficient protective lubricating effect cannot be obtained with conventional protective lubricating films.

また、従来の保護潤滑膜では、磁気記録媒体あるいは磁
気ヘッドに薄くしかも均一に成膜することは困難である
。 このため、初期と走行後における磁気記録媒体と磁
気ヘッドとの間の摩擦が大幅に変動し、スティックスリ
ップが発生したりし、保護潤滑効果はいっそう劣化する
Further, with conventional protective lubricant films, it is difficult to form a thin and uniform film on a magnetic recording medium or a magnetic head. For this reason, the friction between the magnetic recording medium and the magnetic head changes significantly between the initial stage and after running, resulting in stick-slip and further deterioration of the protective lubrication effect.

本発明の目的は、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の摩
擦が小さ(、かつ、耐久走行中でのその変動が少なく、
つまりスティックスリップが発生しに(<、磁気記録媒
体への磁気ヘッドの吸着が発生しにくく、しかも磁気ヘ
ッドおよび磁気記録媒体にキズあるいは破損が生じに(
い磁気記録媒体と、これらを用いる磁気記録再生方法と
を提供することにある。
The object of the present invention is to reduce the friction between the magnetic recording medium and the magnetic head (and to reduce its fluctuation during endurance running).
In other words, stick-slip occurs (<, the magnetic head is less likely to be attracted to the magnetic recording medium, and the magnetic head and magnetic recording medium are less likely to be scratched or damaged).
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium and a magnetic recording/reproducing method using the same.

く課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記(1)〜(9)の本発明により
達成される。
Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following inventions (1) to (9).

(1)セラミックス基体を有する磁気ヘッドを用いて、
連続薄膜磁性層を有する磁気記録媒体に記録および再生
を行う方法であって、前記磁性層上および/または前記
磁気ヘッド上に、融点30℃以上のアルコールを含有す
る保護潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録再生方
法。
(1) Using a magnetic head with a ceramic base,
A method for recording and reproducing on a magnetic recording medium having a continuous thin film magnetic layer, characterized in that a protective lubricant film containing alcohol with a melting point of 30° C. or higher is provided on the magnetic layer and/or the magnetic head. A magnetic recording and reproducing method.

(2)前記保護潤滑層が、さらにエステルを含有する上
記(1)に記載の磁気配録再生方法。
(2) The magnetic recording and reproducing method according to (1) above, wherein the protective lubricant layer further contains an ester.

(3)前記磁性層が酸化鉄を主成分とし、前記磁気記録
媒体が、剛性基板上にこの磁性層を有し、前記磁気ヘッ
ドが浮上型のものである上記(1)または(2)に記載
の磁気記録再生方法。
(3) In the above (1) or (2), the magnetic layer has iron oxide as a main component, the magnetic recording medium has this magnetic layer on a rigid substrate, and the magnetic head is of a floating type. The described magnetic recording and reproducing method.

(4)前記磁性層が垂直磁化膜であり、この垂直磁化膜
に接して固体保護層が設けられている上記(1)または
(2)に記載の磁気記録再生方法。
(4) The magnetic recording and reproducing method according to (1) or (2) above, wherein the magnetic layer is a perpendicular magnetization film, and a solid protective layer is provided in contact with the perpendicular magnetization film.

(5)前記セラミックス基体のビッカース硬度が、10
00以上であり、前記磁気ヘッドがこのセラミックス基
体上に薄膜磁極層を有する上記(1)ないしく4)のい
ずれかに記載の磁気記録再生方法。
(5) The ceramic substrate has a Vickers hardness of 10
00 or more, and the magnetic head has a thin film pole layer on the ceramic substrate.

(6)γ−Fearsを主成分とする連続薄膜磁性層を
剛性基板上に有し、 この磁性層のX線回折チャートにおいて、Y−Fe、O
,の面指数(40,0)、面指数(222)および面指
数(311)のそれぞれのピーク面積をP(400)、
P(222)およびP(311)としたとき、 0≦P(400)/P(311)≦1.00≦P(22
2)/P(311)≦0.5であり、 前記剛性基板の表面粗さ(Rmax)が10〜100人
であり、磁性層側表面の表面粗さ(Rmax)が50〜
200人であり、この磁性層上に、融点30℃以上のア
ルコールを含有する保護潤滑膜を有することを特徴とす
る磁気記録媒体。
(6) A continuous thin film magnetic layer mainly composed of γ-Fears is provided on a rigid substrate, and in the X-ray diffraction chart of this magnetic layer, Y-Fe, O
, the peak areas of plane index (40,0), plane index (222), and plane index (311) are P(400),
When P(222) and P(311), 0≦P(400)/P(311)≦1.00≦P(22
2)/P(311)≦0.5, the surface roughness (Rmax) of the rigid substrate is 10 to 100, and the surface roughness (Rmax) of the surface on the magnetic layer side is 50 to 100.
200 C. A magnetic recording medium having a protective lubricant film containing alcohol having a melting point of 30° C. or higher on the magnetic layer.

(7)前記保護潤滑層が、さらにエステルを含有する上
記(6)に記載の磁気記録媒体。
(7) The magnetic recording medium according to (6) above, wherein the protective lubricant layer further contains an ester.

(8)支持体上に、軟磁性膜、垂直磁化膜磁性層、固体
保護層および保護潤滑膜がこの順で設けられた磁気記録
媒体であって、 前記固体保護層が、R(ただしRは、Yを含む希土類元
素から選択される1種以上の元素を表わす。)を除(金
属または半金属から選択される1種以上の元素と、0お
よびNとを含有し、さらに、これらの元素に対し1〜1
0at%のRを含有し、 前記保護潤滑膜が、融点30℃以上のアルコールを含有
することを特徴とする磁気記録媒体。
(8) A magnetic recording medium in which a soft magnetic film, a perpendicularly magnetized magnetic layer, a solid protective layer, and a protective lubricant film are provided in this order on a support, the solid protective layer being R (where R is , represents one or more elements selected from rare earth elements including Y. 1 to 1 for
A magnetic recording medium containing 0 at% R, wherein the protective lubricant film contains alcohol having a melting point of 30° C. or higher.

(9)前記保護潤滑膜が、さらにエステルを含有する上
記(8)に記載の磁気記録媒体。
(9) The magnetic recording medium according to (8) above, wherein the protective lubricant film further contains an ester.

〈作用〉 本発明では、磁気記録媒体の連続薄膜磁性層上および/
または磁気ヘッドのセラミックス基体上に、融点30℃
以上のアルコールの保護潤滑膜を有する。
<Function> In the present invention, on the continuous thin magnetic layer of the magnetic recording medium and/or
Or melting point 30℃ on the ceramic substrate of the magnetic head.
It has a protective lubricating film of alcohol.

この保護潤滑膜の作用は、磁気記録媒体と磁気ヘッドと
の間の摩擦係数を低減し、しかも摩擦変動を減少させ、
耐久走行中でのスティックスリップや膜ケズレを発生し
に((シ、磁気ヘッドの媒体への接触時に媒体およびヘ
ッドの破損、媒体表面へのヘッドの吸着を生じにくくさ
せる。
The action of this protective lubricant film reduces the coefficient of friction between the magnetic recording medium and the magnetic head, and also reduces friction fluctuations.
In order to prevent stick-slip and film deterioration during durability running, it prevents damage to the medium and head when the magnetic head contacts the medium, and prevents the head from adhering to the surface of the medium.

このうち、特に、初期摩擦の低減作用と、耐久走行後の
摩擦変動減少作用とは、連続薄膜磁性層を有する媒体と
セラミックス基体を有する薄膜ヘッドとを用いるシステ
ムにて、固状ないし半固状のアルコールが選択的に発揮
する作用である。
Among these, in particular, the effect of reducing initial friction and the effect of reducing friction fluctuation after endurance running are the effects of solid or semi-solid media in a system using a medium with a continuous thin film magnetic layer and a thin film head with a ceramic substrate. This is the effect that alcohol selectively exerts.

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。Specific composition> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

第1図に示される本発明における第1の態様の磁気記録
媒体1は、支持体としての剛性の基板2上に、連続薄膜
型の磁性層4を有し、この磁性層4上に保護潤滑膜6を
有する。
A magnetic recording medium 1 according to a first embodiment of the present invention shown in FIG. It has a membrane 6.

本発明で用いる基板は、下地層などを設層する必要がな
く製造工程が簡素になること、また、研磨が容易で表面
粗さの制御が簡単であること、磁性層の形成時およびそ
の表面粗さ制御のための熱処理に耐えることなどから、
ガラスを用いることが好ましい。
The substrate used in the present invention simplifies the manufacturing process as there is no need to provide an underlayer, etc., and it is easy to polish and control the surface roughness. Because it can withstand heat treatment for roughness control, etc.
Preferably, glass is used.

ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学強化法による
表面強化ガラスを用いることが好ましい。
As the glass, it is preferable to use tempered glass, particularly surface-strengthened glass obtained by chemical strengthening.

一般的に、表面強化ガラスは、ガラス転移温度以下の温
度にて、ガラス表面付近のアルカリイオンを外部から供
給される他種アルカリイオンに置換し、これらのイオン
の占有容積の差によりガラス表面に圧縮応力が発生する
ことを利用したものである。
In general, surface-strengthened glass replaces alkali ions near the glass surface with other types of alkali ions supplied from the outside at a temperature below the glass transition temperature, and the difference in occupied volume of these ions causes the glass surface to grow. This takes advantage of the fact that compressive stress is generated.

イオンの置換は、アルカリイオンの溶融塩中にガラスを
浸漬することにより行なわれる。
Ion replacement is carried out by immersing the glass in a molten salt of alkali ions.

塩としては硝酸塩、硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度
は350〜650℃程度、浸漬時間は1〜24時間程度
である。
Nitrate, sulfate, etc. are used as the salt, the temperature of the molten salt is about 350 to 650°C, and the immersion time is about 1 to 24 hours.

より詳細には、アルカリ溶融塩として KNOIを用い、Kイオンとガラス中のNaイオンと交
換する方法や、NaNO3を用い、ガラス中のLiイオ
ンと交換する方法等が挙げられる。 また、ガラス中の
NaイオンおよびLiイオンを同時に交換してもよい。
More specifically, examples include a method of using KNOI as an alkali molten salt and exchanging K ions with Na ions in the glass, and a method of exchanging Li ions in the glass with NaNO3. Further, Na ions and Li ions in the glass may be exchanged at the same time.

このようにして得られる強化層、すなわち圧縮応力層は
ガラス基板の表面付近だけに存在するため、表面強化ガ
ラスとなる。 圧縮応力層の厚さは、10〜200μm
、特に50〜150μmとすることが好ましい。
Since the reinforced layer obtained in this way, that is, the compressive stress layer, exists only near the surface of the glass substrate, it becomes surface-strengthened glass. The thickness of the compressive stress layer is 10 to 200 μm
In particular, it is preferably 50 to 150 μm.

なお、このような表面強化は、ガラス基板の全表面に施
されていてもよく、また、表面の一部に施されていても
よい。
Note that such surface reinforcement may be applied to the entire surface of the glass substrate, or may be applied to a part of the surface.

ガラス基板は、少なくとも磁性層側表面の水との接触角
が20°以下であることが好ましく、特に10°以下で
あることが好ましい。
The glass substrate preferably has a contact angle with water of at least the surface on the magnetic layer side of 20° or less, particularly preferably 10° or less.

水との接触角をこのような範囲とすることにより、後述
するような酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層の
接着性が向上する。 なお、接触角の下限に特に制限は
ないが、通常、2°程度以上である。
By setting the contact angle with water within such a range, the adhesion of a continuous thin film type magnetic layer containing iron oxide as a main component as described later is improved. Note that there is no particular restriction on the lower limit of the contact angle, but it is usually about 2° or more.

水との接触角は、例えば、ガラス基板表面に純水を滴下
して30秒後に測定すればよい。
The contact angle with water may be measured, for example, after dropping pure water on the surface of the glass substrate and 30 seconds later.

測定雰囲気は、18〜23℃、40〜60%RH程度で
ある。
The measurement atmosphere is approximately 18 to 23°C and 40 to 60% RH.

このような接触角を得るために、ガラス基板には下記の
処理が施されることが好ましい。
In order to obtain such a contact angle, the glass substrate is preferably subjected to the following treatment.

まず、ガラス基板表面を研磨し、次いで上記したような
強化処理を施した後、ガラス基板表面を再び研磨する。
First, the surface of the glass substrate is polished, then subjected to the above-described strengthening treatment, and then the surface of the glass substrate is polished again.

 この研磨により後述する表面粗さとすることが好まし
い。
It is preferable to achieve the surface roughness described later by this polishing.

研磨されたガラス基板を純水で洗浄後、さらに、 洗剤洗浄→純水洗浄→有機溶剤蒸気乾燥の工程で洗浄を
行なうことが好ましい。
After cleaning the polished glass substrate with pure water, it is preferable to perform further cleaning through the steps of detergent cleaning, pure water cleaning, and organic solvent vapor drying.

なお、この工程に、ブラシスクラブ洗浄を適宜組み合わ
せてもよい。
Note that this step may be combined with brush scrub cleaning as appropriate.

剛性基板の表面粗さ(Rmax)は、好ましくは10〜
100人、より好ましくは40〜80人、さらに好まし
くは40〜60人とされる。 剛性基板のRmaxをこ
の範囲とすることにより、磁気記録媒体の耐久性が向上
し、また、後述するような媒体磁性層側表面のRmax
が容易に得られる。
The surface roughness (Rmax) of the rigid substrate is preferably 10 to
The number of participants is 100 people, preferably 40 to 80 people, and even more preferably 40 to 60 people. By setting the Rmax of the rigid substrate within this range, the durability of the magnetic recording medium is improved, and the Rmax of the surface on the magnetic layer side of the medium as described later is
can be easily obtained.

なお、Rmaxは、JIS B 0601に従い測定す
ればよい。
Note that Rmax may be measured according to JIS B 0601.

このような表面粗さは、例えば、特開昭62−4381
9号公報、同63−175219号公報に記載されてい
るようなメカノケミカルポリッシングなどにより得るこ
とができる。
Such surface roughness is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-4381.
It can be obtained by mechanochemical polishing as described in Japanese Patent No. 9 and Japanese Patent No. 63-175219.

ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができるが、機
械的強度が高いことから、特にアルミノケイ酸ガラスを
用いることが好ましい。
The material of the glass substrate is not particularly limited and can be appropriately selected from borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, titanium silicate glass, etc. However, aluminosilicate glass is particularly preferred because of its high mechanical strength. It is preferable to use

なお、ガラス基板の表面平滑化を、メカノケミカルポリ
ッシングにより行なう場合、結晶質を含まないガラスを
用いることが好ましい。 これは、メカノケミカルポリ
ッシングにより結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい
、上記のようなRmaxが達成できないからである。
Note that when the surface of the glass substrate is smoothed by mechanochemical polishing, it is preferable to use glass that does not contain crystalline substances. This is because the grain boundaries are polished relatively quickly by mechanochemical polishing, making it impossible to achieve the above Rmax.

ガラス基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常
、ディスク状とされ、厚さは0.5〜5mm程度、直径
は25〜300mm程度である。
Although there are no particular restrictions on the shape and dimensions of the glass substrate, it is usually disk-shaped, with a thickness of about 0.5 to 5 mm and a diameter of about 25 to 300 mm.

剛性の基板2上には、γ−Fi1!201を主成分とす
る連続薄膜型の磁性層4が成膜される。
On the rigid substrate 2, a continuous thin film type magnetic layer 4 containing γ-Fi1!201 as a main component is formed.

この磁性層は、X線回折を行なったとき、X線回折チャ
ートにおいて、γ−Fe2emの面指数(400)、面
指数(222)および面指数(311)のそれぞれのピ
ーク面積をP(400)、P(222)およびP(31
1)としたとき、0≦P(400)/P(3111≦1
.00≦P(222)/ P(3)、1)≦0. 5で
あり、より好ましくは 0≦P(400)/ P(311)≦0.60≦P(2
22)/ P(311)≦0.3であることが好ましい
When this magnetic layer is subjected to X-ray diffraction, the peak area of each of the plane index (400), plane index (222), and plane index (311) of γ-Fe2em is P(400) in the X-ray diffraction chart. , P(222) and P(31
1), 0≦P(400)/P(3111≦1
.. 00≦P(222)/P(3), 1)≦0. 5, more preferably 0≦P(400)/P(311)≦0.60≦P(2
22)/P(311)≦0.3.

また、同時に、磁気記録媒体の磁性層側の表面粗さ(R
max)が50〜200人であり、好ましくは80〜1
50人、より好ましくは80〜120人、さらに好まし
くは90〜120人である。
At the same time, the surface roughness (R
max) is 50 to 200 people, preferably 80 to 1
50 people, more preferably 80 to 120 people, even more preferably 90 to 120 people.

このようなピーク面積比およびRmaxを有することに
より耐久性が向上し、特に、C8S耐久性が向上する。
By having such a peak area ratio and Rmax, durability is improved, and in particular, C8S durability is improved.

より詳細に説明すると、P(222)が増加するという
ことは、磁性層面と平行に(222)面および(111
)面が存在する割合が増えることを示している。 γ−
Fe2O3はスピネル構造を有するものであり、スピネ
ル構造では(111)面が最も滑り易い面となっている
To explain in more detail, an increase in P(222) means that the (222) plane and (111) plane are parallel to the magnetic layer plane.
) shows that the proportion of surfaces that exist increases. γ-
Fe2O3 has a spinel structure, and in the spinel structure, the (111) plane is the most slippery plane.

従って、(111)面と平行な(222)面のピーク面
積が大きい場合、すなわちP(222)/P(311)
の値が大きい場合、磁気ヘッドとの摺動により磁性層を
構成するγ−Fearsに滑りが生じ易(なり、耐久性
が低下すると考えられる。
Therefore, if the peak area of the (222) plane parallel to the (111) plane is large, that is, P(222)/P(311)
If the value of is large, the γ-Fears constituting the magnetic layer are likely to slip due to sliding with the magnetic head, and it is considered that durability is reduced.

そして、P(222)/ P(311)が上記範囲を超
えると臨界的に耐久性が低下する。
When P(222)/P(311) exceeds the above range, durability is critically reduced.

(400)面と平行に存在する(100)面は(111
)面に次いで滑りが生じ易いと考えられるため、P(4
00)/ P(311)が上記範囲を超えると耐久性が
臨界的に低下する。
The (100) plane that exists parallel to the (400) plane is (111)
) is considered to be the second most prone to slipping, so P(4
00)/P(311) exceeds the above range, durability is critically reduced.

また、磁性層側表面のRmaxを上記範囲内とすれば、
耐久性が向上する他、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの
浮揚面との距離を0.1μm以下に保って記録および再
生を行なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと磁気
記録媒体との吸着が発生せず、高密度記録が可能となる
Moreover, if Rmax of the magnetic layer side surface is within the above range,
In addition to improved durability, recording and reproducing can be performed while maintaining the distance between the surface of the magnetic layer and the floating surface of the floating magnetic head to 0.1 μm or less, and the attraction between the floating magnetic head and the magnetic recording medium is improved. High-density recording is possible.

また、本発明では、磁性層にα−FeJsが含有される
ことが好ましい。 磁性層にα−Fearsが含有され
ることにより耐久性が向上する。
Further, in the present invention, it is preferable that the magnetic layer contains α-FeJs. Durability is improved by containing α-Fears in the magnetic layer.

そして、α−Fearsが含有される磁性層のX線回折
を行なったとき、X線回折チャートにおいて、a−Fe
20aの面指数(104)のピーク面積をP(104)
としたとき、好ましくは0.02≦P(104)/ P
(311)≦0.20であり、より好ましくは、 0.05≦P(104)/ P(311)≦0.15で
ある。
When the magnetic layer containing α-Fears was subjected to X-ray diffraction, in the X-ray diffraction chart, a-Fe
The peak area of the plane index (104) of 20a is P(104)
When, preferably 0.02≦P(104)/P
(311)≦0.20, more preferably 0.05≦P(104)/P(311)≦0.15.

磁性層がこのようなピーク面積比を有すれば、耐久性は
よりいっそう向上する。
If the magnetic layer has such a peak area ratio, the durability will be further improved.

より詳細に説明すると、P(104)/P(311)が
上記範囲未満であると耐久性向上効果が比較的低く、上
記範囲を超えると記録再生出力が低下する。
To explain in more detail, when P(104)/P(311) is less than the above range, the durability improvement effect is relatively low, and when it exceeds the above range, the recording and reproducing output decreases.

X線回折チャートは、例えば下記のようにして作成する
ことが好ましい。
The X-ray diffraction chart is preferably created, for example, as follows.

第2図にX線回折装置の1例を示す。FIG. 2 shows an example of an X-ray diffraction apparatus.

第2図において、X線源101から照射されたX線は、
ダイバージェンススリットDSを経て磁気記録媒体10
2の磁性層に入射して回折し、スキャッタースリットS
SおよびレシービングスリットRSを経た後、モノクロ
メータMMで反射することにより単色光とされ、さらに
レシービングスリットR3を経て計数管103に入射し
、X線強度のカウントが行なわれ、通常、レートメータ
等により記録される。
In FIG. 2, the X-rays irradiated from the X-ray source 101 are
Magnetic recording medium 10 via divergence slit DS
It is incident on the magnetic layer of No. 2 and diffracted, and the scatter slit S
After passing through S and receiving slit RS, it is reflected by a monochromator MM to become monochromatic light, and then passes through a receiving slit R3 and enters a counter tube 103, where the X-ray intensity is counted. recorded.

なお、測定時には、磁気記録媒体102が走査速度dθ
/dtで、スキャツタースリットSS以下の光路を構成
する部材が走査速度2dθ/dtで回転される。
Note that during measurement, the magnetic recording medium 102 has a scanning speed dθ
/dt, the members constituting the optical path below the scatter slit SS are rotated at a scanning speed of 2dθ/dt.

得られたX線回折チャートの各ピークについて、バック
グラウンドを除いた部分の積分を行なって上記した面積
比を算出する。
For each peak in the obtained X-ray diffraction chart, a portion excluding the background is integrated to calculate the above-mentioned area ratio.

なお、CuKαをX線源とした第2図に示す光学配置で
は、α−FeiOxの面指数(104)のピークは33
.3°付近に現われ、γ−Fetusの面指数(400
)、面指数(222)および面指数(311)のそれぞ
れのピークは、43.5” 、37.3°および35.
6”付近に現われる・ なお、磁性層中にα−Fearsが含有される場合、α
−Fearsは均一に含有されていてもよいが、磁性層
の表面側、すなわち基板と反対側での含有率が高くなる
ことが好ましい。
In addition, in the optical arrangement shown in FIG. 2 using CuKα as the X-ray source, the peak of the plane index (104) of α-FeiOx is 33
.. It appears around 3°, and the surface index of γ-Fetus (400
), plane index (222) and plane index (311), respectively, have peaks of 43.5”, 37.3° and 35.
Appears around 6". In addition, when α-Fears are contained in the magnetic layer, α
-Fears may be contained uniformly, but it is preferable that the content is higher on the surface side of the magnetic layer, that is, on the side opposite to the substrate.

α−Fe2egがこのように含有されることにより、磁
気ヘッドの摺動によりダメージを受は易い磁性層表面部
をより強化することができ、しかも、表面部において高
い耐久性を得ながら磁性層全体のα−F820gの含有
率を低く押えることができる。
By containing α-Fe2eg in this way, it is possible to further strengthen the surface part of the magnetic layer, which is easily damaged by the sliding of the magnetic head, and it is possible to further strengthen the surface part of the magnetic layer, which is easily damaged by the sliding of the magnetic head. The content of 820 g of α-F can be kept low.

この場合、α−Fe20gは磁性層表面側に向かって漸
増していてもよく、また、基板側には存在せずに表面側
にだけ存在していてもよい。
In this case, 20 g of α-Fe may gradually increase toward the surface side of the magnetic layer, or may not exist on the substrate side but only on the surface side.

磁性層表面付近のα−Fe20gの含有率の分析は、例
えば、下記のようにして行なうことが好ましい。
The content of 20 g of α-Fe near the surface of the magnetic layer is preferably analyzed, for example, as follows.

第3図に、低入射角X線回折装置の1例を示す。FIG. 3 shows an example of a low incidence angle X-ray diffraction device.

第3図において、X線源101から照射されたX線は、
ソーラースリットS1を経て、磁気記録媒体102の磁
性層にその表面とβの角度をなすように入射して回折す
る。
In FIG. 3, the X-rays irradiated from the X-ray source 101 are
The light passes through the solar slit S1, enters the magnetic layer of the magnetic recording medium 102 at an angle β with the surface thereof, and is diffracted.

回折されたX線は、ソーラースリットS2を経た後、モ
ノクロメータMMで反射することにより単色光とされ、
さらにレシービングスリットR8を経て計数管103に
入射し、X線強度のカウントが行なわれる。
After passing through the solar slit S2, the diffracted X-rays are reflected by a monochromator MM to become monochromatic light,
Furthermore, the X-rays enter the counter tube 103 through the receiving slit R8, and the X-ray intensity is counted.

この低入射角X線回折装置においては、第3図に示す装
置と異なり、測定時に磁気記録媒体102は入射X線に
対して固定され、ソーラースリット82以下の光路を構
成する部材が走査速度2dθ/dtで回転される。
In this low-incidence-angle X-ray diffraction device, unlike the device shown in FIG. 3, the magnetic recording medium 102 is fixed with respect to the incident /dt.

この装置において、入射X線と磁性層表面とがなす角度
βを変更することにより、磁性層表面付近におけるα−
Feignの分布を求めることができる。 具体的には
、表面に近い部分の分析を行なうためにはβを小さ(す
ればよく、βを大きくするにつれて磁性層のより深部ま
での分析結果が得られる。
In this device, by changing the angle β between the incident X-ray and the magnetic layer surface, α-
Feign's distribution can be obtained. Specifically, in order to analyze a portion close to the surface, it is sufficient to set β small; as β becomes larger, analysis results deeper into the magnetic layer can be obtained.

本発明では、このような低入射角X線回折において、β
が小さいほどP(104)/ P(311)が大きくな
ることが好ましく、例えば、β=0.5゜として測定さ
れたP(104)/ P(311)が、β=2.0°と
して測定されたP(104)/ P(311)の1.5
〜10倍、特に1.5〜5倍であることが好ましい。
In the present invention, in such low incident angle X-ray diffraction, β
It is preferable that the smaller P(104)/P(311) becomes larger. For example, P(104)/P(311) measured when β=0.5° becomes smaller than P(104)/P(311) measured when β=2.0°. 1.5 of P(104)/P(311)
It is preferably 1.5 to 5 times, particularly 1.5 to 5 times.

γ−F820gを主成分とする連続薄膜型の磁性層は、
まずFe5O4を形成し、このPe5o<を酸化してγ
−FeJsとすることにより形成されることが好ましい
The continuous thin film type magnetic layer whose main component is γ-F820g is
First, Fe5O4 is formed, and this Pe5o< is oxidized to form γ
-FeJs is preferably formed.

Fe104を形成する方法は、直接法であっても間接法
であってもよいが、上記したピーク面積比が容易に得ら
れること、工程が簡素になることなどから、直接法を用
いることが好ましい。
The method for forming Fe104 may be a direct method or an indirect method, but it is preferable to use a direct method because the above-mentioned peak area ratio can be easily obtained and the process is simple. .

直接法は、反応性スパッタ法を用いて基板上にFe5O
4を直接形成する方法である。 直接法には、ターゲッ
トにFeを用いて酸化性雰囲気にて行なう酸化法、ター
ゲットにα−Fe20gを用いて還元性雰囲気にて行な
う還元法、ターゲットにFe5Oaを用いる中性法が挙
げられるが、スパッタ制御が容易であること、成膜速度
が高いことなどから、本発明では酸化法を用いることが
好ましい。
The direct method uses reactive sputtering to deposit Fe5O on a substrate.
This is a method of directly forming 4. Direct methods include an oxidation method using Fe as a target in an oxidizing atmosphere, a reduction method using 20 g of α-Fe as a target and using a reducing atmosphere, and a neutral method using Fe5Oa as a target. In the present invention, it is preferable to use the oxidation method because sputter control is easy and the film formation rate is high.

酸化法では、Arガス雰囲気中に反応ガスとして02ガ
スを加えてスパッタを行なう。
In the oxidation method, sputtering is performed by adding 02 gas as a reactive gas to an Ar gas atmosphere.

X線回折におけるγ−Fearsの上記したようなピー
ク比を得るためには、0□ガスの分圧Po2と、Arガ
スと02ガスとの合計圧力P (Ar+(hlが、 であることが好ましく、特に、 であることが好ましい。
In order to obtain the above-described peak ratio of γ-Fears in X-ray diffraction, the partial pressure Po2 of 0□ gas and the total pressure P (Ar+(hl) of Ar gas and 02 gas are preferably , especially preferably.

また、スパッタに際して、真空槽中への02ガスの導入
は基板に吹きつけるようにして行なうことが好ましい。
Further, during sputtering, it is preferable that the 02 gas be introduced into the vacuum chamber by spraying it onto the substrate.

本発明における好ましいP (Ar+O□)の範囲はI
 X 10−’ 〜I X 10−”Torrであり、
特に5 X 10−’〜8 X 10−”Torrであ
る。
The preferred range of P (Ar+O□) in the present invention is I
X 10-' to I X 10-''Torr,
In particular, 5 x 10-' to 8 x 10-'' Torr.

なお、スパック法としてはRFスパッタを用いることが
好ましい。
Note that it is preferable to use RF sputtering as the spattering method.

スパッタ投入電力に特に制限はないが、0.2〜2kW
、特に0.4〜1.5kWとすることが好ましい。
There is no particular limit to the power input for sputtering, but it is 0.2 to 2 kW.
It is particularly preferable to set it as 0.4-1.5kW.

直接法によるFe504薄膜形成の詳細は、電子通信学
会論文誌’80/9 Vol、J63−CNo、9 p
、609−616に記載されており、本発明ではこれに
準じて磁性層の形成を行なうことが好ましいが、その際
に上記のような0□分圧にてスパッタを行なうことが好
ましい。
For details on Fe504 thin film formation by direct method, see Journal of the Institute of Electronics and Communication Engineers '80/9 Vol. J63-CNo. 9 p.
, 609-616, and in the present invention, it is preferable to form the magnetic layer according to this method, and at that time, it is preferable to perform sputtering at a partial pressure of 0□ as described above.

なお、間接法は、ターゲットにFeを用いて酸化性雰囲
気にてα−FeJaを形成した後、還元してFe3O4
を得る方法である。
In addition, the indirect method uses Fe as a target to form α-FeJa in an oxidizing atmosphere, and then reduces it to Fe3O4.
This is the way to obtain.

スパッタ法により成膜されたFe50+は、γ−Fet
usにまで酸化される。
Fe50+ deposited by sputtering is γ-Fet
oxidized to US.

この酸化は、02ガス分圧0.05〜0.8気圧程度、
全圧0.5〜2気圧程度の雰囲気中での熱処理によって
行なわれればよく、通常、大気中熱処理によって行なわ
れることが好ましい。
This oxidation occurs at a partial pressure of 02 gas of about 0.05 to 0.8 atm.
The heat treatment may be carried out in an atmosphere with a total pressure of about 0.5 to 2 atmospheres, and it is usually preferable to carry out the heat treatment in the atmosphere.

熱処理における保持温度は200〜400℃、特に25
0〜350°Cであることが好ましく、温度保持時間は
、10分〜10時間、特に1時間〜5時間であることが
好ましい。
The holding temperature during heat treatment is 200 to 400°C, especially 25°C.
The temperature is preferably 0 to 350°C, and the temperature holding time is preferably 10 minutes to 10 hours, particularly 1 hour to 5 hours.

α−Fe20gの上記したようなピーク面積比を容易に
得るためには、この熱処理に際し、昇温速度を3.5〜
b b なお、昇温速度は一定であってもよく、漸増あるいは漸
減させてもよく、また、複数の昇温速度を組み合わせて
保持温度まで昇温させてもよい。
In order to easily obtain the peak area ratio as described above for 20 g of α-Fe, the heating rate must be set at 3.5 to 3.5
b b Note that the temperature increase rate may be constant, gradually increased or decreased, or a plurality of temperature increase rates may be combined to increase the temperature to the holding temperature.

また、この熱処理を行なう際、熱処理温度と時間を制御
することにより、磁気記録媒体の磁性層側のRmaxを
上記範囲とすることができる。
Further, when performing this heat treatment, Rmax on the magnetic layer side of the magnetic recording medium can be set within the above range by controlling the heat treatment temperature and time.

このようにして形成される磁性層は、保磁力400〜2
000 0e、残留磁化2000〜3000 G、角形
比0.55〜0.85程度の磁気特性が得られる。 ま
た、α−Fe2O3を含有することによる磁気特性の劣
化は殆どない。
The magnetic layer formed in this way has a coercive force of 400 to 2
0000e, residual magnetization of 2000 to 3000 G, and magnetic properties of about 0.55 to 0.85 are obtained. Furthermore, there is almost no deterioration in magnetic properties due to the inclusion of α-Fe2O3.

磁性層中には必要に応じてCo、Ti、Cu等を添加さ
せてもよく、また、成膜雰囲気中に含まれるAr等が含
有されていてもよい。
Co, Ti, Cu, etc. may be added to the magnetic layer as necessary, and Ar, etc. contained in the film forming atmosphere may be contained.

磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、50
0〜3000人程度とすることが好ましい。
The thickness of the magnetic layer is set at 50 mm in consideration of productivity, magnetic properties, etc.
It is preferable to set the number to about 0 to 3000 people.

このような磁性層4上には、保護潤滑膜6が設層される
A protective lubricant film 6 is provided on the magnetic layer 4 as described above.

この保護潤滑膜には、融点30℃以上のアルコールを用
いる。 このようなアルコールとしては例えば以下のよ
うなものがある。
Alcohol having a melting point of 30° C. or higher is used for this protective lubricating film. Examples of such alcohols include the following.

1価の飽和アルコールとして、 CH−(CH2)+□0H CH,(CHI )、、0H CH−(CHa ) 1aOH CHs  (CHz )+−0H CHs  (CHI )+。0H CHs  (CHi )*+0H CHs  (CHi )*5OH CHs  (CHg )、0H CHI  (CH2)*tOH CH,(CH,)、、CHOHC’H。As a monohydric saturated alcohol, CH-(CH2)+□0H CH, (CHI),,0H CH-(CHa) 1aOH CHs (CHz) +-0H CHs (CHI)+. 0H CHs (CHi) *+0H CHs (CHi) *5OH CHs (CHg), 0H CHI (CH2)*tOH CH, (CH,), CHOHC'H.

CHs  (CHt ) + s CHOHCHsCH
a  (CHz ) I?CHOHCHa等。
CHs (CHt) + s CHOHCHsCH
a (CHZ) I? CHOHCHa et al.

1価ないし多価の天然アルコール、合成アルコール等。Monohydric or polyhydric natural alcohol, synthetic alcohol, etc.

このうち、好ましくは1価の飽和アルコール、より好ま
しくは直鎖のあるいは分岐を有する1価の飽和アルコー
ルである。
Among these, monovalent saturated alcohols are preferred, and linear or branched monovalent saturated alcohols are more preferred.

そして、保護潤滑膜には、1種あるいは2種以上の前記
アルコールを用いる。 このため、均一な薄膜を形成す
ることができる。
One or more of the above alcohols are used for the protective lubricant film. Therefore, a uniform thin film can be formed.

保護潤滑膜には、さらにエステルの1種以上が含有され
てもよい。
The protective lubricating film may further contain one or more esters.

エステルの添加により、耐久走行後の摩擦変動はさらに
小さなものとなる。
By adding ester, the fluctuation in friction after endurance running becomes even smaller.

好適に使用できるエステルとしては下記のものがある。Esters that can be suitably used include the following.

A、融点30℃未満のエステル; C,、H,、C00CH。A, ester with a melting point of less than 30°C; C,,H,,C00CH.

C,、H,、C00CH。C,,H,,C00CH.

C,、H2ICOOC,H8 C,aHaycOOcJs C1sH*+C00CJs C,、H2,C00C4H。C,,H2ICOOC,H8 C, aHaycOOcJs C1sH*+C00CJs C,,H2,C00C4H.

C,、H2,C00C4H。C,,H2,C00C4H.

C,@H31cOOc4H。C, @H31cOOc4H.

C、7H,、C00C4H。C,7H,,C00C4H.

C+−H−ycOOcsH C,?HssCOOC8H。C+-H-ycOOcsH C,? HssCOOC8H.

CHs (CHa)tcH”c)I(CH2)ycOo
(CHi)s−CH=CH(CHz)*CHx CH−(CHz)?CH:CH(CHz)7Coo(C
H−)*CHsCH3(CHz)tcH(CHt)、C
00C)lacH(CH−)−OCO(CH,)、CH
=(:H(CH,)、CH。
CHs (CHa)tcH”c)I(CH2)ycOo
(CHi)s-CH=CH(CHz)*CHx CH-(CHz)? CH:CH(CHz)7Coo(C
H-)*CHsCH3(CHz)tcH(CHt), C
00C) lacH(CH-)-OCO(CH,), CH
=(:H(CH,), CH.

B、融点30℃以上のエステル; CH,(CH,) 、4COOC)I。B, ester with a melting point of 30°C or higher; CH, (CH,) ,4COOC)I.

CHI(CH,、、C00CR。CHI(CH,,,C00CR.

GHsCCHx +=C00CHz CHs (CH2□。C00CH。GHsCCHx +=C00CHz CHs (CH2□.C00CH.

CH−(CHz)a4cOOcHs CH−(CH21acOOcJs CHI(CH2,、C00C,H。CH-(CHz)a4cOOcHs CH-(CH21acOOcJs CHI(CH2,,C00C,H.

CHs(CH2)+5COOCalt他これらのうち、
好ましくは直鎖の1価の飽和ないし不飽和の総炭素数1
2〜38の脂肪酸と、直鎖の1価の飽和ないし不飽和の
総炭素3〜30のアルコールとの脂肪酸エステルである
CHs(CH2)+5COOCalt and others Among these,
Preferably linear monovalent saturated or unsaturated carbon number of 1
It is a fatty acid ester of a fatty acid having 2 to 38 carbon atoms and a linear monovalent saturated or unsaturated alcohol having 3 to 30 carbon atoms in total.

これらのうち、より高い保護潤滑効果を得るためには、
融点30℃以上のエステルが好ましい。
Of these, in order to obtain a higher protective lubrication effect,
Esters with a melting point of 30°C or higher are preferred.

エステルの1種以上は、前記のアルコールに対し、モル
比で9以下、特に1〜9の量比で混合されることが好ま
しい。
It is preferable that one or more esters are mixed with the alcohol in a molar ratio of 9 or less, particularly in a molar ratio of 1 to 9.

本発明において保護潤滑膜の厚さは4〜100人程度で
あることが好ましい。 4人未満では十分な本発明の効
果が得られず特に耐久性が劣り、100人をこえると吸
着が発生し、磁気ヘッドのクラッシュを起こす場合があ
る。 なお、より好ましい膜厚は4〜80人であり、さ
らに好ましい膜厚は5〜40人である。 そして、特に
単分子層からなるものが好ましい。
In the present invention, the thickness of the protective lubricating film is preferably about 4 to 100 layers. If there are fewer than 4 people, the sufficient effect of the present invention cannot be obtained and the durability is particularly poor, and if more than 100 people are involved, attraction may occur and the magnetic head may crash. In addition, the more preferable film thickness is 4-80 people, and the more preferable film thickness is 5-40 people. In particular, those consisting of a monomolecular layer are preferred.

保護潤滑膜の形成方法に特に制限はなく、ラングミュア
・プロジェット(LB)法、塗布法等から適当に選択す
ればよい。
There are no particular restrictions on the method for forming the protective lubricant film, and any suitable method may be selected from among the Langmuir-Prodgett (LB) method, coating method, and the like.

例えば、LB法を用いる場合、被着体基板(磁気記録媒
体または浮上型磁気ヘッド)を水相中に浸漬する。 次
いで、所定のアルコールの展開溶液を所定量水相に均一
に落とし、単分子膜を展開する。
For example, when using the LB method, the adherend substrate (magnetic recording medium or floating magnetic head) is immersed in an aqueous phase. Next, a predetermined amount of a predetermined alcohol developing solution is uniformly dropped onto the aqueous phase to develop a monomolecular film.

次に、表面圧が所定の張力となるまで気液界面を圧縮し
た後、一定圧を保つように界面を圧縮しなから被着体基
板を所定の速度で水相中からほぼ垂直に上昇させて、被
着体基板上に単分子膜を移し取る。 次いで、付着した
水を必要に応じ乾燥させる。 さらに、必要に応じ、同
じ操作を繰り返すことによって累積膜を得る。
Next, after compressing the gas-liquid interface until the surface pressure reaches a predetermined tension, the adherend substrate is lifted almost vertically out of the aqueous phase at a predetermined speed without compressing the interface to maintain a constant pressure. Then, transfer the monomolecular film onto the adherend substrate. Next, the attached water is dried as necessary. Furthermore, if necessary, a cumulative film is obtained by repeating the same operation.

累積数は1〜20層程度、より好ましくは1〜5層程度
、特に好ましくは1層、すなわち単分子層であることが
好ましい。
The cumulative number is preferably about 1 to 20 layers, more preferably about 1 to 5 layers, particularly preferably one layer, that is, a monomolecular layer.

なお、被着体基板表面に疎水性、あるいは親水性の処理
を行い、この上にLB法により有機膜を形成してもよい
Note that the surface of the adherend substrate may be treated to make it hydrophobic or hydrophilic, and an organic film may be formed thereon by the LB method.

また、親水処理はプラズマ法、スパッタ法、溶剤、イオ
ンボンバード、逆スパツタリング等により行なえばよい
Further, the hydrophilic treatment may be performed by a plasma method, a sputtering method, a solvent, ion bombardment, reverse sputtering, or the like.

LB法において展開する溶液の溶媒としては、炭化水素
系(キシレン、ベンゼン等)、ハロゲン化炭化水素系(
クロロホルム等の塩素化物溶剤、フロン等のフッ素化物
溶剤等)、ニトロ化炭化水素系にトロベンゼン等)、ア
ルコール類系(エチルアルコール、メチルアルコール、
プロピルアルコール等)、ケトン類系(アセトン等)、
複素環化合物系(キノリン等)、アミン類系、エーテル
類系、エステル類系、酸類系などが挙げられる。
The solvent for the solution developed in the LB method includes hydrocarbons (xylene, benzene, etc.) and halogenated hydrocarbons (
Chlorinated solvents such as chloroform, fluorinated solvents such as CFCs, etc.), nitrated hydrocarbons and trobenzene, etc.), alcohols (ethyl alcohol, methyl alcohol,
propyl alcohol, etc.), ketones (acetone, etc.),
Examples include heterocyclic compound type (quinoline etc.), amine type, ether type, ester type, acid type and the like.

本発明の保護潤滑膜はこのようなLB法の他、塗布法な
どによって成膜することもできる。
In addition to the LB method, the protective lubricant film of the present invention can also be formed by a coating method.

塗布法を用いる場合、塗布溶液としては上記LB法にお
ける展開溶液を用いることができる。 また、塗布方法
は、スピンコード、ディッピング、スプレーコート等を
適宜選択すればよい。
When using the coating method, the developing solution used in the LB method described above can be used as the coating solution. Further, as the coating method, spin cord, dipping, spray coating, etc. may be selected as appropriate.

本発明の磁気記録媒体は、公知のコンポジット型の浮上
型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等に
より記録再生を行なった場合に効果を発揮するが、特に
、浮上型薄膜磁気ヘッドと組合せて使用された場合に、
極めて高い効果を示す。
The magnetic recording medium of the present invention is effective when recording and reproducing is performed using a known composite floating magnetic head, monolithic floating magnetic head, etc., but is particularly effective when used in combination with a floating thin film magnetic head. If used,
Shows extremely high effectiveness.

第4図に、本発明に用いる磁気ヘッドの好適実施例であ
る薄膜型の浮上型磁気ヘッドの1例を示す。
FIG. 4 shows an example of a thin-film floating type magnetic head which is a preferred embodiment of the magnetic head used in the present invention.

第4図に示される浮上型磁気ヘッドlOは、基体20上
に、絶縁層31、下部磁極層41、ギャップ層50、絶
縁層33、コイル層60、絶縁層35、上部磁極層45
および保護層70を順次有する。 また、このような浮
上型磁気ヘッド10の少なくともフロント面、すなわち
浮揚面には、必要に応じ、前記と同様の潤滑膜を設ける
こともできる。
The floating magnetic head IO shown in FIG.
and a protective layer 70 in this order. Further, at least the front surface, ie, the floating surface, of such a floating magnetic head 10 may be provided with a lubricating film similar to that described above, if necessary.

なお、本発明では、フロント面のRmaxは、200Å
以下、特に50〜150人であることが好ましい。 こ
のようなRmaxを有する磁気ヘッドと上記したR m
axを有する磁気記録媒体とを組み合わせて使用するこ
とにより、本発明の効果はより一層向上する。
In addition, in the present invention, Rmax of the front surface is 200 Å.
Hereinafter, it is particularly preferable that the number of participants be 50 to 150 people. A magnetic head having such Rmax and the above-mentioned R m
By using it in combination with a magnetic recording medium having ax, the effects of the present invention are further improved.

コイル層60の材質には特に制限はなく、通常用いられ
る八β、Cu等の金属を用いればよい。
The material of the coil layer 60 is not particularly limited, and a commonly used metal such as octabeta or Cu may be used.

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。 例えば巻回
パターンについては図示のスパイラル型の他、積層型、
ジグザグ型等いずれであってもよい。
There are no restrictions on the winding pattern or winding density of the coil, and known patterns may be appropriately selected and used. For example, in addition to the spiral type shown in the figure, the winding pattern is a laminated type,
It may be of any type, such as a zigzag shape.

また、コイル層60の形成にはスパッタ法等の各種気相
被着法を用いればよい。
Further, the coil layer 60 may be formed using various vapor deposition methods such as sputtering.

基体20はMn−Znフェライト等の公知の材料から構
成されてもよい。
The base body 20 may be made of a known material such as Mn-Zn ferrite.

このような磁気ヘッドを、本発明の磁気記録媒体に対し
て用いる場合、基体20は、ビッカース硬度1000 
kgf/mm”以上、特に1000〜3000kgf/
mm2程度のセラミックス材料から構成されることが好
ましい。 このように構成することにより、本発明の効
果はさらに顕著となる。
When such a magnetic head is used for the magnetic recording medium of the present invention, the base body 20 has a Vickers hardness of 1000.
kgf/mm” or more, especially 1000 to 3000 kgf/
It is preferable to be made of a ceramic material with a size of about mm2. With this configuration, the effects of the present invention become even more remarkable.

ビッカース硬度1000 kgf/mm2以上のセラミ
ックス材料としては、Al2x Os −TiCを主成
分とするセラミックス、ZrO□を主成分とするセラミ
ックス、SiCを主成分とするセラミックスまたは、6
42Nを主成分とするセラミックスが好適である。 ま
た、これらには、添加物としてMg、Y、Zr0t 、
T i 02等が含有されていてもよい。
Ceramic materials with a Vickers hardness of 1000 kgf/mm2 or more include ceramics whose main component is Al2xOs-TiC, ceramics whose main component is ZrO□, ceramics whose main component is SiC, or 6
Ceramics containing 42N as a main component are suitable. These also contain Mg, Y, Zr0t,
T i 02 etc. may be contained.

これらのうち、本発明に特に好適なものは、All!2
0s  Ticを主成分とするセラミックス、SiCを
主成分とするセラミックスまたはAfiNを主成分とす
るセラミックスであり、これらのうち最も好適なものは
、酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最
適であることから、Aβ* Os −Ticを主成分と
するセラミックスである。
Among these, those particularly suitable for the present invention are All! 2
Ceramics containing 0s Tic as a main component, ceramics containing SiC as a main component, or ceramics containing AfiN as a main component are the most preferred among these, and the most suitable one is one that has the same hardness as the thin film magnetic layer containing iron oxide as a main component. Since the relationship is optimal, it is a ceramic whose main component is Aβ*Os-Tic.

下部および上部磁極層41.45の材料としては、従来
公知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、CO系非晶質磁性合金等を用いること
ができる。
Any conventionally known material can be used for the lower and upper magnetic pole layers 41, 45, such as permalloy, sendust, CO-based amorphous magnetic alloy, and the like.

磁極は通常、図示のように下部磁極層41および上部磁
極層45として設けられ、下部磁極層41および上部磁
極層45の間にはギャップ層50が形成される。
The magnetic poles are usually provided as a lower magnetic pole layer 41 and an upper magnetic pole layer 45 as shown, and a gap layer 50 is formed between the lower magnetic pole layer 41 and the upper magnetic pole layer 45.

ギャップ層50は、A(1w Os 、 S i O□
等公知の材料であってよい。
The gap layer 50 is made of A(1wOs, SiO□
It may be a known material such as.

これら磁極層41.45およびギャップ層50のパター
ン、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。
The patterns, film thicknesses, etc. of the pole layers 41, 45 and the gap layer 50 may be any known ones.

さらに、図示例ではコイル層6oは、いわゆるスパイラ
ル型として、スパイラル状に上部および下部磁極層41
.45間に配設されており、コイル層60と上部および
下部磁極層41.45間には絶縁層33.35が設層さ
れている。
Furthermore, in the illustrated example, the coil layer 6o is of a so-called spiral type, and the upper and lower magnetic pole layers 41 are arranged in a spiral shape.
.. 45, and an insulating layer 33.35 is provided between the coil layer 60 and the upper and lower magnetic pole layers 41.45.

また下部磁極層41と基体20間には絶縁層31が設層
されている。
Further, an insulating layer 31 is provided between the lower magnetic pole layer 41 and the base body 20.

絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行なう
ときには、SiO2、ガラス、/’1I220.等を用
いることができる。
As the material for the insulating layer, any conventionally known material can be used. For example, when forming a thin film by sputtering, SiO2, glass, /'1I220. etc. can be used.

また、上部磁極45上には保護層70が設層されている
。 保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使
用可能であり、例えばへβ20S等を用いることができ
る。 また、これらに各種樹脂コート層等を積層しても
よい。
Further, a protective layer 70 is provided on the upper magnetic pole 45 . Any conventionally known material can be used as the material for the protective layer, and for example, β20S can be used. Further, various resin coat layers or the like may be laminated thereon.

このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通
常、薄膜作成とパターン形成とから構成される。
The manufacturing process of such a thin film type floating magnetic head usually consists of thin film formation and pattern formation.

上記各層を構成する薄膜の作成には、上記したように、
従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッタ法
、あるいはメツキ法等を用いればよい。
As mentioned above, to create the thin films constituting each of the above layers,
A conventionally known vapor phase deposition method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a plating method may be used.

浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
選択エツチングあるいは選択デポジションにより行なう
ことができる。 エツチングとしてはウェットエツチン
グやドライエツチングを用いることができる。
Pattern formation of each layer of the floating magnetic head can be performed by conventionally known selective etching or selective deposition. Wet etching or dry etching can be used as the etching.

このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等の従来公知の
アセンブリーと組み合わせて使用される。
Such a floating magnetic head is used in combination with a conventionally known assembly such as an arm.

このような磁気ヘッドを用いて本発明の磁気記録媒体、
特に磁気ディスクに対して記録再生を行うには、磁気デ
ィスクを回転させながら、磁気ヘッドを浮上させて記録
再生を行う。
The magnetic recording medium of the present invention using such a magnetic head,
In particular, when recording and reproducing information on a magnetic disk, the magnetic head is made to float while the magnetic disk is being rotated.

ディスク回転数は200 C1〜6000rpm程度、
特に2000〜4000rpmとする。
Disc rotation speed is about 200 C1 ~ 6000 rpm,
In particular, the speed is 2000 to 4000 rpm.

また、浮上量は0.2p以下、特に0.15μ以下、さ
らには0.1戸以下、例えば0.01〜O,C9,+n
とすることができ、このとき良好な浮上特性およびC8
S耐久性を得ることができる。
In addition, the flying height is 0.2 p or less, especially 0.15 μ or less, and even 0.1 or less, for example 0.01 to O, C9, +n.
At this time, good flying characteristics and C8
S durability can be obtained.

浮上量の調整は、スライダ巾や、磁気ヘッドへの荷重を
変えることによって行なう。
The flying height is adjusted by changing the slider width and the load on the magnetic head.

また、磁気ヘッドのフロント面に上記したような保護潤
滑膜を形成しである場合、C8S耐久性はさらに向上す
る。
Furthermore, when a protective lubricant film as described above is formed on the front surface of the magnetic head, the C8S durability is further improved.

そして、上記のような保護潤滑膜を有する磁気ヘッドを
、上記した本発明の磁気記録媒体が有するような磁性層
を有する磁気記録媒体に対して用いる場合も、良好なC
8S耐久性が得られる。
Also, when a magnetic head having a protective lubricant film as described above is used for a magnetic recording medium having a magnetic layer like the above-described magnetic recording medium of the present invention, a good C.sub.
8S durability can be obtained.

第10図には、本発明の第2の態様の磁気記録媒体の好
適実施例を示す。
FIG. 10 shows a preferred embodiment of the magnetic recording medium according to the second aspect of the present invention.

本発明の磁気記録媒体1は、支持体としての基板2上に
、軟磁性膜3、連続薄膜垂直磁化磁性層4、固体保護層
5および保護潤滑膜6を、この順で有する。
The magnetic recording medium 1 of the present invention has a soft magnetic film 3, a continuous thin film perpendicularly magnetized magnetic layer 4, a solid protective layer 5, and a protective lubricant film 6 on a substrate 2 as a support in this order.

なお、支持体2が可どう性材質から構成されている場合
、軟磁性膜3、磁性層4、固体保護層5等の成膜時に発
生する基板2のソリを防止するために、軟磁性膜3、磁
性層4、固体保護層5および潤滑膜6は、第12図に示
すように基板2の両面に設けられることが好ましい。
Note that when the support 2 is made of a flexible material, the soft magnetic film is 3. The magnetic layer 4, solid protective layer 5 and lubricating film 6 are preferably provided on both sides of the substrate 2, as shown in FIG.

ただし、これらを基板2の一方の側は設けることもでき
る。
However, these can also be provided on one side of the substrate 2.

基板2を構成する支持体として可どう性のものを用いる
ときには、他方の側にバックコート層を設けることによ
り基板2のソリを防止することもできる。 この場合の
バックコート層としては、AI2.、Ti等の金属、あ
るいは5iOi 、Six N4.AAi Os 、後
述する固体保護層構成材質等の無機酸化物、窒化物ない
しこれらの混合物などのスパッタ膜が好適であり、さら
には塗布型のバックコート層も用いることかできる。
When a flexible support is used for the substrate 2, warpage of the substrate 2 can be prevented by providing a back coat layer on the other side. In this case, the back coat layer is AI2. , Ti or other metals, or 5iOi, Six N4. A sputtered film of AAiOs, an inorganic oxide, nitride, or a mixture thereof such as a material constituting the solid protective layer to be described later is suitable, and a coated back coat layer may also be used.

基板2は、可どう性であっても剛性であってもよく、ま
た、ディスク状であってもテープ状であってもよく、磁
気記録媒体1の使用目的に応じて選定すればよい。
The substrate 2 may be flexible or rigid, and may be disk-shaped or tape-shaped, and may be selected depending on the intended use of the magnetic recording medium 1.

基板2を可どう性とする場合、その構成材質に特に制限
はないが、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(
PET)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポ
リアミド、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリ
エーテルエーテルケトン(PEEK)などの高分子物質
から選択することが好ましく、耐熱性、寸法安定性、表
面粗度等が良好であることから、これらのうちではポリ
イミドを用いることがより好ましい。
When the substrate 2 is made flexible, there are no particular restrictions on its constituent material, but polyimide, polyethylene terephthalate (
It is preferable to select from polymer materials such as PET), polyphenylene sulfide (PPS), polyamide, polyethylene naphthalate (PEN), and polyetheretherketone (PEEK), which have good heat resistance, dimensional stability, surface roughness, etc. Therefore, among these, it is more preferable to use polyimide.

また、基板2を剛性とする場合、その構成材質に特に制
限はないが、各種ガラス、各種セラミクス、各種金属、
例えばA℃、A2系合金、各種樹脂、例えばポリイミド
、ポリカーボネートなどから選択することが好ましく、
熱収縮率、表面粗度等の点で成形性が良好であることか
ら、これらのうちではガラスを用いることがより好まし
い。
In addition, when the substrate 2 is made rigid, there is no particular restriction on its constituent material, but various types of glass, various ceramics, various metals,
For example, it is preferable to select from A°C, A2 alloy, various resins such as polyimide, polycarbonate, etc.
Among these, it is more preferable to use glass because it has good moldability in terms of heat shrinkage rate, surface roughness, etc.

なお、Co−Cr系合金から構成される磁性層は、磁気
特性向上のために熱処理が施されることが好ましいので
、この場合の基体2構成材質には120℃程度以上の加
熱に耐えられるものを選択することが好ましい。
In addition, since it is preferable that the magnetic layer composed of a Co-Cr alloy is subjected to heat treatment in order to improve its magnetic properties, the material of the base 2 in this case should be one that can withstand heating of about 120°C or more. It is preferable to select

基板2が可どう性である場合、そのヤング率は、300
〜1000kgf/mm″であることが好ましい。 ヤ
ング率をこの範囲とすることにより、耐久性が向上する
と共にヘッドタッチが良好となる。 ヤング率が上記範
囲未満であると、ヘッドタッチは良好であるが耐久性が
低下する。 また、ヤング率が上記範囲を超えると、耐
久性は向上するがヘッドタッチが悪化する。
If the substrate 2 is flexible, its Young's modulus is 300
It is preferable that it is ~1000 kgf/mm''. By setting the Young's modulus within this range, durability is improved and the head touch is good. When the Young's modulus is less than the above range, the head touch is good. However, when the Young's modulus exceeds the above range, the durability improves, but the head touch deteriorates.

基板2の表面粗さ(Rmax)は、O,o24以下であ
ることが好ましい。 Rmaxがこの範囲であると、ヘ
ッドと媒体間で生じるスベーシンクロスが減少し、記録
密度を高くすることができる。 Rmaxが上記範囲を
超えると、十分な記録密度を得ることが困難である。
The surface roughness (Rmax) of the substrate 2 is preferably O,o24 or less. When Rmax is within this range, the spacing cross that occurs between the head and the medium is reduced, and the recording density can be increased. When Rmax exceeds the above range, it is difficult to obtain sufficient recording density.

上記のようなRmaxは、基板2の両面で実現している
ことが好ましいが、少なくとも磁性層設層面で実現して
いれば上記の効果は得られる。
The above Rmax is preferably achieved on both sides of the substrate 2, but the above effect can be obtained if it is achieved at least on the surface where the magnetic layer is provided.

なお、基板2中には、必要に応じ摩擦係数低減のために
フィラーが含有されていてもよい。
Note that the substrate 2 may contain a filler to reduce the coefficient of friction, if necessary.

基板2をディスク状とする場合、その直径は用途に応じ
て適当な値を選択すればよく、通常、50〜130mm
程度である。 また、基板2の厚さは、可どう性である
場合7〜80μm程度、より詳細にはフロッピーディス
クとして用いる場合20〜50μm程度、磁気テープと
して用いる場合7〜15μm程度であり、剛性である場
合、すなわちハードディスクとして用いる場合0.8〜
2mm程度である。
When the substrate 2 is disk-shaped, its diameter may be selected as an appropriate value depending on the application, and is usually 50 to 130 mm.
That's about it. The thickness of the substrate 2 is about 7 to 80 μm when it is flexible, more specifically about 20 to 50 μm when used as a floppy disk, and about 7 to 15 μm when used as a magnetic tape. , that is, when used as a hard disk, 0.8~
It is about 2 mm.

基板2上には、軟磁性膜3が設けられる。A soft magnetic film 3 is provided on the substrate 2 .

軟磁性膜3は、再生出力の向上のために設けられる。The soft magnetic film 3 is provided to improve reproduction output.

軟磁性膜3の構成材質は、Fe−Ni系合金であること
が好ましい。
The material constituting the soft magnetic film 3 is preferably a Fe-Ni alloy.

Fe−Ni系合金としては、Fe−Ni合金(パーマロ
イ)、Fe−Ni−Mo合金、Fe−Ni−Cr合金、
Fe−Ni−Nb合金、Fe−Ni−Mn−Cu合金、
Fe−Ni−Mo−Nb合金、F e −N i −M
 o −Cu合金、F e−N i−31−Aj2合金
等を好ましく用いることができる。
Fe-Ni alloys include Fe-Ni alloy (permalloy), Fe-Ni-Mo alloy, Fe-Ni-Cr alloy,
Fe-Ni-Nb alloy, Fe-Ni-Mn-Cu alloy,
Fe-Ni-Mo-Nb alloy, Fe-Ni-M
o -Cu alloy, Fe-Ni-31-Aj2 alloy, etc. can be preferably used.

また、Fe−Ni系合金の他、Fe−co−■系合金も
好ましく用いることができる。
In addition to the Fe-Ni alloy, a Fe-co-■ alloy can also be preferably used.

なお、これら合金には、必要に応じ、Ti、A℃、S 
i、Mn、Cu、Ta、C,OlN、Ar、Ca、Cr
等が含有されていてもよい。
In addition, these alloys may contain Ti, A℃, S
i, Mn, Cu, Ta, C, OlN, Ar, Ca, Cr
etc. may be contained.

軟磁性膜3の面内方向の保磁力は、6〜200eである
ことが好ましい。 保磁力がこの範囲内であると、高い
再生出力が得られると共にモジュレーションが20%以
下に低下する。 保磁力が上記範囲未満となると再生出
力は向上するがモジュレーションが大きくなり、上記範
囲を超えるとモジュレーションは小さくなるが再生出力
が低下してしまう。
The coercive force of the soft magnetic film 3 in the in-plane direction is preferably 6 to 200e. When the coercive force is within this range, high reproduction output is obtained and modulation is reduced to 20% or less. If the coercive force is less than the above range, the reproduction output will improve, but the modulation will increase; if it exceeds the above range, the modulation will decrease, but the reproduction output will decrease.

軟磁性膜3の膜厚は0.2〜0.5μmであることが好
ましい。 膜厚がこの範囲未満であると生産性は向上す
るが十分な再生出力が得られず、この範囲を超えると再
生出力は高くなるが、成膜に時間を要し生産性が低下す
る。
The thickness of the soft magnetic film 3 is preferably 0.2 to 0.5 μm. If the film thickness is less than this range, productivity will improve, but sufficient reproduction output will not be obtained; if it exceeds this range, reproduction output will increase, but film formation will take time and productivity will decrease.

なお、軟磁性膜3は、スパッタ法により成膜されること
が好ましい。
Note that the soft magnetic film 3 is preferably formed by sputtering.

本発明の第2の態様の磁気記録媒体には垂直磁気記録が
なされるため、磁性層4は膜面と垂直方向に磁化容易軸
を有する垂直磁化膜であることが好ましい。
Since the magnetic recording medium of the second aspect of the present invention performs perpendicular magnetic recording, the magnetic layer 4 is preferably a perpendicular magnetization film having an axis of easy magnetization in a direction perpendicular to the film surface.

このような磁性層4の構成材質としては、Co−Cr系
合金が好ましい。 Co−Cr系合金としては、Go−
Cr合金、Co−Cr−B合金、Co −Cr −M 
n合金、Co−CrM n −B合金、Go−Cr−T
a合金、C。
A preferable material for forming the magnetic layer 4 is a Co-Cr alloy. As a Co-Cr alloy, Go-
Cr alloy, Co-Cr-B alloy, Co-Cr-M
n alloy, Co-CrM n -B alloy, Go-Cr-T
a alloy, C.

Cr−3i−Al1.合金等が好ましい。Cr-3i-Al1. Alloys and the like are preferred.

なお、Co−Cr系合金中のCr含有率は、16〜23
at%程度であることが好ましい。
Note that the Cr content in the Co-Cr alloy is 16 to 23
It is preferable that it is about at%.

また、Co−Cr系合金の他、Co−V系合金も好まし
く用いることができる。
In addition to the Co-Cr alloy, a Co-V alloy can also be preferably used.

なお、これら合金には、必要に応じ、OlN、SL、A
l2、Mn、Ar等が含有されていてもよい。
In addition, these alloys include OIN, SL, A
12, Mn, Ar, etc. may be contained.

磁性層4の垂直方向保磁力は4000e以上であること
が好ましい。 垂直方向保磁力がこの範囲未満であると
、再生出力が不十分である。 なお、垂直方向保磁力の
上限は特にないが、通常15000e程度まで容易に製
造することができる。
The perpendicular coercive force of the magnetic layer 4 is preferably 4000e or more. If the vertical coercive force is less than this range, the reproduction output will be insufficient. Although there is no particular upper limit to the perpendicular coercive force, it can usually be easily manufactured up to about 15,000e.

磁性層4の厚さは0.05〜0.2μmであることが好
ましい。 厚さがこの範囲未満であると再生出力が低下
し、S/Nが低下する。
The thickness of the magnetic layer 4 is preferably 0.05 to 0.2 μm. If the thickness is less than this range, the reproduction output will decrease and the S/N will decrease.

また、この範囲を超えると記録密度が低下し、例えば記
録密度(D、、)が100 KFRPIに達しない。
Moreover, when this range is exceeded, the recording density decreases, and for example, the recording density (D, . . . ) does not reach 100 KFRPI.

磁性層は、気相成膜法により形成されることが好ましく
、特にスパッタ法により成膜されることが好ましい。
The magnetic layer is preferably formed by a vapor phase deposition method, particularly preferably by a sputtering method.

固体保護層5は、Yを含む希土類元素(Y、ランクメイ
ド元素およびアクチノイド元素を意味し、以下、Rと略
称する。)を除く金属または半金属から選択される1種
以上の元素と、OおよびNとを含有し、さらに、これら
の元素に対し、Rから選択される1種以上の元素を1〜
10at%含有することが好ましい。 なお、固体保護
層は、通常、非晶質状態にある。
The solid protective layer 5 includes one or more elements selected from metals or semimetals excluding rare earth elements (Y means rank-made elements and actinide elements, hereinafter abbreviated as R) including Y, and O. and N, and further contains one or more elements selected from R for these elements.
It is preferable to contain 10 at%. Note that the solid protective layer is usually in an amorphous state.

固体保護層5に含有されるR以外の金属または半金属と
しては、Si、Al2、Ti、ZnおよびBが好ましく
、これらのうちRおよびSiを必須とするかSiおよび
Al1を必須として固体保護層5に含有させることが好
ましい。
The metal or metalloid other than R contained in the solid protective layer 5 is preferably Si, Al2, Ti, Zn, and B. It is preferable to make it contain in 5.

また、これらの元素の他、Fe、Mg、Ca、Sr%B
a、Ar、Mn等が全体の1at%以下程度含有されて
いてもよい。
In addition to these elements, Fe, Mg, Ca, Sr%B
A, Ar, Mn, etc. may be contained in an amount of about 1 at% or less of the total.

さらに詳述すると、固体保護層5の組成は、下記の組成
工または組成IIの範囲から選択することが好ましい。
More specifically, the composition of the solid protective layer 5 is preferably selected from the following range of compositions or compositions II.

!LLL[金属または半金属としてSiおよびA℃を必
須とするもの] SiおよびAflは、通常、酸化物および窒化物の形で
含有される。
! LLL [Metal or semimetal that requires Si and A° C.] Si and Afl are usually contained in the form of oxides and nitrides.

固体保護層5中の上記化合物は、その組成において化学
量論的な組成比を外れていてよい。
The above compounds in the solid protective layer 5 may deviate from the stoichiometric composition.

これらの元素と酸素および窒素とを含有することにより
、耐食性が向上する。
Corrosion resistance is improved by containing these elements and oxygen and nitrogen.

組成工における固体保護層5中の各元素の含有率は、下
記の範囲であることが好ましい。
The content of each element in the solid protective layer 5 in the composition process is preferably within the following range.

S  i  :  2 0〜8 0at% 、より好ま
しくは40〜70at%。
Si: 20 to 80 at%, more preferably 40 to 70 at%.

Al1:1〜30at%、 より好ましくは2〜10at%。Al1: 1 to 30 at%, More preferably 2 to 10 at%.

O:2〜30at%、 より好ましくは2〜20at%。O: 2 to 30 at%, More preferably 2 to 20 at%.

N:5〜45at%、 より好ましくは15〜35at%。N: 5 to 45 at%, More preferably 15 to 35 at%.

このような組成の固体保護層には、上記したように、さ
らにRが含有される。
The solid protective layer having such a composition further contains R, as described above.

Rとしては、Yおよびランタノイド元素が好ましい。As R, Y and a lanthanide element are preferable.

Rの含有率は、保護層中に含有されるR以外の金属また
は半金属元素と、0およびNとの合計を100at%と
したとき、1〜10at%であり、好ましくは2〜8a
t%である。
The content of R is 1 to 10 at%, preferably 2 to 8 at%, when the sum of metals or metalloid elements other than R contained in the protective layer, and O and N is 100 at%.
t%.

このような含有率にてRを含有することにより、耐久性
、耐候性および耐食性がさらに向上し、特に耐久性は極
めて高いものとなる。
By containing R at such a content rate, durability, weather resistance, and corrosion resistance are further improved, and in particular, durability becomes extremely high.

この組成におけるRとしては、Y、La、Ce、Pr、
Nd、SmおよびEuからなる群から選ばれた元素の1
種以上であることが好ましく、特にYを必須とすること
が好ましい。 R中のYの比率は、50%以上であるこ
とが好ましい。
R in this composition includes Y, La, Ce, Pr,
1 of the elements selected from the group consisting of Nd, Sm and Eu
It is preferable that Y is more than one species, and it is particularly preferable that Y is essential. The ratio of Y in R is preferably 50% or more.

このとき耐久性、耐候性、耐食性等の面でより良好な結
果が得られる。
At this time, better results can be obtained in terms of durability, weather resistance, corrosion resistance, etc.

また、固体保護層5をスパッタ法により形成する際に、
用いるターゲットにこれらの元素を含有させることによ
り緻密なターゲットが得られ、その結果、ターゲットの
冷却効率が向上し、スパッタ時の輻射熱が抑えられる。
Furthermore, when forming the solid protective layer 5 by sputtering,
By containing these elements in the target used, a dense target can be obtained, and as a result, the cooling efficiency of the target is improved and radiant heat during sputtering is suppressed.

Rは、固体保護層5中にて元素単体あるいは化合物いず
れの形で含有されてもよい。 化合物として含有される
場合は、通常、酸化物の形で含有されることが好ましい
R may be contained in the solid protective layer 5 in the form of either a simple element or a compound. When contained as a compound, it is usually preferably contained in the form of an oxide.

Laユ[金属または半金属としてSiを必須とするもの
] この組成におけるRとしては、少なくともLaおよびC
eのうち一種以上が含まれることが好ましい。
La Yu [Metal or metalloid that requires Si] R in this composition includes at least La and C.
It is preferable that one or more types of e are included.

LaおよびCeは、通常、酸化物として含有される。 
これらの酸化物の化学量論組成はそれぞれLaa Os
およびCe O2であるが、これらから偏奇したもので
あってもよい。
La and Ce are usually contained as oxides.
The stoichiometry of these oxides is Laa Os
and Ce 2 O2, but they may be other than these.

CeおよびLaのはいずれか一方であってもよく、両者
が含有されてもよいが、両者が含有される場合、その量
比は任意である。
Either one or both of Ce and La may be contained, but when both are contained, the quantitative ratio thereof is arbitrary.

また、Laおよび/またはCeの他、Yを含む他の希土
類元素、例えばY、Er等が含有されていてもよいが、
R中のLaおよび/またはCeの比率は50%以上であ
ることが好ましい。
In addition to La and/or Ce, other rare earth elements including Y, such as Y and Er, may be contained.
The ratio of La and/or Ce in R is preferably 50% or more.

固体保護層5中には、希土類元素の酸化物に加え、Si
が含有される。
In addition to rare earth element oxides, the solid protective layer 5 contains Si.
Contains.

Siは、通常、酸化物および窒化物として含有されるが
、化学量論組成から偏奇していてもよい。
Si is usually contained as an oxide or a nitride, but the stoichiometric composition may be deviated.

組成Hにおける固体保護層5中の各元素の含有率は、下
記の範囲であることが好ましい。
The content of each element in the solid protective layer 5 in composition H is preferably within the following range.

S  i  :  1 0〜8 0at% 、より好ま
しくは20〜60at%。
Si: 10 to 80 at%, more preferably 20 to 60 at%.

O:10〜80at%、 より好ましくは15〜60at%。O: 10 to 80 at%, More preferably 15 to 60 at%.

N:2〜60at%、 より好ましくは3〜50at%。N: 2 to 60 at%, More preferably 3 to 50 at%.

そして、Rの含有率は、保護層中に含有されるR以外の
金属または半金属元素と、0およびNとの合計を100
at%としたとき、1〜10at%、好ましくは2〜8
at%である。
The content of R is the sum of metals or metalloid elements other than R contained in the protective layer, 0, and N.
When expressed as at%, 1 to 10 at%, preferably 2 to 8
It is at%.

このような含有率にてRを含有することにより、耐久性
、耐候性および耐食性が向上し、特に耐久性は極めて高
いものとなる。
By containing R at such a content rate, durability, weather resistance, and corrosion resistance are improved, and in particular, durability becomes extremely high.

固体保護層5中の各元素の含有率は、オージェ、ESC
A、SIMS等によって測定すればよい。
The content of each element in the solid protective layer 5 is Auger, ESC
A. It may be measured by SIMS or the like.

このような組成を有する固体保護層5の設層は気相成膜
法により行なうことが好ましく、特にスパッタ法を用い
ることが好ましい。
The formation of the solid protective layer 5 having such a composition is preferably carried out by a vapor phase deposition method, and particularly preferably by a sputtering method.

スパッタ法としては、上記組成の焼結体をターゲットと
して用いてもよ(、また、2種以上のターゲットを用い
る多元スパッタを用いてもよい。 さらに、反応性スパ
ッタを用いることもできる。
In the sputtering method, a sintered body having the above composition may be used as a target (or, multi-source sputtering using two or more types of targets may be used. Furthermore, reactive sputtering may also be used.

なお、希土類元素としてLaおよび/またはCeを含有
させる場合、スパッタターゲットの少なくとも一部とし
て、発火合金であるアラニルメタル、ヒユーバーメタル
、ミツシュメタル、ウエルスバッハメタル等の酸化物を
用いることもできる。
Note that when containing La and/or Ce as rare earth elements, oxides of pyrophoric alloys such as alanyl metal, huber metal, Mitsch metal, Welsbach metal, etc. can also be used as at least a part of the sputtering target.

また、固体保護層5の設層には、その他の気相成膜法、
例えばCVD法、蒸着法、イオンブレーティング法等を
適宜用いることも可能である。
In addition, for the formation of the solid protective layer 5, other vapor phase film formation methods,
For example, it is also possible to use a CVD method, a vapor deposition method, an ion blating method, etc. as appropriate.

固体保護層5は、十分な耐久性を確保するためにビッカ
ース硬度が700以上であることが好ましいが、本発明
における上記したような組成を選択すれば、700以上
のビッカース硬度が容易に得られる。 特にRを含有す
る場合、1000以上のビッカース硬度を得ることもで
きる。
The solid protective layer 5 preferably has a Vickers hardness of 700 or more in order to ensure sufficient durability, but if the composition as described above in the present invention is selected, a Vickers hardness of 700 or more can be easily obtained. . In particular, when containing R, a Vickers hardness of 1000 or more can be obtained.

固体保護層5の厚さは、30〜200人、特に30〜1
00人とすることが好ましい。 厚さが上記範囲未満で
あると保護効果が不十分であり、上記範囲を超えるとス
ペーシングロスが増加して記録密度を向上させることが
できない。
The thickness of the solid protective layer 5 is between 30 and 200, especially between 30 and 1
It is preferable to set the number to 00 people. When the thickness is less than the above range, the protective effect is insufficient, and when it exceeds the above range, spacing loss increases and recording density cannot be improved.

本発明において、固体保護層5表面はの水との接触角は
80°以下、好ましくは60”以下、より好ましくは4
0”以下であることが好ましい。
In the present invention, the contact angle of the surface of the solid protective layer 5 with water is 80° or less, preferably 60" or less, more preferably 4" or less.
It is preferably 0" or less.

水との接触角をこのような範囲とすることにより、潤滑
膜6の成膜を均一に行なうことができる。 なお、固体
保護層5の水との接触角は、通常8°程度以上である。
By setting the contact angle with water within such a range, the lubricating film 6 can be formed uniformly. Note that the contact angle of the solid protective layer 5 with water is usually about 8° or more.

水との接触角は、例え・ば、固体保護層表面に純水を滴
下して30秒後に測定すればよい。 測定雰囲気は、1
8〜23℃、40〜60%RH程度である。
The contact angle with water may be measured, for example, after dropping pure water on the surface of the solid protective layer and 30 seconds later. The measurement atmosphere is 1
The temperature is approximately 8 to 23°C and 40 to 60% RH.

固体保護層5上に設けられる保護潤滑膜6は、前記した
とおりのものである。
The protective lubricant film 6 provided on the solid protective layer 5 is as described above.

以上に説明したような構成を有する本発明の第2の態様
の磁気記録媒体は、垂直磁気記録媒体として、フロッピ
ーディスク、ハードディスク、磁気テープなどに適用さ
れる。
The magnetic recording medium of the second aspect of the present invention having the configuration as described above is applied as a perpendicular magnetic recording medium to floppy disks, hard disks, magnetic tapes, and the like.

また、本発明の第2の態様の磁気記録媒体の記録再生に
用いられる垂直記録型磁気ヘッドに特に制限はないが、
本発明の第2の態様の磁気記録媒体は、前記薄膜型垂直
磁気ヘッドと組合せて使用した場合に、特に摩擦の低減
および安定効果を発揮する。
Furthermore, there are no particular limitations on the perpendicular recording magnetic head used for recording and reproducing the magnetic recording medium of the second aspect of the present invention;
The magnetic recording medium of the second aspect of the present invention particularly exhibits friction reduction and stabilization effects when used in combination with the thin film type perpendicular magnetic head.

薄膜型磁気ヘッドとしては、Al203−TiC等の前
記のセラミクス製基体上に、Co−Nb−Zr系アモル
ファス等の金属製の薄膜磁極層を形成し、さらにAl2
20.等の無機保護膜を被覆したものを用いることが好
ましい。
As a thin film magnetic head, a thin film magnetic pole layer made of metal such as Co-Nb-Zr amorphous is formed on the above-mentioned ceramic substrate such as Al203-TiC, and a thin film magnetic pole layer made of metal such as Co-Nb-Zr amorphous is further formed.
20. It is preferable to use a material coated with an inorganic protective film such as .

そして、このヘッドのフロント面には、前記の保護潤滑
膜を設けてもよい。
The aforementioned protective lubricant film may be provided on the front surface of this head.

なお、垂直型磁気ヘッドは浮動型としてもよい。Note that the vertical magnetic head may be a floating type.

〈実施例〉 以下、本発明を実例例によって具体的に説明する。<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in detail by way of practical examples.

[実施例1] 〈磁気ディスクサンプルの作製〉 外径130mm、内径40mm、厚さ1.9mmのアル
ミノケイ酸ガラス基板を研磨し、さらに化学強化処理を
施した。 化学強化処理は、450℃の溶融硝酸カリウ
ムに10時間浸漬することにより行なった。
[Example 1] <Preparation of magnetic disk sample> An aluminosilicate glass substrate with an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 40 mm, and a thickness of 1.9 mm was polished and further subjected to chemical strengthening treatment. The chemical strengthening treatment was performed by immersing it in molten potassium nitrate at 450°C for 10 hours.

次いで、このガラス基板表面をメカノケミカルポリッシ
ングにより平滑化した。 メカノケミカルポリッシング
には、コロイダルシリカを含む研磨液を用いた。
Next, the surface of this glass substrate was smoothed by mechanochemical polishing. A polishing liquid containing colloidal silica was used for mechanochemical polishing.

研磨条件を変化させて異なるR maxを有するガラス
基板を作製した。 各磁気ディスクサンプルに用いたガ
ラス基板のRmaxを表1に示す。
Glass substrates having different R max were produced by changing the polishing conditions. Table 1 shows the Rmax of the glass substrate used for each magnetic disk sample.

これらのガラス基板を洗浄後、各ガラス基板表面に下記
のようにして磁性層を形成した。
After cleaning these glass substrates, a magnetic layer was formed on the surface of each glass substrate in the following manner.

まず、Arガス雰囲気中にて予備スパッタを行ない、F
eターゲット表面の酸化膜を除去した。 次いで、02
ガスを導入して反応性スパッタを行ない、Fear4膜
を成膜した。 なお、02ガスは、基板に吹きつけるよ
うに導入した。
First, preliminary sputtering is performed in an Ar gas atmosphere, and F
e The oxide film on the target surface was removed. Then 02
Gas was introduced and reactive sputtering was performed to form a Fear 4 film. Note that the 02 gas was introduced so as to be blown onto the substrate.

各磁気ディスクサンプルのFe504膜形成時のP (
Ar+OslおよびP (hl P (Ar+(hlを
、表1に示す。
P (
Ar+Osl and P (hl P (Ar+(hl) are shown in Table 1.

Fe504膜形成後、空気中で200〜400℃にて1
〜5時間酸化を行ない、異なるR maxを有するγ−
Fezes磁性層とした。 なお、磁性層の厚さは、2
000人とした。
After forming the Fe504 film, 1
Oxidation was carried out for ~5 h and γ-
A Fezes magnetic layer was used. Note that the thickness of the magnetic layer is 2
000 people.

各磁気ディスクサンプルの磁性層側Rmaxを表1に示
す。
Table 1 shows Rmax on the magnetic layer side of each magnetic disk sample.

なお、Rmaxは、触針型表面粗さ計により測定した。Note that Rmax was measured using a stylus type surface roughness meter.

各サンプルの磁性層に対してX線回折を行ない、X線回
折チャートを作成した。
X-ray diffraction was performed on the magnetic layer of each sample to create an X-ray diffraction chart.

なお、X線回折は第3図に示される装置にて行なった。Note that X-ray diffraction was performed using the apparatus shown in FIG.

各サンプルのX線回折チャートの解析結果を表1に示す
。 また、サンプルNo、1および2のX線回折チャー
トを、それぞれ第5図および第6図に示す。
Table 1 shows the analysis results of the X-ray diffraction chart of each sample. Further, the X-ray diffraction charts of samples No. 1 and 2 are shown in FIG. 5 and FIG. 6, respectively.

さらに、PO□/PI^r+0□)の変化に伴う磁性層
のP(400)/ P(311)およびP(222)/
 P(3113の変化を第7図に示す。
Furthermore, P(400)/P(311) and P(222)/ of the magnetic layer due to changes in PO□/PI^r+0□)
The changes in P(3113) are shown in FIG.

次に、各サンプルの磁性層上に、 C+sHs、o H6モルとC+iHs。C00CH2
4モルとの10−4モル/j2クロロホルム溶液を調製
し、展開溶液とした。
Then, on the magnetic layer of each sample: C+sHs, o 6 mol of H and C+iHs. C00CH2
A 10-4 mol/j2 chloroform solution with 4 mol was prepared and used as a developing solution.

まず、水相中に被処理体(磁気ディスク)を浸漬した後
、展開溶液を水相表面に均一に落し、単分子膜を展開し
た。
First, an object to be treated (a magnetic disk) was immersed in an aqueous phase, and then a developing solution was uniformly dropped onto the surface of the aqueous phase to develop a monomolecular film.

次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
体を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理体上に単
分子膜を移し取り、20人の単分子膜を設層し、保護潤
滑膜とした。
Next, the interface is compressed until the surface pressure reaches a predetermined pressure, and the object to be treated is raised almost vertically at a constant speed to transfer the monomolecular film onto the object to be treated, and a monomolecular film of 20 people is set up. layer to form a protective lubricating film.

このようにして得られた磁気ディスクサンプルについて
、C8S耐久性の測定を次に示す方法で行なった。 結
果を表1に示す。
Regarding the thus obtained magnetic disk samples, C8S durability was measured by the following method. The results are shown in Table 1.

CS旦旦久上 ■使用磁気ヘッド (磁気ヘッドNo、1) ビッカース硬度2200 kgf/mm”のA 722
0 s  T i C基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形
成した後、磁気ヘッド形状に加工し、支持バネ(ジンバ
ル)に取りつけ、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッド
を作製した。 磁気ヘッド浮揚面のRmaxは130人
とした。
CS Dandankyukami ■Magnetic head used (magnetic head No. 1) A 722 with Vickers hardness 2200 kgf/mm
After forming a thin film magnetic head element on a 0 s T i C substrate, it was processed into a magnetic head shape and attached to a support spring (gimbal) to produce an air bearing type floating magnetic head. The Rmax of the magnetic head flying surface was set to 130 people.

(磁気ヘッドNo、2) ビッカース硬度3000 kgf/mm”のSiC基体
を用いた他は磁気ヘッドNO31と同様にして作製した
(Magnetic head No. 2) This magnetic head was manufactured in the same manner as magnetic head No. 31, except that a SiC substrate with a Vickers hardness of 3000 kgf/mm was used.

これらの磁気ヘッドのフライングバイトは、スライダ幅
、ジンバル荷重を調整し、0.1μmになるようにした
The flying bite of these magnetic heads was adjusted to 0.1 μm by adjusting the slider width and gimbal load.

■C8S 上記磁気ヘッドを使用し、25℃、相 対湿度50%にてC8S試験を行なっ た。  C8Sは第8図に示すサイクルの繰り返しで行
なった。 C8S耐久性は、記録再生出力が初期の半分
以下になるまでの回数を測定し、下記の5段階評価を行
なった。
(2) C8S Using the above magnetic head, a C8S test was conducted at 25° C. and 50% relative humidity. C8S was carried out by repeating the cycle shown in FIG. C8S durability was determined by measuring the number of times until the recording and reproducing output decreased to less than half of the initial level, and was evaluated on the following five levels.

o:10万回以上 ○;5万回以上10万回未満 △:2万回以上5万回未満 ×:1万回以上2万回未満 ××:1万回未満 表1に示される結果から、本発明の効果が明らかである
o: 100,000 times or more ○; 50,000 times or more and less than 100,000 times △: 20,000 times or more and less than 50,000 times ×: 10,000 times or more and less than 20,000 times × ×: less than 10,000 times , the effects of the present invention are clear.

すなわち、基板および磁気ディスクの磁性層側表面のR
maxが本発明範囲内であるサンプルはCSS耐久性が
高く、さらにP(400)/ P(311)およびP(
222)/ P(311)が本発明範囲内であるサンプ
ルは、基体硬度の高い磁気ヘッドを用いた場合でもC8
S耐久性に優れる。
That is, the R of the magnetic layer side surface of the substrate and magnetic disk
Samples with max within the range of the present invention have high CSS durability, and also have P(400)/P(311) and P(
222)/P(311) within the range of the present invention, even when using a magnetic head with a high base hardness, C8
S Excellent durability.

[実施例2] 保護潤滑膜が含有する化合物を表2のように変えて磁気
記録ディスクサンプルを作製した。
[Example 2] Magnetic recording disk samples were prepared by changing the compounds contained in the protective lubricant film as shown in Table 2.

保護潤滑膜以外は実施例1で作製したサンプルNo、 
 2と同様とした。 また、磁気ヘッドはNo、  1
を使用した。
Sample No. prepared in Example 1 except for the protective lubricant film,
Same as 2. Also, the magnetic head is No. 1
It was used.

これらのサンプルについて、初期摩擦係数および耐久走
行後の摩擦係数の測定を行なった。
For these samples, the initial friction coefficient and the friction coefficient after durability running were measured.

なお、保護潤滑膜は下記のように成膜した。Note that the protective lubricant film was formed as follows.

(LB法) 表2に示す化合物の10−4モル/βクロロホルム溶液
を調製し、展開溶液とした。
(LB method) A 10-4 mol/β chloroform solution of the compound shown in Table 2 was prepared and used as a developing solution.

まず、水相中に被処理体を浸漬した後、展開溶液な水相
表面に均一に落し、単分子膜を展開した。
First, an object to be treated was immersed in an aqueous phase, and then a developing solution was uniformly dropped onto the surface of the aqueous phase to develop a monomolecular film.

次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
体を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理体上に単
分子膜を移し取り、さらに被処理体の下降および上昇を
繰り返して単分子膜を累積し、保護潤滑膜とした。
Next, the interface is compressed until the surface pressure reaches a predetermined pressure, and the object to be treated is raised almost vertically at a constant speed to transfer the monomolecular film onto the object to be treated, and then the object to be treated is lowered and raised. This process was repeated to accumulate a monomolecular film, forming a protective lubricant film.

(塗布法) 表2に示す化合物のクロロホルム溶液を塗布溶液とした
。 濃度は、ディッピングの場合0.1wt%とし、ス
ピンコードの場合0.2wt%とした。
(Coating method) A chloroform solution of the compound shown in Table 2 was used as a coating solution. The concentration was 0.1 wt% for dipping and 0.2 wt% for spin code.

辺」L11■L数 上記磁気ヘッドNo、  1を用い、20℃、6゜%R
Hの条件下、1 rpmにて1分間動摩擦係数を測定し
た。
Side” L11 ■ L number Using the above magnetic head No. 1, 20°C, 6°% R
The coefficient of dynamic friction was measured at 1 rpm for 1 minute under H conditions.

結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

、′−′の 7、 上記磁気ヘッドNo、、 1を用い、20”C16゜%
RHの条件下、100 rpmにて30分間接触走行を
行なった後、1 rpmにて1分間動摩擦係数を測定し
た。
,'-'7, Using the above magnetic head No. 1, 20"C16°%
After running in contact at 100 rpm for 30 minutes under RH conditions, the coefficient of dynamic friction was measured at 1 rpm for 1 minute.

結果を表2に示す。 なお、表2に示す摩擦係数の変化
は、測定中の最小値と最大値である。
The results are shown in Table 2. Note that the changes in the friction coefficient shown in Table 2 are the minimum and maximum values during measurement.

・  ′−′の ケズレ 上記の耐久走行後の保護潤滑膜の膜ケズレを目視により
観察した。
- Scraping of '-' Film scratching of the protective lubricant film after the above-mentioned endurance running was visually observed.

表2に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
From the results shown in Table 2, the effects of the present invention are clear.

[実施例3] 実施例2と全く同様にして、表3に示される組成の潤滑
膜の性能を評価した。
[Example 3] In exactly the same manner as in Example 2, the performance of the lubricating film having the composition shown in Table 3 was evaluated.

ただし、摩擦係数測定および耐久走行は、20℃、80
%RHの条件とした。
However, friction coefficient measurement and durability running were conducted at 20°C and 80°C.
The condition was %RH.

結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.

表2および表3に示される結果から、本発明の効果が明
らかである。
From the results shown in Tables 2 and 3, the effects of the present invention are clear.

すなわち、本発明の保護潤滑膜を有するサンプルは、耐
久走行後でも摩擦係数が小さい。 そして、さらにエス
テルを添加することにより、摩擦係数とその耐久走行後
の変動が減少する。
That is, the sample having the protective lubricant film of the present invention has a small coefficient of friction even after endurance running. Furthermore, by further adding ester, the coefficient of friction and its fluctuation after endurance running are reduced.

[実施例4] 〈磁気ディスクサンプルの作製〉 表4に示すRmaxを有するガラス基板を用い、実施例
1と同様にして磁気ディスクサンプルを作製した。
[Example 4] <Preparation of magnetic disk sample> A magnetic disk sample was prepared in the same manner as in Example 1 using a glass substrate having Rmax shown in Table 4.

ただし、各磁気ディスクサンプルのFe1O4膜形成時
のP (Ar4(hlおよびP ox/ P (Ar4
(hlはそれぞれI X 10−”Torrおよび0.
058とした。
However, P (Ar4 (hl) and P ox/P (Ar4
(hl are I x 10-” Torr and 0.0 Torr, respectively.
It was set as 058.

また、Fe*Oa膜形成後の酸化は、表3に示す条件で
大気中熱処理により行ない、γ−FeJs磁性層とした
。 なお、磁性層の厚さは、2000人とした。
Further, the oxidation after the formation of the Fe*Oa film was performed by heat treatment in the air under the conditions shown in Table 3 to obtain a γ-FeJs magnetic layer. The thickness of the magnetic layer was 2000.

各磁気ディスクサンプルの磁性層側のRmaxを表4に
示す。
Table 4 shows Rmax on the magnetic layer side of each magnetic disk sample.

各サンプルの磁性層に対し、実施例1と同様にしてX線
回折を行ない、X線回折チャートを作成した。
The magnetic layer of each sample was subjected to X-ray diffraction in the same manner as in Example 1 to create an X-ray diffraction chart.

各サンプルのX線回折チャートの解析結果を表4に示す
Table 4 shows the analysis results of the X-ray diffraction chart of each sample.

また、サンプルNo、32のX線回折チャートを、第9
図に示す。
In addition, the X-ray diffraction chart of sample No. 32 was
As shown in the figure.

第9図に示されるように、このチャートにはα−Fet
usの面指数(104)のピークが認められた。
As shown in FIG. 9, this chart shows α-Fet
A peak with a surface index (104) of us was observed.

さらに、このサンプルの磁性層に対し、第3図に示す低
入射角X線回折装置を用いて、β=0.5”およびβ=
2.0°にてX線回折を行なった。
Further, the magnetic layer of this sample was analyzed using a low-incidence-angle X-ray diffraction apparatus shown in FIG.
X-ray diffraction was performed at 2.0°.

得られたX線回折チャートを第10図に示す。The obtained X-ray diffraction chart is shown in FIG.

第10図に示されるように、β=0.5@におけるP(
104)/ P(311)はβ=2.0’におけるP 
(104)/ P (311)の約3倍であり、a−F
ezOsの含有率が磁性層表面側で高いことが確認され
た。
As shown in Fig. 10, P(
104)/P(311) is P at β=2.0'
(104)/P (311), which is about three times as large as a-F
It was confirmed that the content of ezOs was high on the surface side of the magnetic layer.

なお、表4に示される他のサンプルについて同様な測定
を行なったところ、はぼ同様な結果が得られた。
Incidentally, when similar measurements were performed on other samples shown in Table 4, almost the same results were obtained.

次に、各サンプルの磁性層上に、実施例1の各サンプル
と同じ潤滑膜を成膜した。
Next, the same lubricant film as in each sample of Example 1 was formed on the magnetic layer of each sample.

このようにして得られた磁気ディスクサンプルについて
、摺動耐久性および再生出力の測定を次に示す方法で行
なった。 結果を表4に示す。
The sliding durability and reproduction output of the magnetic disk samples thus obtained were measured by the following methods. The results are shown in Table 4.

ffliiL匁五 ■使用磁気ヘッド ビッカース硬度2200 kgf/mm2のA120s
−TiC基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、磁
気ヘッド形状に加工し、支持バネ(ジンバル)に取りつ
け、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した。
ffliiL Momme 5 ■ Magnetic head used A120s with Vickers hardness of 2200 kgf/mm2
- After forming a thin film magnetic head element on a TiC substrate, it was processed into a magnetic head shape and attached to a support spring (gimbal) to produce an air bearing type floating magnetic head.

この磁気ヘッド浮揚面のRmaxは130人であった。The Rmax of this magnetic head floating surface was 130 people.

スライダ幅は150μm、ジンバル荷重は25gとした
The slider width was 150 μm, and the gimbal load was 25 g.

■摺動耐久性 上記磁気ヘッドを使用し、25°C1相対湿度50%に
て摺動耐久性試験を行なった。
■Sliding Durability Using the above magnetic head, a sliding durability test was conducted at 25° C. and 50% relative humidity.

上記磁気ヘッドを磁気ディスクサンプルに押し付け、磁
気ディスクと磁気ヘッドとの相対速度が20 m / 
sになるように磁気ディスクを回転させた。 このとき
磁気ヘッドが浮上せずに常に摺動した状態であることは
、AE(アコースティック・エミッション)センサによ
り確認した。
The above magnetic head was pressed against the magnetic disk sample, and the relative speed between the magnetic disk and the magnetic head was 20 m /
The magnetic disk was rotated so that At this time, it was confirmed by an AE (acoustic emission) sensor that the magnetic head was constantly sliding without floating.

耐久性は、磁気ディスクに傷が発生するまでの時間で評
価した。
Durability was evaluated based on the time until scratches appeared on the magnetic disk.

0;60分以上 O:40分以上60分未満 △:20分以上40分未満 ×:20分未満 なお、この摺動耐久性試験は、C8s耐久性試験よりも
過酷な耐久性試験方法である。
0: 60 minutes or more O: 40 minutes or more and less than 60 minutes △: 20 minutes or more and less than 40 minutes ×: less than 20 minutes This sliding durability test is a more severe durability test method than the C8s durability test. .

再il力 表3に示す各サンプルについて再生出力を測定し、α−
FeJxの含有による再生出力の低下を調べた。
The reproduction output was measured for each sample shown in Table 3, and α-
The reduction in reproduction output due to the inclusion of FeJx was investigated.

評価は、α−F620aを含有しないサンプルNo、3
1(1)再生出力を100とし、○:90以上 ×:90未満 で行なった。
Evaluation was made for sample No. 3, which does not contain α-F620a.
1 (1) The reproduction output was set to 100, and ○: 90 or more and ×: less than 90.

表4に示される結果から、本発明の効果が明らかである
From the results shown in Table 4, the effects of the present invention are clear.

なお、上記各サンプルに対してC8S耐久性試験を行な
ったところ、摺動耐久性試験と同様な傾向がみられた。
In addition, when a C8S durability test was conducted on each of the above samples, the same tendency as in the sliding durability test was observed.

また、表4に示される各サンプルに対し、実施例3と同
様にして初期摩擦係数および耐久走行後の摩擦係数の測
定を行なったところ、潤滑膜が含有する化合物に対応し
て、実施例2の各サンプルと同様な結果が得られた。
In addition, for each sample shown in Table 4, the initial friction coefficient and the friction coefficient after endurance running were measured in the same manner as in Example 3. Similar results were obtained for each sample.

さらに、実施例1〜4に用いた磁気ヘッドのフロント面
上に上記各潤滑膜を成膜し、実施例1〜3で作製した各
磁気ディスクサンプルと組合せて上記と同様な測定を行
なった。
Further, each of the above lubricant films was formed on the front surface of the magnetic heads used in Examples 1 to 4, and the same measurements as above were performed in combination with each of the magnetic disk samples prepared in Examples 1 to 3.

この結果、潤滑膜を有する磁気ディスクと組合せた場合
、上記実施例よりもさらに効果は向上した。
As a result, when combined with a magnetic disk having a lubricating film, the effect was further improved than in the above embodiment.

[実施例5] 第11図に示す構成で、固体保護層の組成が異なる種々
の磁気ディスクサンプルを作製した。 各部の構成の詳
細を以下に示す。
[Example 5] Various magnetic disk samples having the configuration shown in FIG. 11 and having different solid protective layer compositions were produced. The details of the configuration of each part are shown below.

[基板] 直径86mm、厚さ40μm、ヤング 率900 kgf/mm2.表面粗さ(Rmax)0.
015μmのポリイミドを用いた。
[Substrate] Diameter 86 mm, thickness 40 μm, Young's modulus 900 kgf/mm2. Surface roughness (Rmax) 0.
015 μm polyimide was used.

[軟磁性膜] 2%0□を含む2X10−’PaのAr雰囲気中で、D
Cマグネトロンスパッタ法により80at%Ni−Fe
合金を厚さ0.45μmに成膜して形成した。
[Soft magnetic film] D in an Ar atmosphere of 2×10-'Pa containing 2%0
80at%Ni-Fe by C magnetron sputtering method
The alloy was formed into a film having a thickness of 0.45 μm.

軟磁性膜の面内方向の保磁力は、9 0eであった。The coercive force of the soft magnetic film in the in-plane direction was 90e.

[磁性層] DCマグネトロンスパッタ法により2゜at%Cr−C
o合金を厚さ0.18μmに成膜して形成した。 成膜
時の雰囲気は、軟磁性膜形成の際と同様とした。
[Magnetic layer] 2 at% Cr-C by DC magnetron sputtering
It was formed by forming a film of o alloy to a thickness of 0.18 μm. The atmosphere during film formation was the same as that for forming the soft magnetic film.

磁性層の垂直方向の保磁力は、7200eであった。The perpendicular coercive force of the magnetic layer was 7200e.

[固体保護層] 2%0.を含むlXl0−’PaのAr雰囲気中で、R
Fマグネトロンスパッタ法により、下記表5に示す各種
組成の固体保護層を厚さ0.01μmに形成した。 な
お、スパッタに用いたターゲットは、固体保護層に対応
する組成を有する焼結体を用いた。
[Solid protective layer] 2%0. In an Ar atmosphere of lXl0-'Pa containing R
Solid protective layers having various compositions shown in Table 5 below were formed to a thickness of 0.01 μm by F magnetron sputtering. Note that the target used for sputtering was a sintered body having a composition corresponding to the solid protective layer.

各固体保護層のビッカース硬度を表5に示す。 ビッカ
ース硬度は、各磁気ディスクサンプルの固体保護層と同
条件で2μmの厚さに形成した膜で測定した。
Table 5 shows the Vickers hardness of each solid protective layer. The Vickers hardness was measured using a film formed to a thickness of 2 μm under the same conditions as the solid protective layer of each magnetic disk sample.

[保護潤滑膜] 実施例1の保護潤滑膜 得られた各サンプルに対し、下記の試験を行なった。[Protective lubricant film] Protective lubricant film of Example 1 The following tests were conducted on each of the obtained samples.

(1)耐久試験A 針によるスクラッチ試験を行ない、耐久性を評価した。(1) Durability test A A needle scratch test was conducted to evaluate durability.

針先端の曲率半径は100μm、負荷はLog、針とサ
ンプルとの相対速度は10m m / s e cとし
た。
The radius of curvature of the needle tip was 100 μm, the load was Log, and the relative speed between the needle and the sample was 10 mm/sec.

耐久性の評価は、試験後のサンプル表面に存在するスク
ラッチキズの幅により行なった。
Durability was evaluated based on the width of scratches present on the sample surface after the test.

なお、この際、スクラッチキズの幅が5μmを超えると
実用に際して問題が生じ、好ましくは3μm以下である
とよい。
At this time, if the width of the scratch exceeds 5 μm, problems will arise in practical use, and the width is preferably 3 μm or less.

(2)耐候試験 70℃、90%RHの条件下で100日間保存後に、磁
性層面に現われた斑点状のシミ(錆)の大きさを測定し
た。
(2) Weather resistance test After storage for 100 days under conditions of 70° C. and 90% RH, the size of speckled stains (rust) that appeared on the surface of the magnetic layer was measured.

(3)電磁変換特性の測定 磁極厚0.2μm、磁極幅50μmの主磁極励磁型単磁
極薄膜ヘッドを用い、ヘッドとディスクの相対速度2 
m / s e cにてf特を測定し、D、。により評
価した。
(3) Measurement of electromagnetic conversion characteristics Using a main pole-excited single-pole thin film head with a magnetic pole thickness of 0.2 μm and a magnetic pole width of 50 μm, the relative speed between the head and the disk was 2.
Measure the f characteristic at m/sec, D. Evaluated by.

薄膜ヘッドは、Aρ103  TiC基体上にCo−N
b−Zrアモルファス磁極およびA℃gos保護膜をス
パッタ法により形成したものを用いた。
The thin film head consists of Co-N on Aρ103 TiC substrate.
A b-Zr amorphous magnetic pole and an A.degree. C. gos protective film formed by sputtering were used.

(4)ヘッド摩耗試験A ヘッドとディスクとを、負荷Log、相対速度2 m 
/ s e cで摺動させ、1000時間後のヘッド摩
耗量を測定した。 ヘッド摩耗量は、走行開始時および
走行開始1000時間後のヘッド形状な触針型表面粗さ
計にて測定し、これらを比較することにより求めた。
(4) Head wear test A The head and disk were tested at a load of Log and a relative speed of 2 m.
/sec, and the head wear amount was measured after 1000 hours. The amount of head wear was measured using a head-shaped stylus type surface roughness meter at the start of running and 1000 hours after the start of running, and was determined by comparing these measurements.

なお、用いたヘッドは、上記(3)に示す薄膜ヘッドで
あり、摩耗部は、主として磁極および保護膜であった。
The head used was the thin film head shown in (3) above, and the worn parts were mainly the magnetic pole and the protective film.

これらの試験結果を表5に示す。The results of these tests are shown in Table 5.

表5に示される結果から、本発明の効果が明らかである
From the results shown in Table 5, the effects of the present invention are clear.

すなわち、固体保護層の組成が本発明の範囲内であるサ
ンプルは、各試験の結果が良好である。 これに対し、
Rの含有量がlat%未満および10at%超である組
成の固体保護層を有するサンプルは、これらの性能が劣
っていた。
That is, samples in which the composition of the solid protective layer was within the range of the present invention gave good results in each test. On the other hand,
Samples with solid protective layers having compositions with R contents of less than lat% and greater than 10at% had poorer performance.

[実施例6] 固体保護層形成法を変えた他は実施例5と同様にして、
種々の磁気ディスクサンプルを作製した。 固体保護層
の形成法を以下に示す。
[Example 6] Same as Example 5 except that the solid protective layer forming method was changed,
Various magnetic disk samples were prepared. The method for forming the solid protective layer is shown below.

[固体保護層] Arと、0□および/またはN2とを含む雰囲気中で、
RFマグネトロンスパッタ法により、下記表6に示す各
種組成および接触角を有する固体保護層を厚さ0.01
μmに形成した。
[Solid protective layer] In an atmosphere containing Ar, 0□ and/or N2,
A solid protective layer having various compositions and contact angles shown in Table 6 below was formed to a thickness of 0.01 mm by RF magnetron sputtering.
It was formed in μm.

なお、Ar圧はlXl0−’Paとし、これに1〜10
%の02および/またはN、を加えることにより接触角
を変更した。 なお、表6に示すサンプルのうち接触角
が80°を超えるものは、0□だけを加えて成膜したも
のである。
In addition, the Ar pressure is 1X10-'Pa, and 1 to 10
The contact angle was changed by adding %02 and/or N. Note that among the samples shown in Table 6, those with contact angles exceeding 80° were formed by adding only 0□.

接触角は、固体保護層表面に純水を滴下して30秒後に
測定した。 接触角測定の際の雰囲気は、20℃、55
%RHとした。
The contact angle was measured 30 seconds after dropping pure water onto the surface of the solid protective layer. The atmosphere during contact angle measurement was 20°C, 55°C.
%RH.

スパッタに用いたターゲットは、固体保護層に対応する
組成を有する焼結体を用いた。
The target used for sputtering was a sintered body having a composition corresponding to the solid protective layer.

各固体保護層のビッカース硬度を表6に示す。 ビッカ
ース硬度は、各磁気ディスクサンプルの固体保護層と同
条件で2μmの厚さに形成した膜で測定した。
Table 6 shows the Vickers hardness of each solid protective layer. The Vickers hardness was measured using a film formed to a thickness of 2 μm under the same conditions as the solid protective layer of each magnetic disk sample.

このようにして得られた各サンプルに対し、実施例5の
(2)耐候性試験および(3)電磁変換特性の測定に加
え、下記の試験(5)および(6)を行なった。
In addition to the (2) weather resistance test and (3) measurement of electromagnetic conversion characteristics in Example 5, the following tests (5) and (6) were conducted on each sample thus obtained.

(5)耐久試験B 垂直磁気記録用のフロッピーディスクドライブに各サン
プルを実装し、初期出力の70%まで出力が低下したと
きのバス数を求めた。
(5) Durability Test B Each sample was mounted on a floppy disk drive for perpendicular magnetic recording, and the number of buses when the output decreased to 70% of the initial output was determined.

磁気ヘッドには垂直記録用の薄膜ヘッドを使用し、負荷
はLog、摺動速度は2 m / sとした。
A thin film head for perpendicular recording was used as the magnetic head, the load was Log, and the sliding speed was 2 m/s.

(6)ヘッド摩耗試験B 実施例5の(4)ヘッド摩耗試験Aにおいて、摺動条件
をより過酷なものとした。
(6) Head Wear Test B In (4) Head Wear Test A of Example 5, the sliding conditions were made more severe.

すなわち、ヘッドとディスクとを、負荷15g、相対速
度2 m / s eごで摺動させ、1000時間後の
ヘッド摩耗量を測定した。
That is, the head and disk were slid at a load of 15 g and a relative speed of 2 m/s, and the amount of head wear after 1000 hours was measured.

ヘッド摩耗量は、走行開始時および走行開始1000時
間後のヘッド形状を触針型表面粗さ計にて測定し、これ
らを比較することにより求めた。
The amount of head wear was determined by measuring the shape of the head at the start of running and 1000 hours after the start of running using a stylus type surface roughness meter, and comparing these results.

これらの試験結果を表6に示す。The results of these tests are shown in Table 6.

表6に示される結果から、固体保護層の接触角が80”
以下となると、各試験の結果が良好となることがわかる
From the results shown in Table 6, the contact angle of the solid protective layer is 80”
It can be seen that the results of each test are favorable when the following values are met.

[実施例7] 保護潤滑膜の組成を、表7のように変えて種々の磁気デ
ィスクを作製した。 保護潤滑膜以外は実施例6で作製
したサンプルNo、52と同様とした。
[Example 7] Various magnetic disks were manufactured by changing the composition of the protective lubricant film as shown in Table 7. The sample No. 52 prepared in Example 6 was the same except for the protective lubricant film.

ただし、基板にはガラス基板を用いた。However, a glass substrate was used as the substrate.

ガラス基板は、下記のようにして作製した。A glass substrate was produced as follows.

外径130mm、内径40mm、厚さ1.9mmのアル
ミノケイ酸ガラス板を研磨し、さらに化学強化処理を施
した。 化学強化処理は、450℃の溶融硝酸カリウム
に10時間浸漬することにより行なった。
An aluminosilicate glass plate with an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 40 mm, and a thickness of 1.9 mm was polished and further subjected to chemical strengthening treatment. The chemical strengthening treatment was performed by immersing it in molten potassium nitrate at 450°C for 10 hours.

次いで、このガラス板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化した。 メカノケミカルポリッシングに
は、コロイダルシリカを含む研磨液を用いた。 次いで
洗浄し、ガラス基板を得た。
Next, the surface of this glass plate was smoothed by mechanochemical polishing. A polishing liquid containing colloidal silica was used for mechanochemical polishing. Next, it was washed to obtain a glass substrate.

このようにして得られたガラス基板の表面粗さ(Rma
x)は、50人であった。
The surface roughness of the glass substrate thus obtained (Rma
x) was 50 people.

これらの被検サンプルについて、初期摩擦係数および耐
久走行後の摩擦係数の測定を行なった。
For these test samples, the initial friction coefficient and the friction coefficient after endurance running were measured.

払I目4扁」を数 実施例5の(3)電磁変換特性の測定に用いた磁気ヘッ
ドを用い、20℃、60%RH雰囲気下、1 rpmに
て1分間動摩擦係数を測定した。
Using the magnetic head used in (3) measurement of electromagnetic conversion characteristics in Example 5, the coefficient of dynamic friction was measured at 1 rpm at 20° C. and 60% RH for 1 minute.

結果を表7に示す。The results are shown in Table 7.

・ ′−′の 1、 上記と同様な磁気ヘッドにより、20℃、60%RH雰
囲気下、100 rpmにて30分間接接触杆を行なっ
た後、1 rpmにて1分間動摩擦係数を測定した。
・'-' 1. After indirect contact was performed for 30 minutes at 100 rpm in an atmosphere of 20° C. and 60% RH using the same magnetic head as above, the coefficient of dynamic friction was measured for 1 minute at 1 rpm.

結果を表7に示す。 なお、表7に示す摩擦係数の変化
は、測定中の最小値と最大値である。
The results are shown in Table 7. Note that the changes in the friction coefficient shown in Table 7 are the minimum and maximum values during measurement.

[実施例8] 実施例7と全く同様にして、表8に示される保護潤滑膜
を有する磁気ディスクを作製した。
[Example 8] In exactly the same manner as in Example 7, a magnetic disk having a protective lubricant film shown in Table 8 was produced.

これらの特性を表8に示す。 なお、表8における摩擦
係数測定および耐久走行は、20℃、80%RHの雰囲
気下で行った。
These properties are shown in Table 8. Note that the friction coefficient measurement and durability running in Table 8 were performed in an atmosphere of 20° C. and 80% RH.

表7、表8に示される結果から、本発明の効果があきら
かである。
From the results shown in Tables 7 and 8, the effects of the present invention are clear.

〈発明の効果〉 本発明によれば、走行性および耐久性の高い磁気記録媒
体および信頼性の高い磁気記録再生方法が実現する。
<Effects of the Invention> According to the present invention, a magnetic recording medium with high runnability and durability and a highly reliable magnetic recording and reproducing method are realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第11図は、それぞれ本発明の磁気記録媒
体の好適実施例を示す部分断面図である。 第2図は、X線回折装置の概略図である。 第3図は、低入射角X線回折装置の概略図である。 第4図は、本発明に用いる磁気ヘッドの部分断面図であ
る。 第5図および第6図は、γ−Fe20a磁性層のX線回
折チャートである。 第7図は、P o□/ P (Ar+021の変化に伴
う磁性層のP(400)/P(311)およびP(22
2)/ P(311)の変化を示すグラフである。 第8図は、C8Sの1サイクルを示すグラフである。 第9図は、γ−Fears磁性層のX線回折チャートで
ある。 第10図は、低入射角X線回折装置を用5sて作成され
たγ−Fe203磁性層のX線回折チャートである。 符号の説明 1・・・磁気記録媒体 2・・・基板 3・・・軟磁性膜 4・・・磁性層 5・・・固体保護層 6・・・保護潤滑膜 10・・・磁気ヘッド 101・・・X線源 102・・・磁気記録媒体 103・・・計数管 DS・・・ダイバージェンススリット SS・・・スキャッタースリット R3・・・レシービングスリット MM・・・モノクロメータ Sl、S2・・・ソーラースリット 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社代  理  人
  弁理士   石  井  隔間     弁理士 
  増  1) 達  哉FIG、7 PO2/ P(Ar+02) (o/、) F I G、8 8寺 間 (牡)
FIGS. 1 and 11 are partial cross-sectional views showing preferred embodiments of the magnetic recording medium of the present invention, respectively. FIG. 2 is a schematic diagram of the X-ray diffraction apparatus. FIG. 3 is a schematic diagram of a low incidence angle X-ray diffraction device. FIG. 4 is a partial sectional view of a magnetic head used in the present invention. 5 and 6 are X-ray diffraction charts of the γ-Fe20a magnetic layer. Figure 7 shows the P(400)/P(311) and P(22
2) is a graph showing changes in P(311). FIG. 8 is a graph showing one cycle of C8S. FIG. 9 is an X-ray diffraction chart of the γ-Fears magnetic layer. FIG. 10 is an X-ray diffraction chart of the γ-Fe203 magnetic layer prepared for 5 seconds using a low incident angle X-ray diffraction device. Explanation of symbols 1...Magnetic recording medium 2...Substrate 3...Soft magnetic film 4...Magnetic layer 5...Solid protective layer 6...Protective lubricant film 10...Magnetic head 101. ... X-ray source 102 ... Magnetic recording medium 103 ... Counter tube DS ... Divergence slit SS ... Scatter slit R3 ... Receiving slit MM ... Monochromator Sl, S2 ... Solar Slit Applicant: Representative of TDT-K Co., Ltd. Patent Attorney: Hikaru Ishii, Patent Attorney
Increase 1) Tatsuya FIG, 7 PO2/ P (Ar+02) (o/,) FIG, 8 8 Terama (male)

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)セラミックス基体を有する磁気ヘッドを用いて、
連続薄膜磁性層を有する磁気記録媒体に記録および再生
を行う方法であって、 前記磁性層上および/または前記磁気ヘッド上に、融点
30℃以上のアルコールを含有する保護潤滑膜を有する
ことを特徴とする磁気記録再生方法。
(1) Using a magnetic head with a ceramic base,
A method for recording and reproducing information on a magnetic recording medium having a continuous thin magnetic layer, characterized in that a protective lubricant film containing alcohol having a melting point of 30° C. or higher is provided on the magnetic layer and/or the magnetic head. A magnetic recording and reproducing method.
(2)前記保護潤滑層が、さらにエステルを含有する請
求項1に記載の磁気記録再生方法。
(2) The magnetic recording and reproducing method according to claim 1, wherein the protective lubricant layer further contains an ester.
(3)前記磁性層が酸化鉄を主成分とし、前記磁気記録
媒体が、剛性基板上にこの磁性層を有し、前記磁気ヘッ
ドが浮上型のものである請求項1または2に記載の磁気
記録再生方法。
(3) The magnetic layer according to claim 1 or 2, wherein the magnetic layer has iron oxide as a main component, the magnetic recording medium has the magnetic layer on a rigid substrate, and the magnetic head is of a floating type. Recording and playback method.
(4)前記磁性層が垂直磁化膜であり、この垂直磁化膜
に接して固体保護層が設けられている請求項1または2
に記載の磁気記録再生方法。
(4) Claim 1 or 2, wherein the magnetic layer is a perpendicular magnetization film, and a solid protective layer is provided in contact with the perpendicular magnetization film.
The magnetic recording and reproducing method described in .
(5)前記セラミックス基体のビッカース硬度が、10
00以上であり、前記磁気ヘッドがこのセラミックス基
体上に薄膜磁極層を有する請求項1ないし4のいずれか
に記載の磁気記録再生方法。
(5) The ceramic substrate has a Vickers hardness of 10
5. The magnetic recording and reproducing method according to claim 1, wherein the magnetic head has a thin film pole layer on the ceramic substrate.
(6)γ−Fe_2O_3を主成分とする連続薄膜磁性
層を剛性基板上に有し、 この磁性層のX線回折チャートにおいて、 γ−Fe_2O_3の面指数(400)、面指数(22
2)および面指数(311)のそれぞれのピーク面積を
P(400)、P(222)およびP(311)とした
とき、 0≦P(400)/P(311)≦1.0 0≦P(222)/P(311)≦0.5 であり、 前記剛性基板の表面粗さ(Rmax)が10〜100Å
であり、磁性層側表面の表面粗さ (Rmax)が50〜200Åであり、 この磁性層上に、融点30℃以上のアルコールを含有す
る保護潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
(6) A continuous thin film magnetic layer containing γ-Fe_2O_3 as a main component is provided on a rigid substrate, and in the X-ray diffraction chart of this magnetic layer, the plane index of γ-Fe_2O_3 (400), the plane index (22
2) and the respective peak areas of surface index (311) are P(400), P(222) and P(311), 0≦P(400)/P(311)≦1.0 0≦P (222)/P(311)≦0.5, and the surface roughness (Rmax) of the rigid substrate is 10 to 100 Å.
A magnetic recording medium characterized in that the surface roughness (Rmax) of the magnetic layer side surface is 50 to 200 Å, and a protective lubricant film containing alcohol having a melting point of 30° C. or higher is provided on the magnetic layer.
(7)前記保護潤滑層が、さらにエステルを含有する請
求項6に記載の磁気記録媒体。
(7) The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the protective lubricant layer further contains ester.
(8)支持体上に、軟磁性膜、垂直磁化膜磁性層、固体
保護層および保護潤滑膜がこの順で設けられた磁気記録
媒体であって、 前記固体保護層が、R(ただしRは、Yを含む希土類元
素から選択される1種以上の元素を表わす。)を除く金
属または半金属から選択される1種以上の元素と、Oお
よびNとを含有し、さらに、これらの元素に対し1〜1
0at%のRを含有し、 前記保護潤滑膜が、融点30℃以上のアル コールを含有することを特徴とする磁気記録媒体。
(8) A magnetic recording medium in which a soft magnetic film, a perpendicularly magnetized magnetic layer, a solid protective layer, and a protective lubricant film are provided in this order on a support, the solid protective layer being R (where R is , represents one or more elements selected from rare earth elements including Y), O and N, and one or more elements selected from metals or semimetals excluding Against 1-1
A magnetic recording medium containing 0 at% R, wherein the protective lubricant film contains alcohol having a melting point of 30° C. or higher.
(9)前記保護潤滑膜が、さらにエステルを含有する請
求項8に記載の磁気記録媒体。
(9) The magnetic recording medium according to claim 8, wherein the protective lubricant film further contains ester.
JP18928089A 1989-01-17 1989-07-21 Magnetic recording and reproducing method and magnetic recording medium Pending JPH02276018A (en)

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JP1-8141 1989-01-17

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