JPH02284014A - Strain inspection device for semiconductor wafer cassette - Google Patents
Strain inspection device for semiconductor wafer cassetteInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体ウェハー(以下、ウェハーという)を
収納したり、搬送したりする時に使用されるウェハーカ
セット(以下、カセットという)の歪を検査する装置に
関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is directed to reducing distortion of wafer cassettes (hereinafter referred to as cassettes) used when storing and transporting semiconductor wafers (hereinafter referred to as wafers). Regarding the equipment to be inspected.
周知のように、カセットは繰返し使用している間に、熱
を加えられたり、落したり、内部応力歪による歪の発生
等使用中の様々な影響を受け、変形を起こす。そして、
この変形が大きくなると、ウェハーをカセットから自動
的に取り出して搬送する装置では、ウェハーが取り出せ
なくなったり、ウェハーを受は取るハンドが当たって高
価なウェハーを破損するという事故が起こっている。特
に最近のウェハー搬送機構は発塵を抑えるため、ベルト
搬送方式からハンド搬送方式になって来ており、このた
め、従来よりもわずかなカセットの変形で搬送トラブル
が発生するようになり、大きな問題になっている。As is well known, during repeated use, cassettes are subject to various influences during use, such as being heated, being dropped, and being strained due to internal stress, causing deformation. and,
When this deformation becomes large, accidents occur in which devices that automatically take out and transport wafers from cassettes are unable to take out the wafers, or the hand that picks up and takes the wafers hits them, damaging the expensive wafers. In particular, recent wafer transport mechanisms have changed from belt transport to hand transport in order to reduce dust generation.As a result, even slight deformation of the cassette can cause transport troubles, which is a big problem. It has become.
このため、このトラブルの原因であるカセットの歪を測
定し、トラブルが発生しそうなカセットを事前に検査し
て取り除く方法が採用されている。For this reason, a method has been adopted in which cassette distortion, which is the cause of this trouble, is measured, and cassettes that are likely to cause trouble are inspected in advance and removed.
そこで、従来、カセットの歪を測定する方法として1人
手によりノギス、ハイドゲージ等の?111定具で各部
の寸法を測定したり、金属製の疑似ウェハーを治具とし
てカセットに挿入し、一定の圧力でこれらウェハーをカ
セットの挿入)jりに押しつけ、これを引き抜き、この
引き抜く時に要した力で間接的にカセットの歪を測定す
る方法が採られていた。Therefore, the conventional method for measuring cassette distortion was to use a caliper, hide gauge, etc. by one person. Measure the dimensions of each part with a 111 fixture, insert metal pseudo wafers into the cassette as a jig, press the wafers against the cassette with constant pressure, pull them out, and measure the A method was used to indirectly measure cassette distortion using the applied force.
しかし、従来の人手による測定方法では、各測定値を許
容範囲の値と比較し、人間が判定しなければならなかっ
たために、1個のカセットを測定するのに10分近くの
時間を要し、詳細な測定、例えばウェハーが入る溝ピッ
チ等まで測定する場合は数時間を要していた。このため
、−日に数個のカセットしか検査できず、大きな半導体
W造工場では数十個のカセットが使用されており、これ
らを人手で全数検査することは事実上不可能であるとい
う問題点があり、また、人手によるため。However, with the conventional manual measurement method, each measurement value had to be compared with a value within an acceptable range and a human had to make a judgment, so it took nearly 10 minutes to measure one cassette. However, detailed measurements, such as measuring the pitch of the groove into which the wafer is inserted, take several hours. For this reason, only a few cassettes can be inspected per day, and dozens of cassettes are used in large semiconductor W manufacturing factories, making it virtually impossible to manually inspect all of them. There is also a manual process.
測定間違いを起こす等の問題点も避けられなかった。Problems such as measurement errors were also unavoidable.
また、引き抜き力で測定する方法では、摩擦力を利用す
るため、測定値の誤差が大きくて大ざっばな測定しかで
きず、まだ使用可能なカセットを使用不可能と判定し、
カセットを無駄に廃棄してしまうとか、逆に使用できな
いカセットを使用可能と判定し、ウェハーを破損する等
の搬送トラブルを起こす等の問題点があり、また、ハン
ドでウェハーを引き出す時に、ウェハーがカセットのウ
ェハー溝と接触し、こすれるため、カセットを汚染し、
m宅扱は必ず洗浄せねばならないばかりか、ウェハーに
も損傷を与えたり、バーライクルを発生させる等ウェハ
ー処理の歩留り低下の原因となるという問題点があり、
更には、カセットがどのように歪でいるか数値で表わせ
ないため、その歪が発生した原因を分枦できない等多く
の問題点を有していた。In addition, since the method of measuring by pulling force uses frictional force, the error in the measurement value is large and only rough measurements can be made, and cassettes that are still usable are judged to be unusable.
There are problems such as wasteful disposal of cassettes, or conversely, cassettes that cannot be used are determined to be usable, causing transport problems such as damage to the wafers.Furthermore, when pulling out wafers by hand, the wafers may be damaged. It comes into contact with the wafer groove of the cassette and rubs, contaminating the cassette.
When handling at home, not only must the wafer be cleaned, but it also causes damage to the wafer, generates burr cracks, and lowers the yield of wafer processing.
Furthermore, since it is not possible to numerically express how the cassette is distorted, there are many other problems, such as the inability to isolate the cause of the distortion.
本発明は、従来の技術が有するこのような問題点に鑑み
なされたもので、その目的とするところは、カセットの
歪を非接触で、短時間に、かつ正確に測定し、カセット
が良品か不良品かを自動的に判定し得る半導体ウェハー
カセットの歪検査装置を提供することにある。The present invention was made in view of the problems of the conventional technology, and its purpose is to accurately measure the distortion of a cassette without contact, in a short time, and to determine whether the cassette is a good product. An object of the present invention is to provide a strain inspection device for a semiconductor wafer cassette that can automatically determine whether it is a defective product.
この目的のため、本発明は1本体のステージ上に定置さ
れた被検査カセットに挿入のウェハー下面までの距離を
光電式に測定する手段と、該手段により測定された測定
値と前記手段により設定された検査基準値を比較演算し
、前記被検査カセットの歪の有無を判定する手段とから
成る構成を特徴とするものである。For this purpose, the present invention provides means for photoelectrically measuring the distance to the lower surface of a wafer inserted into a cassette to be inspected placed on a stage of one main body, and a measurement value measured by the means and a set value set by the means. The present invention is characterized by a configuration comprising means for comparing and calculating the inspection reference values obtained and determining the presence or absence of distortion in the cassette to be inspected.
以下1本発明の実施例を図面を参照してその作用と共に
説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below along with its operation with reference to the drawings.
第1図は本発明に係る装置の一例での概略平面図、第2
図は要部の説明図で、これら図において、1は本体、2
は本体1上に設けられた被測定物を載置するステージ、
3.〜34は2個ずつ互いに対向して配置された4個の
光電子位置センサー(以下、光センサーという)で、該
光センサーは赤色LED (発光ダイオード)やレーザ
ー光を利用したものを含み、これら光センサー3□〜3
.はそれぞれの光軸がステージ2に対して垂直になるよ
う各昇降機構部41〜44を介して本体1に取り付けら
れ、ステージ2上に定置された被検査カセット5の溝6
に挿入の測定子としてのウェハー7の下面8までの距離
りを光電式に測定すると共に、ウェハー7の下面8まで
の距離が各光センサ−3□〜34の測定可能範囲からは
ずれた場合には、各昇降機構部4.〜44の作動を介し
て各光センサ−31〜34を本体1及びステージ2の各
開口部9゜〜94より昇降させてその距離りをIN!l
!IL、測定可能とするようになっている。FIG. 1 is a schematic plan view of an example of the device according to the present invention, and FIG.
The figures are explanatory diagrams of the main parts. In these figures, 1 is the main body, 2
is a stage provided on the main body 1 on which the object to be measured is placed;
3. - 34 are four photoelectronic position sensors (hereinafter referred to as optical sensors) arranged two by two opposite each other, and the optical sensors include those using red LEDs (light emitting diodes) and laser light. Sensor 3□~3
.. are attached to the main body 1 via each lifting mechanism 41 to 44 so that their respective optical axes are perpendicular to the stage 2, and the groove 6 of the cassette 5 to be inspected is placed on the stage 2.
The distance to the bottom surface 8 of the wafer 7 is measured photoelectrically as a measuring element inserted into the sensor, and when the distance to the bottom surface 8 of the wafer 7 is out of the measurable range of each optical sensor 3□ to 34, , each lifting mechanism section 4. -44, each optical sensor -31-34 is raised and lowered from each opening 9°-94 of main body 1 and stage 2, and the distance is IN! l
! IL is designed to be measurable.
なお、光センサーの数には限定がなく、1個であっても
よいことは勿論である。Note that there is no limit to the number of optical sensors, and it goes without saying that the number of optical sensors may be one.
第1図において10は本体1に内装された演算部で、第
3図に示す各光センサ−31〜34によって測定された
ウェハー7の下面8の測定点X1、X2、Yo、Y2の
測定値と各光センサ−3□〜3゜の検査基準値を比較し
て演算処理するもので、該演算部1oは周知のマイクロ
コンピュータで、基本的にはCPU、RAM、ROMよ
り構成されている。In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a calculation unit built into the main body 1, and the measured values of measurement points X1, X2, Yo, and Y2 on the lower surface 8 of the wafer 7 measured by each of the optical sensors 31 to 34 shown in FIG. The calculation unit 1o is a well-known microcomputer, and basically consists of a CPU, RAM, and ROM.
11は演算部10よりの処理データを表示するデータ表
示部、12は演算部10に各光センサ−31〜34の各
測定値の許容値等を設定入力するためのキーボード部で
あり、13は電源スイツチ部である。また、第1図にお
いて14はカセット5をステージ2上に定置する場合の
位置決め部材である。11 is a data display section for displaying processed data from the calculation section 10; 12 is a keyboard section for setting and inputting allowable values of each measurement value of each of the optical sensors 31 to 34 to the calculation section 10; and 13 is a This is the power switch section. Further, in FIG. 1, reference numeral 14 denotes a positioning member for positioning the cassette 5 on the stage 2.
次に、以上の構成になる本発明装置によってカセットの
歪を検査する方法について説明する。Next, a method for inspecting cassette distortion using the apparatus of the present invention having the above configuration will be described.
先ず、検査しようとするカセットと同型で、歪みの無い
カセット5′の溝6′にウェハー7を挿入しくウェハー
7の下面8が多少雲っている方が好ましい)、ステージ
2の所定の位置に位置決め部材14を介して定置し、次
いで、キーボード部12の所定のキー操作により、各光
センサ−31〜34が挿入ウェハー7の下面8までの距
MLを測定する。First, insert the wafer 7 into the groove 6' of the cassette 5', which is the same type as the cassette to be inspected and has no distortion (it is preferable that the lower surface 8 of the wafer 7 is slightly cloudy), and place it in a predetermined position on the stage 2. The wafer is placed in place via the positioning member 14, and then, by operating a predetermined key on the keyboard section 12, each of the optical sensors 31 to 34 measures the distance ML to the lower surface 8 of the inserted wafer 7.
なお、カセット5′に代え、第4図に示すように、検査
すべきカセットの図面14からウェハー下面の高さを算
出しく図面上でのカセットの下段から1段目の溝までの
高さhを基準)、この高さHを基準とするゲージ15を
作り、該ゲージ15をステージ2上に定置し、前記同様
にして各光センサ−31〜34がゲージ15の下面16
までの距離L′を測定するようにしてもよい。In addition, instead of the cassette 5', as shown in FIG. 4, calculate the height of the lower surface of the wafer from the drawing 14 of the cassette to be inspected. A gauge 15 is made using this height H as a reference, and the gauge 15 is placed on the stage 2. In the same manner as described above, each optical sensor 31 to 34 is connected to the lower surface 16 of the gauge 15.
Alternatively, the distance L' may be measured.
各光センサ−31〜34により測定された各測定点X2
、YいX2、Y2の値を演算部10に読み込み、ここを
各光センサ−31〜34の基準点として、データ表示部
11の各測定値をゼロ(原点)に補正し、後カセット5
′またはゲージ15をステージ2上より取り外す。Each measurement point X2 measured by each optical sensor -31 to 34
, Y, X2, and Y2 are read into the calculation unit 10, and using this as a reference point for each optical sensor 31 to 34, each measured value on the data display unit 11 is corrected to zero (origin), and the rear cassette 5
'or remove the gauge 15 from above the stage 2.
次いで、キーボード部12の所定のキー操作により、各
測定点X1. Y、、 Xt、 Y、及びX、Yの傾き
ΔX、ΔYの許容値を入力する。Next, each measurement point X1. Input the allowable values of Y, Xt, Y, and the slopes ΔX and ΔY of X and Y.
次いで、検査すべきカセット5をステージ2上の所定の
位置に定置し、基準としたカセット5′(またはゲージ
15)と同じ高さの溝6にウェハー7を所定の位置まで
挿入する。Next, the cassette 5 to be inspected is placed at a predetermined position on the stage 2, and the wafer 7 is inserted into the groove 6 at the same height as the reference cassette 5' (or gauge 15) up to a predetermined position.
次いで、キーボード部12の測定開始キーを押すと、各
光センサ−3,〜34がウェハー下面8までの距離りを
測定し、その測定値を演算部10に読み込み、基準とし
たカセット5(またはゲージ15)の各原点と比較し、
どれだけずれているかを演算して、これを先に入力した
許容値と比較し。Next, when the measurement start key on the keyboard section 12 is pressed, each optical sensor 3, to 34 measures the distance to the wafer lower surface 8, reads the measured value into the calculation section 10, and selects the cassette 5 (or Compare with each origin of gauge 15),
Calculate the amount of deviation and compare this with the tolerance value entered earlier.
各測定値が許容範囲に入っていれば良品と判定(OK)
L、はずれていれば不良品と判定(NG)する、この結
果はデータ表示部11にroKJまたはrNGJで表示
される。If each measurement value is within the allowable range, it is judged as a good product (OK)
If it is off, the product is determined to be defective (NG). This result is displayed on the data display section 11 as roKJ or rNGJ.
なお1判定の結果はこれをプリントアウトすることがで
きる。Note that the result of judgment 1 can be printed out.
カセット5の歪判定の要素は、各光センサ−3〜3.に
よるウェハー下面までの距離とX、Y2方向の傾きによ
るが、傾きの絶対値△X、ΔYはΔx= 1x1−x、
l
Δy= 1y1−y、l となり、これによってX
及びY方向の傾斜を知ることができる。The elements for determining the distortion of the cassette 5 are the respective optical sensors 3 to 3. Depending on the distance to the bottom surface of the wafer and the inclination in the X and Y directions, the absolute values of the inclination △X and ΔY are Δx = 1x1-x,
l Δy= 1y1-y, l, which makes X
and the inclination in the Y direction.
例えば、第5図(A)、(B)及び第6図に示す例では
、基準面からXニーX2の方向にウェハー7が傾斜して
いることを示している。つまり、カセット5はX、−X
2方向に太き(変形していることを示している。For example, the examples shown in FIGS. 5A, 5B, and 6 show that the wafer 7 is tilted in the direction of X knee X2 from the reference plane. In other words, cassette 5 is X, -X
It is thick in two directions (indicating that it is deformed).
逆に言えば、この変形が前記のウェハー7の基準面から
の位置ずれの原因で、この位置ずれが大きければ、ウェ
ハー搬送用のハンドがカセットからウェハーを取りに行
く時、ウェハーに当たってウェハーを破損したり、傷を
っけたり、また逆にウェハーを取り損うというトラブル
を起こすことになる。Conversely, this deformation is the cause of the positional deviation of the wafer 7 from the reference plane, and if this positional deviation is large, when the hand for carrying the wafer goes to pick up the wafer from the cassette, it may hit the wafer and damage the wafer. This may cause problems such as damage, scratches, or failure to remove the wafer.
なお、X、Yの傾きの判定は、絶対値による外、演算部
により演算処理される傾斜角度によっても可能である。Note that the inclinations of X and Y can be determined not only by absolute values but also by inclination angles calculated by the calculation unit.
しかして、本発明によれば、基準となるカセットまたは
ゲージを使い、−度基準高さを原点として設定し、許容
値を人力設定すれば、検査すべきカセットにウェハーを
挿入してステージ上の所定の位置に置き4111定開始
キーを操作するだけで瞬時に良品か、不良品かの判定が
できる。これにより。According to the present invention, by using a reference cassette or a gauge, setting the - degree reference height as the origin, and manually setting the tolerance value, the wafer can be inserted into the cassette to be inspected and placed on the stage. Just by placing the product in a predetermined position and operating the 4111 fixed start key, you can instantly determine whether it is a good product or a defective product. Due to this.
カセットを短時間で全数検査することが可能となり、不
良のカセットを事前に確実に取り除くことができるよう
になり、ウェハーの自動搬送部で発生していたウェハー
搬送事故を未然に防止し、ウェハー処理工程の歩留りを
向上させることが可能となる。It has become possible to inspect all cassettes in a short time, and it has become possible to reliably remove defective cassettes in advance, preventing wafer transport accidents that previously occurred in the automatic wafer transport section, and preventing wafer processing. It becomes possible to improve the yield of the process.
また、非接触で被測定物を測定するので、ウェハー溝を
汚染することがなく、検査する毎にカセットを洗浄する
必要がなくなる。また、摩擦力等を利用していないので
、測定誤差が少なく、正確な1l11定が行える。Furthermore, since the object to be measured is measured without contact, the wafer groove is not contaminated and there is no need to clean the cassette every time it is inspected. Furthermore, since frictional force or the like is not used, there is little measurement error and accurate 1l11 determination can be performed.
また、ハンドでウェハーを引き出す時、ウェハーがカセ
ットのウェハー1簿とこすれることがないから、ウェハ
ーに損傷を与えたり、バーライクルを発生させたりする
ことはなくなり、ウェハー処理の歩留りを向上すること
ができる。In addition, when pulling out wafers by hand, the wafers do not rub against the wafers in the cassette, so there is no chance of damaging the wafers or causing burr cracks, which improves the yield of wafer processing. .
更にまた、本発明装置は構造が簡単なため、カセットの
自動搬送装置と組合せて自動的に多数のカセットを検査
することが容易となる。Furthermore, since the device of the present invention has a simple structure, it is easy to automatically inspect a large number of cassettes in combination with an automatic cassette transport device.
第1図は本発明に係る装置の一例での概略平面図、第2
図は要部の説明図、第3図は光電子位首センサーの配置
図、第4図は被検査カセットの基準高さの補正例を示す
説明図、第5図(A)、(B)及び第6図は判定の1つ
の要素であるウェハーの傾斜例の説明図である。
1・・・本体
2・・・ステージ
3、〜3.・・・光電式の距離測定手段(光電子位置セ
ンサー)
5・・・被検査カセット
7・・・ウェハー
10・・・演算部FIG. 1 is a schematic plan view of an example of the device according to the present invention, and FIG.
The figure is an explanatory diagram of the main parts, Figure 3 is a layout diagram of the photoelectronic position sensor, Figure 4 is an explanatory diagram showing an example of correction of the reference height of the cassette to be inspected, and Figures 5 (A), (B) and FIG. 6 is an explanatory diagram of an example of wafer tilt, which is one of the factors for determination. 1...Main body 2...Stage 3, ~3. ...Photoelectric distance measuring means (photoelectronic position sensor) 5...Cassette to be inspected 7...Wafer 10...Calculating section
Claims (1)
入のウェハー下面までの距離を光電式に測定する手段と
、該手段により測定された測定値と前記手段により設定
された検査基準値を比較演算し、前記被検査カセットの
歪の有無を判定する手段とから成る半導体ウェハーカセ
ットの歪検査装置。1. A means for photoelectrically measuring the distance to the lower surface of the wafer inserted into the cassette to be inspected placed on the stage of the main body, and comparing the measurement value measured by the means with the inspection reference value set by the means. A distortion testing device for semiconductor wafer cassettes, comprising means for calculating and determining the presence or absence of distortion in the cassette to be tested.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10541489A JPH02284014A (en) | 1989-04-25 | 1989-04-25 | Strain inspection device for semiconductor wafer cassette |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10541489A JPH02284014A (en) | 1989-04-25 | 1989-04-25 | Strain inspection device for semiconductor wafer cassette |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02284014A true JPH02284014A (en) | 1990-11-21 |
Family
ID=14406950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10541489A Pending JPH02284014A (en) | 1989-04-25 | 1989-04-25 | Strain inspection device for semiconductor wafer cassette |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02284014A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH075079A (en) * | 1991-11-11 | 1995-01-10 | Isao Kanda | Carrier inspection device |
-
1989
- 1989-04-25 JP JP10541489A patent/JPH02284014A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH075079A (en) * | 1991-11-11 | 1995-01-10 | Isao Kanda | Carrier inspection device |
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