JPH0227655U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の電極支持構造を示す断面図。
第２図は第１図中の―断面図。第３図はＥＣ
Ｒ型イオンビームエツチング装置の原理図。第４
図は引出し電極の平面図。第５図は従来例に係る
減速電極と電極取付金具の固定部の縦断面図。第
６図は従来例に係る加速電極と電極取付金具の固
定部の断面図。 １……減速電極、２……加速電極、３……電極
取付金具、４……セラミツク支持具、５……セラ
ミツクカバー、６……カバー、７……金属製支持
具、１１，１２……電極穴、１３，１４……電極
フランジ、１６，１７……金属部分。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. イオンを発生する機構と、イオンを引出すため
   の加速電極２、減速電極１を含む引出し電極とを
   備えるイオン源に於て、加速電極２は周縁の電極
   フランジ１４において金属製支持具７によつて電
   極取付金具３に固定し、減速電極１はセラミツク
   支持具４を介して電極取付金具３に固定し、セラ
   ミツク支持具４はマシナブルセラミツク製である
   筒状のセラミツクカバー５で覆われ、電極穴１１
   のある方向に対し左右側方及び後方に延びたカバ
   ー６により、セラミツクカバー５の少なくとも半
   分を覆つていることを特徴とするイオン源。