JPH02282477A - 真空蒸着方法およびその装置 - Google Patents
真空蒸着方法およびその装置Info
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- JPH02282477A JPH02282477A JP10316889A JP10316889A JPH02282477A JP H02282477 A JPH02282477 A JP H02282477A JP 10316889 A JP10316889 A JP 10316889A JP 10316889 A JP10316889 A JP 10316889A JP H02282477 A JPH02282477 A JP H02282477A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空蒸着方法およびその装置に関し、特に、筒
状体の内周面に効率的に蕉発￥！ＩＪ質を蒸着して薄膜
を形成できる真空蒸着方法およびその装置に関するもの
である。
状体の内周面に効率的に蕉発￥！ＩＪ質を蒸着して薄膜
を形成できる真空蒸着方法およびその装置に関するもの
である。
〔従、来技術および解決しようとする課題〕従来、真空
蒸着における蒸発源は、第５図（ａｌ（ｂ） （Ｃ）に
示すようなものが知られている。
蒸着における蒸発源は、第５図（ａｌ（ｂ） （Ｃ）に
示すようなものが知られている。
すなわち、第５図（ａ）に示すものは、プラチナ（Ｐｔ
）などの線状の蒸発物質２２をタングステン（Ｗ）など
の高融点金属からなる抵抗加熱線ヒータ２１に接触させ
るとともに、その抵抗加熱線ヒータ２１に通電し、前記
蒸発物質２２を加熱して蒸発させるフィラメント方式で
ある。
）などの線状の蒸発物質２２をタングステン（Ｗ）など
の高融点金属からなる抵抗加熱線ヒータ２１に接触させ
るとともに、その抵抗加熱線ヒータ２１に通電し、前記
蒸発物質２２を加熱して蒸発させるフィラメント方式で
ある。
第５図（ｂ）に示すものは、Ｗなどの高融点金属からな
る抵抗加熱材料からなるボート３１内にｐｔなどの粒子
状の蒸発物質３２を入れて、前記ボート３１に通電し、
前記原発物質３２を加熱して原発させるボート方式であ
る。
る抵抗加熱材料からなるボート３１内にｐｔなどの粒子
状の蒸発物質３２を入れて、前記ボート３１に通電し、
前記原発物質３２を加熱して原発させるボート方式であ
る。
第５図（Ｃ）に示すものは、高融点材料からなるるつぼ
４１内にＰｔなどの粒子状の蒸発物質４２を入れて、こ
のるつぼ４１内の蒸発物質４２にイオンビーム４３を当
て戻発物質４２を加熱して蒸発させる電子ビーム方式で
ある。
４１内にＰｔなどの粒子状の蒸発物質４２を入れて、こ
のるつぼ４１内の蒸発物質４２にイオンビーム４３を当
て戻発物質４２を加熱して蒸発させる電子ビーム方式で
ある。
しかしながら、これらの蒸発源は、平板状の被蒸着体で
ある基板に対向して位置させて成膜する場合には、その
基板上に前記蒸発物質２２．３２．４２の薄膜を効率的
に形成することができるが、蒸着面が前記蒸発源に対向
していない、たとえば立体的な基体の側面、裏面又は円
筒体の内周面などの場合にあっては、前記蒸発源から蒸
発する蒸発物質２２．３２．４２が到達しにくり、薄膜
形成が困難となり、特に、被蒸着体として口径の小さな
筒状体の内周面に薄膜を形成することは不可能であると
いう問題点を有していた。
ある基板に対向して位置させて成膜する場合には、その
基板上に前記蒸発物質２２．３２．４２の薄膜を効率的
に形成することができるが、蒸着面が前記蒸発源に対向
していない、たとえば立体的な基体の側面、裏面又は円
筒体の内周面などの場合にあっては、前記蒸発源から蒸
発する蒸発物質２２．３２．４２が到達しにくり、薄膜
形成が困難となり、特に、被蒸着体として口径の小さな
筒状体の内周面に薄膜を形成することは不可能であると
いう問題点を有していた。
本発明は上記のような従来のもののもつ問題点を解決し
たものであって、筒状体の内周面に効率的に薄膜を形成
できる真空蒸着方法およびその装置を提供することを目
的としている。
たものであって、筒状体の内周面に効率的に薄膜を形成
できる真空蒸着方法およびその装置を提供することを目
的としている。
〔課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために本発明の真空蒸着方法方法
は、真空槽内に配設した被蒸着体に薄膜を形成する真空
蒸着方法であって、長尺状の抵抗加熱線ヒータの外周に
原発物質を被覆して形、成され、かつ、一端が送りロー
ラに、また他端が巻取りローラにそれぞれ巻回された蒸
着用材料を、被蒸着体である筒状体内に挿通して配設し
、前記筒状体の両端部の近傍に配設した蒸着用材料を移
動可能に支持する電極を介して前記抵抗加熱線ヒータに
通電し、前記抵抗加熱線ヒータを被覆した蒸発物質を加
熱・蒸発させ、前記筒状体の内周面に蒸発物質の薄膜を
形成する手段を有しており、前記筒状体をその軸心を中
心に回転しながら薄膜を形成してもよく、また、本発明
の真空蒸着装置は、真空槽内に、非蒸着体である筒状体
と、この筒状体内に挿通されるとともに、長尺状の抵抗
加熱線ヒータの外周に蒸発物質を被覆して形成され、か
つ、一端が送りローラに、また他端が巻取りローラにそ
れぞれ巻回された蒸着用材料と、前記筒状体の両端部の
近傍に設けられ、前記蒸着用材料を移動可能に支持する
電極とを配設し、前記電極間に電圧を印加し、前記抵抗
加熱線ヒータを被覆した茎発物質を蒸発し、前記筒状体
の内周面に蒸着させる手段を有しており、前記筒状体を
その軸心を中心に回転させる回転部材を具えたものでも
よく、また、前記蒸着用材料は、前記電極で支持される
部分が、さらに、筒状体の内径より小径の他の電極で支
持されることで折り返され、蒸着用材料の折り返された
電極間の部分が筒状体の内部に位置しているようにして
もよい。
は、真空槽内に配設した被蒸着体に薄膜を形成する真空
蒸着方法であって、長尺状の抵抗加熱線ヒータの外周に
原発物質を被覆して形、成され、かつ、一端が送りロー
ラに、また他端が巻取りローラにそれぞれ巻回された蒸
着用材料を、被蒸着体である筒状体内に挿通して配設し
、前記筒状体の両端部の近傍に配設した蒸着用材料を移
動可能に支持する電極を介して前記抵抗加熱線ヒータに
通電し、前記抵抗加熱線ヒータを被覆した蒸発物質を加
熱・蒸発させ、前記筒状体の内周面に蒸発物質の薄膜を
形成する手段を有しており、前記筒状体をその軸心を中
心に回転しながら薄膜を形成してもよく、また、本発明
の真空蒸着装置は、真空槽内に、非蒸着体である筒状体
と、この筒状体内に挿通されるとともに、長尺状の抵抗
加熱線ヒータの外周に蒸発物質を被覆して形成され、か
つ、一端が送りローラに、また他端が巻取りローラにそ
れぞれ巻回された蒸着用材料と、前記筒状体の両端部の
近傍に設けられ、前記蒸着用材料を移動可能に支持する
電極とを配設し、前記電極間に電圧を印加し、前記抵抗
加熱線ヒータを被覆した茎発物質を蒸発し、前記筒状体
の内周面に蒸着させる手段を有しており、前記筒状体を
その軸心を中心に回転させる回転部材を具えたものでも
よく、また、前記蒸着用材料は、前記電極で支持される
部分が、さらに、筒状体の内径より小径の他の電極で支
持されることで折り返され、蒸着用材料の折り返された
電極間の部分が筒状体の内部に位置しているようにして
もよい。
本発明は上記の手段を採用したことにより、被蕉着体で
ある筒状体内に配設した長尺状の蒸着用材料に、前記筒
状体の両端の近傍に配設した電極を介して通電し、抵抗
加熱線ヒータの外周に被覆した蒸発物質を加熱して蒸発
させ、前記筒状体の内周面に蒸発物質を蒸着して薄膜を
形成できるとともに、前記蒸着用材料の一端に接続した
送りローラまたは他端に接続した巻取りローラにより筒
状体内に連続的に蒸着用材料を供給でき、薄膜をを連続
的に形成できることとなる。
ある筒状体内に配設した長尺状の蒸着用材料に、前記筒
状体の両端の近傍に配設した電極を介して通電し、抵抗
加熱線ヒータの外周に被覆した蒸発物質を加熱して蒸発
させ、前記筒状体の内周面に蒸発物質を蒸着して薄膜を
形成できるとともに、前記蒸着用材料の一端に接続した
送りローラまたは他端に接続した巻取りローラにより筒
状体内に連続的に蒸着用材料を供給でき、薄膜をを連続
的に形成できることとなる。
〔発・明の具体的構成］
以下、本発明を具体的に説明する。
第１図には本発明に用いられる蒸発源とその蒸発源によ
り加熱されて蒸発する蒸発物質とを一体にした蒸着用材
料の一実施例が示されていて、この蒸着用材料１は、タ
ングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍ
ｏ）、ニオブ（Ｎｂ）などの高融点金属をワイヤ状にし
た抵抗加熱線ヒータ２の外周に、プラチナ（Ｐｔ）、金
（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、＆ｌ１１
（Ｃｕ）などの前記抵抗加熱線ヒータ２の高融点金属材
料より低融点の金属材料からなる蒸発物質３を被覆して
、同軸状に形成したものである。
り加熱されて蒸発する蒸発物質とを一体にした蒸着用材
料の一実施例が示されていて、この蒸着用材料１は、タ
ングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍ
ｏ）、ニオブ（Ｎｂ）などの高融点金属をワイヤ状にし
た抵抗加熱線ヒータ２の外周に、プラチナ（Ｐｔ）、金
（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、＆ｌ１１
（Ｃｕ）などの前記抵抗加熱線ヒータ２の高融点金属材
料より低融点の金属材料からなる蒸発物質３を被覆して
、同軸状に形成したものである。
第２図（ａ） （ｂ）には本発明による真空蒸着装置の
第１の実施例の要部が示されていて、上記の蒸着用材料
１が、その一端が送りローラフに接続され、他端が巻取
りローラ８に接続されるとともに、被蒸着体である円筒
状の筒状体４内に挿通されている。
第１の実施例の要部が示されていて、上記の蒸着用材料
１が、その一端が送りローラフに接続され、他端が巻取
りローラ８に接続されるとともに、被蒸着体である円筒
状の筒状体４内に挿通されている。
また、前記筒状体４の両端部の近傍には、前記長尺状の
蒸着用材料１を移動可能に支持する電極である回転ロー
ラ５．６が配設され、この一対の回転ローラ５．６間に
電圧を印加する電源９が接続されている。
蒸着用材料１を移動可能に支持する電極である回転ロー
ラ５．６が配設され、この一対の回転ローラ５．６間に
電圧を印加する電源９が接続されている。
さらに、前記筒状体４には、その外周に筒状体４をその
軸心を中心とする回転を与える回転部材である一対の駆
動ローラ１０．１０が設けられている。
軸心を中心とする回転を与える回転部材である一対の駆
動ローラ１０．１０が設けられている。
そして、上記の各部材が真空槽Ａ内に配設されて構成さ
れた真空蒸着装置は、真空槽Ａ内を所定の真空条件下に
保持された状態で使用される。
れた真空蒸着装置は、真空槽Ａ内を所定の真空条件下に
保持された状態で使用される。
すなわち、本発明による真空蒸着装置を第２図（ａ）の
ようにセットした後、前記筒状体４を、第２図［有］）
に示すようにその軸心を中心に回転させながら、前記電
極である一対の回転ローラ５．６間に電源９から電圧を
印加し、前記筒状体４内に挿通される蒸着用材料ｌの抵
抗加熱線ヒータ２に電流を流して加熱し、抵抗加熱線ヒ
ータ２を、被覆する蒸発物質３を蒸発させ、筒状体４の
内周面に蒸発物質３の均一な薄膜を形成することができ
る。
ようにセットした後、前記筒状体４を、第２図［有］）
に示すようにその軸心を中心に回転させながら、前記電
極である一対の回転ローラ５．６間に電源９から電圧を
印加し、前記筒状体４内に挿通される蒸着用材料ｌの抵
抗加熱線ヒータ２に電流を流して加熱し、抵抗加熱線ヒ
ータ２を、被覆する蒸発物質３を蒸発させ、筒状体４の
内周面に蒸発物質３の均一な薄膜を形成することができ
る。
そして、前記抵抗加熱線ヒータ２の外周に被覆した蒸発
物質３が全部蒸発してしまったら、前記巻取りローラ８
により前記蒸着用材料１を所定量巻取ることにより、前
記筒状体４内に新たに原発物質３を有する蒸着用材料１
を連続的に供給し、さらに上記の操作を繰り返し、所望
の厚さの薄膜を形成できることとなる。
物質３が全部蒸発してしまったら、前記巻取りローラ８
により前記蒸着用材料１を所定量巻取ることにより、前
記筒状体４内に新たに原発物質３を有する蒸着用材料１
を連続的に供給し、さらに上記の操作を繰り返し、所望
の厚さの薄膜を形成できることとなる。
また、前記蒸着用材料１の供給は、真空槽内の真空を破
ることなくでき、さらに、電極である回転ローラ５．６
に通電しながら、薄膜の形成を止めることなくできるこ
ととなる。
ることなくでき、さらに、電極である回転ローラ５．６
に通電しながら、薄膜の形成を止めることなくできるこ
ととなる。
したがって、本発明においては、筒状体４の内周面に蒸
発材料３を蒸着して薄膜を確実に形成できるとともに、
筒状体４内に連続的に蒸発材料３を供給できるので、薄
膜形成効率を大幅に向上できることとなる。
発材料３を蒸着して薄膜を確実に形成できるとともに、
筒状体４内に連続的に蒸発材料３を供給できるので、薄
膜形成効率を大幅に向上できることとなる。
第３図には本発明による真空蒸着装置の他の実施例の要
部が示されていて、前記と同様な蒸着用材料１が、その
一端が送りローラ１７に接続され、他端が巻取りローラ
１８に接続されるとともに、被蒸着体である円筒状の筒
状体１４内に往復挿通されている。
部が示されていて、前記と同様な蒸着用材料１が、その
一端が送りローラ１７に接続され、他端が巻取りローラ
１８に接続されるとともに、被蒸着体である円筒状の筒
状体１４内に往復挿通されている。
すなわち、前記筒状体１４の一端側の端部近傍には、前
記茎着用材料１を移動可能に支持する電極である回転ロ
ーラ１５．１５′が配設され、また筒状体Ｘ４の他端側
の端部近傍には、前記筒状体１４の内径より小径の電極
である回転ローラ１６が配設され、被蒸着体である筒状
体１４がこの回転ローラ１６側から簡単に脱着できるよ
うになっているとともに、送りローラ１７から出た前記
蒸着用材料１は、筒状体１４内を前記一端側の回転ロー
ラ１５から他端側の回転ローラ１６に行き、ここで折り
返されて一端側の回転ローラ１５′に到り、巻取りロー
ラ１８に接続されており、前記筒状体１４内に往復配設
されている。
記茎着用材料１を移動可能に支持する電極である回転ロ
ーラ１５．１５′が配設され、また筒状体Ｘ４の他端側
の端部近傍には、前記筒状体１４の内径より小径の電極
である回転ローラ１６が配設され、被蒸着体である筒状
体１４がこの回転ローラ１６側から簡単に脱着できるよ
うになっているとともに、送りローラ１７から出た前記
蒸着用材料１は、筒状体１４内を前記一端側の回転ロー
ラ１５から他端側の回転ローラ１６に行き、ここで折り
返されて一端側の回転ローラ１５′に到り、巻取りロー
ラ１８に接続されており、前記筒状体１４内に往復配設
されている。
また、前記回転ローラ１５．１６問および回転比−ラ１
６．１５′間にはそれぞれ電源１９．１９が接続されて
いる。
６．１５′間にはそれぞれ電源１９．１９が接続されて
いる。
さらに、前記筒状体１４には、その外周に筒状体１４を
その軸心を中心とする回転を与える回転部材である一対
の駆動ローラ２０．２０が設けられている。
その軸心を中心とする回転を与える回転部材である一対
の駆動ローラ２０．２０が設けられている。
上記のような各部材が真空槽Ａ内に配設されて構成され
た真空蒸着装置は、前記の実施例と同様に真空槽Ａ内を
所定の真空条件下に保持された状態で使用され、前記筒
状体１４を、その軸心を中心に回転させながら、前記電
極である回転ローラ１５．１６問および回転ローラ１６
．１５′間に電Ｂ２０．２０から電圧を印加し、前記筒
状体１４内に往復挿通される蒸着用材料１の抵抗加熱線
ヒータ２に電流を流して加熱し、抵抗加熱線ヒータ２を
被覆する蒸発物質３を蒸発させ、筒状体１４の内周面に
蒸発物質３の均一な薄膜を前記の実施例の倍の速度で形
成することができることとなる。
た真空蒸着装置は、前記の実施例と同様に真空槽Ａ内を
所定の真空条件下に保持された状態で使用され、前記筒
状体１４を、その軸心を中心に回転させながら、前記電
極である回転ローラ１５．１６問および回転ローラ１６
．１５′間に電Ｂ２０．２０から電圧を印加し、前記筒
状体１４内に往復挿通される蒸着用材料１の抵抗加熱線
ヒータ２に電流を流して加熱し、抵抗加熱線ヒータ２を
被覆する蒸発物質３を蒸発させ、筒状体１４の内周面に
蒸発物質３の均一な薄膜を前記の実施例の倍の速度で形
成することができることとなる。
また、前記抵抗加熱線ヒータ２の外周に被覆した蒸発物
質３が全部蒸発してしまったら、前記巻取りローラ１８
により前記蒸着用材料１を所定量巻き取ることにより、
前記筒状体１４内に新たに蒸発物質３が被覆した蒸着用
材料１を前記の実施例と同様に連続的に供給でき、前記
の実施例と同様に、蒸着用材料１の供給を真空槽内の真
空を破ることなく、さらに、電極である回転ローラ１５
．１６問および回転ローラ１６．１５′間に通電しなが
ら、薄膜の形成を止めることなくできる。
質３が全部蒸発してしまったら、前記巻取りローラ１８
により前記蒸着用材料１を所定量巻き取ることにより、
前記筒状体１４内に新たに蒸発物質３が被覆した蒸着用
材料１を前記の実施例と同様に連続的に供給でき、前記
の実施例と同様に、蒸着用材料１の供給を真空槽内の真
空を破ることなく、さらに、電極である回転ローラ１５
．１６問および回転ローラ１６．１５′間に通電しなが
ら、薄膜の形成を止めることなくできる。
さらにまた、上記の実施例においては、成膜した筒状体
１４を回転ローラ１６側から抜いて新たな被蒸着体であ
る筒状体１４を簡単に装填でき、薄膜を前記の実施例の
倍の速度で形成できるとともに、蒸着製品の生産効率を
大幅に向上することができることとなる。
１４を回転ローラ１６側から抜いて新たな被蒸着体であ
る筒状体１４を簡単に装填でき、薄膜を前記の実施例の
倍の速度で形成できるとともに、蒸着製品の生産効率を
大幅に向上することができることとなる。
なお、上記の実施例に示した蒸着用材料１の形状はこれ
に限定されず、第４図に示すように、高融点金属を細い
薄板状に成形した抵抗加熱線ヒータ１２の外周に、プラ
チナ（Ｐｔ）、金（Ａ、ｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム
（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）などの前記抵抗加熱線ヒータ１２
の高融点金属材料より低融点の金属材料からなる蒸発物
質１３を被覆して、同軸状に形成した蒸着用材料１１と
したものであってもよい。
に限定されず、第４図に示すように、高融点金属を細い
薄板状に成形した抵抗加熱線ヒータ１２の外周に、プラ
チナ（Ｐｔ）、金（Ａ、ｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム
（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）などの前記抵抗加熱線ヒータ１２
の高融点金属材料より低融点の金属材料からなる蒸発物
質１３を被覆して、同軸状に形成した蒸着用材料１１と
したものであってもよい。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
実施例−１
前記第２ 回（ａ） （ｂｌに示した真空蒸着装置を用
いて、抵抗加熱線ヒータ２として直径１ｍｍのタングス
テン（Ｗ）を用い、蒸発物質３として抵抗加熱線ヒータ
２の外周に厚さ０．５ｍｍのチタン（Ｔ ｉ ）を被覆
し、直径２ｍｍの蒸着用材料１とし、筒状体４として、
外径１０ｍｍ、長さ３００ｍｍ、肉厚０．５ｍｍのガラ
ス管を用いて、真空槽内を６Ｘ６−’Ｔｏｒｒの真空条
件にして、電極である回転ローラ５．６間に５０Ａの電
流を７分間流した後、−変電流を止め、巻取りローラ８
を作動して蒸着用材料１を新たに筒状体４内に供給して
、さらに７分間、前記と同様に回転ローラ５．６間に５
０Ａの電流を流して、筒状体４であるガラス管の内周面
にＴｉの薄膜を形成した。
いて、抵抗加熱線ヒータ２として直径１ｍｍのタングス
テン（Ｗ）を用い、蒸発物質３として抵抗加熱線ヒータ
２の外周に厚さ０．５ｍｍのチタン（Ｔ ｉ ）を被覆
し、直径２ｍｍの蒸着用材料１とし、筒状体４として、
外径１０ｍｍ、長さ３００ｍｍ、肉厚０．５ｍｍのガラ
ス管を用いて、真空槽内を６Ｘ６−’Ｔｏｒｒの真空条
件にして、電極である回転ローラ５．６間に５０Ａの電
流を７分間流した後、−変電流を止め、巻取りローラ８
を作動して蒸着用材料１を新たに筒状体４内に供給して
、さらに７分間、前記と同様に回転ローラ５．６間に５
０Ａの電流を流して、筒状体４であるガラス管の内周面
にＴｉの薄膜を形成した。
上記で成膜されたガラス管を取り出し、切断して、ガラ
ス管の内周面に形成されたＴｉの薄膜の膜厚を測定した
ところ１．１μｍであり、膜厚分布は３００ｍｍあたり
で１．１μｍ±２０％であり、Ｔｉの付着力も強固なも
のであった。
ス管の内周面に形成されたＴｉの薄膜の膜厚を測定した
ところ１．１μｍであり、膜厚分布は３００ｍｍあたり
で１．１μｍ±２０％であり、Ｔｉの付着力も強固なも
のであった。
実施例−２
前記第３図に示した真空蒸着装置を用いて、前記実施例
−１と同様な蒸着用材料ｌ、筒状体１４を用いて、さら
に真空条件も同様にして、電極である回転ローラ１５．
１６問および回転ローラ１６．１５′間に５０Ａの電流
を５分間流して、筒状体１４であるガラス管の内周面に
Ｔｉの薄膜を形成した。
−１と同様な蒸着用材料ｌ、筒状体１４を用いて、さら
に真空条件も同様にして、電極である回転ローラ１５．
１６問および回転ローラ１６．１５′間に５０Ａの電流
を５分間流して、筒状体１４であるガラス管の内周面に
Ｔｉの薄膜を形成した。
ガラス管の内周面に形成されたＴｉの薄膜の膜厚を測定
したところ０．５μｍであり、膜厚分布は３００ｍｍあ
たりで０．５ａｍ±１０％であ、す、Ｔｉの付着力も強
固なものであった。
したところ０．５μｍであり、膜厚分布は３００ｍｍあ
たりで０．５ａｍ±１０％であ、す、Ｔｉの付着力も強
固なものであった。
なお、上記の実施例で筒状体として円筒状のガラス管を
用いたが、金属、セラミックスなどでもよく、また、筒
状であればいずれのものでも適用できる。
用いたが、金属、セラミックスなどでもよく、また、筒
状であればいずれのものでも適用できる。
本発明は上記のように構成したので、筒状体の内周面に
薄膜を確実に形成できるとともに、真空を破ることなく
、かつ、薄膜の形成を止めることなく薄膜形成材料であ
る蒸発物質を連続的に供給することができるので、薄膜
形成効率を大幅に向上することができるなどのすぐれた
効果を有するものである。
薄膜を確実に形成できるとともに、真空を破ることなく
、かつ、薄膜の形成を止めることなく薄膜形成材料であ
る蒸発物質を連続的に供給することができるので、薄膜
形成効率を大幅に向上することができるなどのすぐれた
効果を有するものである。
第１図は本発明に用いる蒸着用材料の一実施例の説明図
、第２図（ａ） （ｂ）は本発明の真空蒸着装置の第１
の実施例の要部を示し、第２図（ａ）は概略図、第２図
（ｂ）は要部説明図、第３図は本発明の真空蒸着装置の
第２の実施例の概略図、第４圓は本発明に用いる蒸着用
材料の他の実施例の説明図、第５関（ａｌ （ｂ） （
Ｃ）はそれぞれ従来の蒸着用材料の説明図である。 １．１１・・・・・・蒸着用材料 ２．１２．２１・・・・・・抵抗加熱線ヒータ３．１３
．２２．３２．４２・・・・・・蒸発物質４．１４・・
・・・・筒状体 ５．６．１５、 ＋５’、１６・・・・・・回転ローラ（電極）７．１７
・・・・・・送りローラ ８．１８・・・・・・巻取りローラ ９．１９・・・・・・電源 １Ｏ１２０・・・・・・駆動ローラ Ａ・・・・・・真空槽 ３１・・・・・・ボート ４１・・・・・・るつぼ ４３・・・・・・イオンビーム 第１図 第４図 ）蒐鮮裕料 第５ 図 手 続 ネ甫 正 書 （自発 ■、朋牛の耘 ２、発明の名称 ３、補正をする者 羽生との関係 住所 氏名 （名称） ４、代理人 断 平成 １年特許願第１０３１６８号 真空蒸着方法およびその装置
、第２図（ａ） （ｂ）は本発明の真空蒸着装置の第１
の実施例の要部を示し、第２図（ａ）は概略図、第２図
（ｂ）は要部説明図、第３図は本発明の真空蒸着装置の
第２の実施例の概略図、第４圓は本発明に用いる蒸着用
材料の他の実施例の説明図、第５関（ａｌ （ｂ） （
Ｃ）はそれぞれ従来の蒸着用材料の説明図である。 １．１１・・・・・・蒸着用材料 ２．１２．２１・・・・・・抵抗加熱線ヒータ３．１３
．２２．３２．４２・・・・・・蒸発物質４．１４・・
・・・・筒状体 ５．６．１５、 ＋５’、１６・・・・・・回転ローラ（電極）７．１７
・・・・・・送りローラ ８．１８・・・・・・巻取りローラ ９．１９・・・・・・電源 １Ｏ１２０・・・・・・駆動ローラ Ａ・・・・・・真空槽 ３１・・・・・・ボート ４１・・・・・・るつぼ ４３・・・・・・イオンビーム 第１図 第４図 ）蒐鮮裕料 第５ 図 手 続 ネ甫 正 書 （自発 ■、朋牛の耘 ２、発明の名称 ３、補正をする者 羽生との関係 住所 氏名 （名称） ４、代理人 断 平成 １年特許願第１０３１６８号 真空蒸着方法およびその装置
Claims (5)
- （１）真空槽（Ａ）内に配設した被蒸着体に薄膜を形成
する真空蒸着方法であって、長尺状の抵抗加熱線ヒータ
（２）（１２）の外周に蒸発物質（３）（１３）を被覆
して形成され、かつ、一端が送りローラ（７）（１７）
に、また他端が巻取りローラ（８）（１８）にそれぞれ
巻回された蒸着用材料（１）（１１）を、被蒸着体であ
る筒状体（４）（１４）内に挿通して配設し、前記筒状
体（４）（１４）の両端部の近傍に配設した蒸着用材料
（１）（１１）を移動可能に支持する電極（５）（１５
）、（６）（１６）を介して前記抵抗加熱線ヒータ（２
）（１２）に通電し、前記抵抗加熱線ヒータ（２）（１
２）を被覆した蒸発物質（３）（１３）を加熱・蒸発さ
せ、前記筒状体（４）（１４）の内周面に蒸発物質（３
）（１３）の薄膜を形成することを特徴とする真空蒸着
方法。 - （２）前記筒状体（４）（１４）をその軸心を中心に回
転しながら薄膜を形成する請求項１記載の真空蒸着方法
。 - （３）真空槽（Ａ）内に、非蒸着体である筒状体（４）
（１４）と、この筒状体（４）（１４）内に挿通される
とともに、長尺状の抵抗加熱線ヒータ（２）（１２）の
外周に蒸発物質（３）（１３）を被覆して形成され、か
つ、一端が送りローラ（７）（１７）に、また他端が巻
取りローラ（８）（１８）にそれぞれ巻回された蒸着用
材料（１）（１１）と、前記筒状体（４）（１４）の両
端部の近傍に設けられ、前記蒸着用材料（１）（１１）
を移動可能に支持する電極（５）（１５）（１５′）、
（６）（１６）とを配設し、前記電極（５）（１５）（
１５′）（６）（１６）間に電圧を印加し、前記抵抗加
熱線ヒータ（２）（１２）を被覆した蒸発物質（３）（
１３）を蒸発し、前記筒状体（４）（１４）の内周面に
蒸着させることを特徴とする真空蒸着装置。 - （４）前記筒状体（４）（１４）をその軸心を中心に回
転させる回転部材（１０）（２０）を具えた請求項３記
載の真空蒸着装置。 - （５）前記蒸着用材料（１）（１１）は、前記電極（１
５）、（１５′）で支持される部分が、さらに、筒状体
（１４）の内径より小径の他の電極（１６）で支持され
ることで折り返され、蒸着用材料（１）（１１）の折り
返された電極（１５）、（１６）間および電極（１６）
、（１５′）間の部分が筒状体（１４）の内部に位置し
ている請求項３記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10316889A JPH02282477A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 真空蒸着方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10316889A JPH02282477A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 真空蒸着方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02282477A true JPH02282477A (ja) | 1990-11-20 |
Family
ID=14346977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10316889A Pending JPH02282477A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 真空蒸着方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02282477A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001223375A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 可撓性基板の搬送装置及び成膜装置 |
| US6467425B1 (en) * | 1997-08-20 | 2002-10-22 | Rheinmetall Industrie Ag | Apparatus for internally coating a metal tube |
| JP2010018871A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Ulvac Japan Ltd | 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置 |
| JP2010111948A (ja) * | 2009-12-25 | 2010-05-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置、太陽電池及び太陽電池の作製方法 |
-
1989
- 1989-04-22 JP JP10316889A patent/JPH02282477A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6467425B1 (en) * | 1997-08-20 | 2002-10-22 | Rheinmetall Industrie Ag | Apparatus for internally coating a metal tube |
| JP2001223375A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 可撓性基板の搬送装置及び成膜装置 |
| JP2010018871A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Ulvac Japan Ltd | 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置 |
| JP2010111948A (ja) * | 2009-12-25 | 2010-05-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置、太陽電池及び太陽電池の作製方法 |
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