JPH02284340A - 可変焦点距離複合電磁レンズ - Google Patents
可変焦点距離複合電磁レンズInfo
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- JPH02284340A JPH02284340A JP2071767A JP7176790A JPH02284340A JP H02284340 A JPH02284340 A JP H02284340A JP 2071767 A JP2071767 A JP 2071767A JP 7176790 A JP7176790 A JP 7176790A JP H02284340 A JPH02284340 A JP H02284340A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- lenses
- pole piece
- optical axis
- induction coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は可変焦点距離を備え、物体または像のいずれを
もシフトすることなく、焦点距離の大きな変化を可能に
する、とくにレンズから観察される物体までの距離を決
定することを目的とする、複合電磁レンズに関するもの
で、前記距離はアブレビエーションVD(または作用距
離)として知られている。
もシフトすることなく、焦点距離の大きな変化を可能に
する、とくにレンズから観察される物体までの距離を決
定することを目的とする、複合電磁レンズに関するもの
で、前記距離はアブレビエーションVD(または作用距
離)として知られている。
上記装置は走査式電子顕微鏡および/または走査式電子
顕微鏡から得られる器具、電子ビームまたは電子マイク
ロプローブを使用する集積回路テスタの製造に応用され
、−次電子ビームの観察されるまたは探知される物体へ
の集束は、電磁レンズとくにいわゆる“物体へのビーム
集束”によって得られる。たとえば集束の光学的特性お
よびこのレンズの側に置かれた探知器(または電子)の
感度はこのレンズによって生ずる軸方向磁場B (Z)
にかなり依存する。
顕微鏡から得られる器具、電子ビームまたは電子マイク
ロプローブを使用する集積回路テスタの製造に応用され
、−次電子ビームの観察されるまたは探知される物体へ
の集束は、電磁レンズとくにいわゆる“物体へのビーム
集束”によって得られる。たとえば集束の光学的特性お
よびこのレンズの側に置かれた探知器(または電子)の
感度はこのレンズによって生ずる軸方向磁場B (Z)
にかなり依存する。
これらの用途において、−次電子ビームの検査される物
体への衝突によって生じた二次電子の発生は器具の対物
レンズを構成する集束レンズ下方または検査される物体
またはサンプルもしくは物体の上方に置かれた検出器に
よって測定され、物体またはサンプルから放出された二
次電子は対物レンズを形成する集束レンズの中央通路を
通って指向される。
体への衝突によって生じた二次電子の発生は器具の対物
レンズを構成する集束レンズ下方または検査される物体
またはサンプルもしくは物体の上方に置かれた検出器に
よって測定され、物体またはサンプルから放出された二
次電子は対物レンズを形成する集束レンズの中央通路を
通って指向される。
しかしながら、二次電子検出の感度は各用途において検
査される物体またはサンプル上方の磁場の分布に依存す
るため、とくに用途を特定された各集束レンズは、これ
らの装置が“エバーハルト−ラーンレイ2装置または“
インレンズ1装置のような公知の型のものであるとして
も、集束装置または二次電子検出装置において、大きい
変更がなされない限り一般に他の用途に対しては適さな
い。
査される物体またはサンプル上方の磁場の分布に依存す
るため、とくに用途を特定された各集束レンズは、これ
らの装置が“エバーハルト−ラーンレイ2装置または“
インレンズ1装置のような公知の型のものであるとして
も、集束装置または二次電子検出装置において、大きい
変更がなされない限り一般に他の用途に対しては適さな
い。
しかして、電子顕微鏡において光学的アブレーションを
大幅に減少しようとする公知の方法は、検査される物体
を集束レンズの強い場の区域に、検査される物体をレン
ズの間隙にまたは他の単極半じゃへいレンズの前に置く
ことよりなり、その主要な像平面はレンズ前面と検査さ
れる物体との間に設置される。しかしながら、上記改善
のいずれも、たとえば、検査される物体において、レン
ズの間隙に利用しうるよりも一層小さい、誘導場を得る
ことができないとき集積回路テスタをつくるのに適さな
い。
大幅に減少しようとする公知の方法は、検査される物体
を集束レンズの強い場の区域に、検査される物体をレン
ズの間隙にまたは他の単極半じゃへいレンズの前に置く
ことよりなり、その主要な像平面はレンズ前面と検査さ
れる物体との間に設置される。しかしながら、上記改善
のいずれも、たとえば、検査される物体において、レン
ズの間隙に利用しうるよりも一層小さい、誘導場を得る
ことができないとき集積回路テスタをつくるのに適さな
い。
本発明の目的は上記欠点を解決することである。
このため、本発明の目的を達成する装置は、第2単極レ
ンズに組み合わされた第1シールドレンズを有し、前記
二つのレンズは両レンズに共通の光学軸線に沿って延び
るまったく同一の中心通路と交差し、第1および第2レ
ンズを通して観察する物体またはサンプルとの間で往復
する荷電粒子の通過を可能にし、各レンズは誘導コイル
を備え合成複合レンズの光学軸線上の位置を第1および
第2の誘導コイルの励磁電流の関数としてシフトする可
変焦点距離複合電磁レンズである。
ンズに組み合わされた第1シールドレンズを有し、前記
二つのレンズは両レンズに共通の光学軸線に沿って延び
るまったく同一の中心通路と交差し、第1および第2レ
ンズを通して観察する物体またはサンプルとの間で往復
する荷電粒子の通過を可能にし、各レンズは誘導コイル
を備え合成複合レンズの光学軸線上の位置を第1および
第2の誘導コイルの励磁電流の関数としてシフトする可
変焦点距離複合電磁レンズである。
本発明の主要な利点は、二つのレンズが単一の磁気ブロ
ックに総合されることにより、走査式電子顕微鏡ならび
に、高分解能電子顕微鏡または集積回路テスタに使用し
うる可変焦点距離レンズを得ることが可能になることで
ある。また、たとえば検査される物体またはサンプル上
方の距離の調節のような、機械的調節をいずれにしても
必要とせず、大型サンプルの検査および器具の電子光学
的特性の変更を可能にするものである。
ックに総合されることにより、走査式電子顕微鏡ならび
に、高分解能電子顕微鏡または集積回路テスタに使用し
うる可変焦点距離レンズを得ることが可能になることで
ある。また、たとえば検査される物体またはサンプル上
方の距離の調節のような、機械的調節をいずれにしても
必要とせず、大型サンプルの検査および器具の電子光学
的特性の変更を可能にするものである。
本発明の他の特徴および利点は、図面に基づく下記の記
載から明らかになるであろう。
載から明らかになるであろう。
第1図に示す可変焦点距離電磁レンズはまったく同じ軸
線1の周りの二つの接合された電磁レンズの集合体から
形成され、それらは両レンズに共通の磁気回路4に設け
られた二つの誘導コイル2.3によって励磁される、そ
れぞれじゃへいされた単極電磁レンズである。第1のし
やへいレンズは最終レンズと同じ形を有し、それによっ
て電子顕微鏡は全体的に嵌合している。光学軸線1の周
りの回転によって形成された好ましくは円筒形の本体5
の内側には、一定方向に環状間隙によって円筒形極片7
から分離された前方極片が設けられ、環状間隙平面は光
学軸に垂直である。極片7は励磁コイル2を支持する。
線1の周りの二つの接合された電磁レンズの集合体から
形成され、それらは両レンズに共通の磁気回路4に設け
られた二つの誘導コイル2.3によって励磁される、そ
れぞれじゃへいされた単極電磁レンズである。第1のし
やへいレンズは最終レンズと同じ形を有し、それによっ
て電子顕微鏡は全体的に嵌合している。光学軸線1の周
りの回転によって形成された好ましくは円筒形の本体5
の内側には、一定方向に環状間隙によって円筒形極片7
から分離された前方極片が設けられ、環状間隙平面は光
学軸に垂直である。極片7は励磁コイル2を支持する。
極片7は円筒形本体5の第1の端部5aを囲む環状支持
体9を有し、第1に、円筒形本体5、前方極片6および
支持体9によって画定される間隙内の誘導コイル2の収
納ならびに、第2に、前方極片6、円筒形本体5、間隙
8および支持体9によって形成された磁気回路に誘導さ
れる磁束流を可能にする。前方極片6および円筒形極片
7にはレンズの中央通路を形成する孔IOが貫通してい
る。孔lOは光学軸1と同じその縦方向軸線を有し、光
学軸1に沿ってレンズを通る電子流または荷電粒子の流
れを可能にしている。前方極片6は截頭円錐形を有し、
コイル2の側面2aに接する支持体11を備え、コイル
2が環状間隙8から離れることを可能にし、また、前方
部分6内に、支持体9に向き合って環状間隙8を形成す
る極片7の端部と係合することを可能にしている。
体9を有し、第1に、円筒形本体5、前方極片6および
支持体9によって画定される間隙内の誘導コイル2の収
納ならびに、第2に、前方極片6、円筒形本体5、間隙
8および支持体9によって形成された磁気回路に誘導さ
れる磁束流を可能にする。前方極片6および円筒形極片
7にはレンズの中央通路を形成する孔IOが貫通してい
る。孔lOは光学軸1と同じその縦方向軸線を有し、光
学軸1に沿ってレンズを通る電子流または荷電粒子の流
れを可能にしている。前方極片6は截頭円錐形を有し、
コイル2の側面2aに接する支持体11を備え、コイル
2が環状間隙8から離れることを可能にし、また、前方
部分6内に、支持体9に向き合って環状間隙8を形成す
る極片7の端部と係合することを可能にしている。
第2の単極レンズはコイル3、前方極片6によって形成
された磁気回路4のその部分および前方極片6を囲む円
筒形本体5の前方部分12によって形成される。コイル
3は前方極片6の截頭円錐に前方極片6と円筒形本体5
の内部13との間の空間に取付けられ、コイル3によっ
て誘導された磁気の流れが前方極片6、円筒形本体5の
前方部分12および環状間隙15によって形成された磁
気回路に流れることを可能にしている。間隙15は円筒
形本体5の前方部分によってまた截頭円錐14の円錐部
分によって形成された二つのリップによって画定されて
いる。環状間隙15の端部15a 、 15bは光学軸
線1に垂直な平面内に設置される。それらは、第1に、
円筒5の第2端部5bおよび内部13の交点に、第2に
、截頭円錐の小さい基部14とその円錐部分との交点に
設置される。
された磁気回路4のその部分および前方極片6を囲む円
筒形本体5の前方部分12によって形成される。コイル
3は前方極片6の截頭円錐に前方極片6と円筒形本体5
の内部13との間の空間に取付けられ、コイル3によっ
て誘導された磁気の流れが前方極片6、円筒形本体5の
前方部分12および環状間隙15によって形成された磁
気回路に流れることを可能にしている。間隙15は円筒
形本体5の前方部分によってまた截頭円錐14の円錐部
分によって形成された二つのリップによって画定されて
いる。環状間隙15の端部15a 、 15bは光学軸
線1に垂直な平面内に設置される。それらは、第1に、
円筒5の第2端部5bおよび内部13の交点に、第2に
、截頭円錐の小さい基部14とその円錐部分との交点に
設置される。
説明の便宜上、今後、本発明の複合レンズを構成する二
つのレンズは薄いレンズであるとし、各レンズは発生す
る磁場が最大となる場所で光学軸線に垂直な平面内にあ
る。しかして、第1レンズは間隙8の中央平面の近傍に
設置され、第2図の点O1を通っている。この位置にお
いてコイル2の励磁電流に無関係に止まる。
つのレンズは薄いレンズであるとし、各レンズは発生す
る磁場が最大となる場所で光学軸線に垂直な平面内にあ
る。しかして、第1レンズは間隙8の中央平面の近傍に
設置され、第2図の点O1を通っている。この位置にお
いてコイル2の励磁電流に無関係に止まる。
対照的に、光学軸1上の第2レンズの位置02は第3図
に示すようにレンズの前方極片6の前方に設けられ、そ
の位置で間隙15の磁束が最大となる。
に示すようにレンズの前方極片6の前方に設けられ、そ
の位置で間隙15の磁束が最大となる。
電流が二つのコイル2.3を通って流れるとき、磁束は
二つの間隙8.15の間を流れ加算される。
二つの間隙8.15の間を流れ加算される。
その結果、第4.5図に示すように、軸方向磁場B (
Z)の最終的分布は、それぞれコイル2.3によって誘
導された、分布B (Z)と82(Z)との直線的組
み合わせとなる。要するに、曲線B (Z)は合成主平
面の位置を定めるように調節可能であり、中心0は限界
Ot 102内にある。しかして、サンプルに対するそ
の距MZPおよび焦点距離は、一定の作業距離VDを備
えたレンズの出力側に設けられた場合でさえも、広い限
界内で可変かつ調節可能となる。
Z)の最終的分布は、それぞれコイル2.3によって誘
導された、分布B (Z)と82(Z)との直線的組
み合わせとなる。要するに、曲線B (Z)は合成主平
面の位置を定めるように調節可能であり、中心0は限界
Ot 102内にある。しかして、サンプルに対するそ
の距MZPおよび焦点距離は、一定の作業距離VDを備
えたレンズの出力側に設けられた場合でさえも、広い限
界内で可変かつ調節可能となる。
第4図に示すように、磁束が互いに加算される上記複合
の条件は、 距MO10□が曲線B1(z)、B2(z)の(中位の
高さ)幅の平均値と同じかまたはそれより小さく、これ
は直線または加算的成分が二次的最大値(アベレーショ
ンによる)でないような場合である。
の条件は、 距MO10□が曲線B1(z)、B2(z)の(中位の
高さ)幅の平均値と同じかまたはそれより小さく、これ
は直線または加算的成分が二次的最大値(アベレーショ
ンによる)でないような場合である。
距離010□が曲線B (Z)の最高点0の位置に対し
て十分に大きいままで、重要な限界内で調節可能である
。
て十分に大きいままで、重要な限界内で調節可能である
。
最後に、曲線B (Z)によって限定される主要平面(
物体および像)は最高点Oに密接しているため、薄いレ
ンズとして概算することができ、第5図の距離Z、を与
える合成主要平面を考えることができる。
物体および像)は最高点Oに密接しているため、薄いレ
ンズとして概算することができ、第5図の距離Z、を与
える合成主要平面を考えることができる。
本発明による可変焦点距離を有するレンズを備えた器具
に、レンズの前面とテストされるサンプルの間の間隔V
Dを変化することなく、電子顕微鏡、集積回路テスタま
たは顕微鏡を走査するように作業しうろことは、この距
離Zpの変化を生ずる可能性である。
に、レンズの前面とテストされるサンプルの間の間隔V
Dを変化することなく、電子顕微鏡、集積回路テスタま
たは顕微鏡を走査するように作業しうろことは、この距
離Zpの変化を生ずる可能性である。
実際、第6a図に示す装置を利用する作業は、レンズの
主要平面をサンプル表面から離すことにより容易に得る
ことができる。この場合は最大磁場とサンプルに作用す
る磁場との間のBM/Bo比の高い値に対応する。この
調節は大きい走査面が可能になる大きい距離Z、を生じ
、また最初の角度θ。(光学的軸線1に対する傾斜)に
おいてサンプル表面を離れるすべての二次電子は斜めに
なり、サンプル付近に設置された検出器DETを貫通す
る前に光学的軸線から拡散を拡大する軌道に従う。この
設定値はコイル3よりはるかに大きいコイル2の設定値
に対応する。しかしながら、きわめて異なった配置に対
する作用もまた可能であり、これは第eb図の場合であ
り、検出器DETおよびサンプルはレンズの両側にある
。対応する設定値は一方に近いBM/Bo比を与える。
主要平面をサンプル表面から離すことにより容易に得る
ことができる。この場合は最大磁場とサンプルに作用す
る磁場との間のBM/Bo比の高い値に対応する。この
調節は大きい走査面が可能になる大きい距離Z、を生じ
、また最初の角度θ。(光学的軸線1に対する傾斜)に
おいてサンプル表面を離れるすべての二次電子は斜めに
なり、サンプル付近に設置された検出器DETを貫通す
る前に光学的軸線から拡散を拡大する軌道に従う。この
設定値はコイル3よりはるかに大きいコイル2の設定値
に対応する。しかしながら、きわめて異なった配置に対
する作用もまた可能であり、これは第eb図の場合であ
り、検出器DETおよびサンプルはレンズの両側にある
。対応する設定値は一方に近いBM/Bo比を与える。
この条件は小さい距離Zpを与え磁気閉塞によって傾斜
θを制限する。しかして、レンズを通る電子の軌道は光
学的軸線1に達する。サンプルによって伝達された多数
の電子は光学的軸線1に沿って指向され、検出器に達す
る。最後に、いずれの作用モード、ならびに第4図に対
応する作用の中間モード(限界01と02の間のO)も
電子検出器の両方またはいずれかの型によって作用する
器具、走査電子顕微fi(SEN) 、電子プローブマ
イクロアナライザ(EPMA)または電子プローブを使
用する集積回路テスタに使用することができる。
θを制限する。しかして、レンズを通る電子の軌道は光
学的軸線1に達する。サンプルによって伝達された多数
の電子は光学的軸線1に沿って指向され、検出器に達す
る。最後に、いずれの作用モード、ならびに第4図に対
応する作用の中間モード(限界01と02の間のO)も
電子検出器の両方またはいずれかの型によって作用する
器具、走査電子顕微fi(SEN) 、電子プローブマ
イクロアナライザ(EPMA)または電子プローブを使
用する集積回路テスタに使用することができる。
対応する設定の大きさは第7図に線図的に示されている
。サンプルに対する主要平面の距離ZPを変化させうる
ことは、また、従来技術のマイクロスコープに対してな
されるような、サンプルとレンズ正面との間の距離VD
を変更する必要なしに、走査電子顕微鏡モードにおいて
きわめて大きい可変拡大を達成することを可能にする。
。サンプルに対する主要平面の距離ZPを変化させうる
ことは、また、従来技術のマイクロスコープに対してな
されるような、サンプルとレンズ正面との間の距離VD
を変更する必要なしに、走査電子顕微鏡モードにおいて
きわめて大きい可変拡大を達成することを可能にする。
また、本発明によるレンズは、検出がレンズを通してか
またはレンズとサンプルとの間に起こるかにより、きわ
めて大きい作業距、TIEDたとえば数十分の一ミリを
可能にする。さらに、サンプルが前方極片6の前に置か
れるため、それらの寸法はレンズの物理的寸法によって
制限されることはなく、またしたがってきわめて大きい
直径のサンプルをテストすることができる。
またはレンズとサンプルとの間に起こるかにより、きわ
めて大きい作業距、TIEDたとえば数十分の一ミリを
可能にする。さらに、サンプルが前方極片6の前に置か
れるため、それらの寸法はレンズの物理的寸法によって
制限されることはなく、またしたがってきわめて大きい
直径のサンプルをテストすることができる。
第1レンズおよび第2レンズ組み合わせて合成複合レン
ズを構成し、各レンズの光学軸線上の位置を第1および
第2の誘導コイルの励磁電流の関数としてシフトするこ
とにより、走査式電子顕微鏡ならびに、高分解能電子顕
微鏡または集積回路テスタに使用しうる可変焦点距離レ
ンズを得ることが可能になるとともに、機械的調節をい
ずれにしても必要とせず、大型サンプルの検査および器
具の電子光学的特性の変更を可能になった。
ズを構成し、各レンズの光学軸線上の位置を第1および
第2の誘導コイルの励磁電流の関数としてシフトするこ
とにより、走査式電子顕微鏡ならびに、高分解能電子顕
微鏡または集積回路テスタに使用しうる可変焦点距離レ
ンズを得ることが可能になるとともに、機械的調節をい
ずれにしても必要とせず、大型サンプルの検査および器
具の電子光学的特性の変更を可能になった。
第1図は本発明による可変焦点距離レンズ実施例の断面
図、第2.3.4図は第1図に示すレンズの誘導コイル
を通る励磁電流の関数としての磁束密度を示すグラフ、
第5図はレンズを通るサンプルに一次電子の集中を示す
光学的線図、第8a。 Bb図は本発明による可変焦点距離レンズの主要平面に
対する検出器の二つの位置を示す簡単化した図、第7図
は本発明による焦点距離可変レンズの主要平面の設定の
大きさを示す図である。 1・・・光学的軸線、2.3・・・コイル、4・・・磁
気回路、5、・・・(円筒)本体、6.7・・・極片、
8・・・間隙、9・・・支持体、10・・・孔、11・
・・支持体、12・・・前方部分、■3・・・内部、1
4・・・基部、15・・・間隙。 出願人代理人 佐 藤 −雄
図、第2.3.4図は第1図に示すレンズの誘導コイル
を通る励磁電流の関数としての磁束密度を示すグラフ、
第5図はレンズを通るサンプルに一次電子の集中を示す
光学的線図、第8a。 Bb図は本発明による可変焦点距離レンズの主要平面に
対する検出器の二つの位置を示す簡単化した図、第7図
は本発明による焦点距離可変レンズの主要平面の設定の
大きさを示す図である。 1・・・光学的軸線、2.3・・・コイル、4・・・磁
気回路、5、・・・(円筒)本体、6.7・・・極片、
8・・・間隙、9・・・支持体、10・・・孔、11・
・・支持体、12・・・前方部分、■3・・・内部、1
4・・・基部、15・・・間隙。 出願人代理人 佐 藤 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第2単極レンズに組み合わされた第1シールドレン
ズを有し、前記二つのレンズは両レンズに共通の光学軸
線に沿つて延びるまつたく同一の中心通路と交差し、第
1および第2レンズを通して観察する物体またはサンプ
ルとの間で往復する荷電粒子の通過を可能にし、各レン
ズは誘導コイルを備え合成複合レンズの光学軸線上の位
置を第1および第2レンズの誘導コイルの励磁電流の関
数としてシフトすることを特徴とする可変焦点距離複合
電磁レンズ。 2、観察される物体またはサンプルと第2レンズとの間
の作用距離は焦点距離が変化するとき多かれ少なかれ一
定である請求項1に記載のレンズ。 3、第1および第2レンズは共通の磁気回路に取付けら
れた第1誘導コイルおよび第2誘導コイルによつて励磁
される請求項1に記載のレンズ。 4、第1および第2レンズはその誘導場が最大である場
所で光学軸線上に位置し、第1および第2レンズ間の距
離が軸方向場曲線の中間高さにおける平均値に等しいか
それより小さく、軸方向場の直線的組み合わせの合成曲
線が第2の最大値を含まない請求項3に記載のレンズ。 5、ほゞ円筒形本体の内側に、第1レンズの磁気回路が
前方極片および環状間隙によつて分離された後方極片を
有する請求項4に記載のレンズ。 6、第1コイルが後方極片によつて支持された請求項5
に記載のレンズ。 7、第2レンズの磁気回路が前方極片、第2間隙および
前方極片を囲むほゞ円筒形本体の端部によつて構成され
た請求項5または6に記載のレンズ。 8、前方極片が截頭円錐形をなし第1コイル側面上にあ
つて第1コイルが環状間隙から離れて、截頭円錐内側の
後方極片端部に、前方部分内側に、係合しうる請求項6
または7に記載のレンズ。 9、第2間隙が前方極片の截頭円錐部分およびそれに面
する円筒形本体の部分に形成された二つのリップによつ
て画定される請求項7に記載のレンズ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8903674 | 1989-03-21 | ||
| FR8903674A FR2644930B1 (fr) | 1989-03-21 | 1989-03-21 | Lentille electromagnetique composite a focale variable |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02284340A true JPH02284340A (ja) | 1990-11-21 |
Family
ID=9379904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2071767A Pending JPH02284340A (ja) | 1989-03-21 | 1990-03-20 | 可変焦点距離複合電磁レンズ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5038045A (ja) |
| EP (1) | EP0389342A1 (ja) |
| JP (1) | JPH02284340A (ja) |
| FR (1) | FR2644930B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016143514A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 松定プレシジョン株式会社 | 荷電粒子線装置 |
| JP2023046921A (ja) * | 2021-09-24 | 2023-04-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5382888A (en) * | 1992-01-10 | 1995-01-17 | Thomson Tubes & Displays, S.A. | Focusing device with two dynamic windings for energy recovery |
| DE19634456A1 (de) * | 1996-08-26 | 1998-03-05 | Rainer Dr Spehr | Elektronenoptische Linsenanordnung mit spaltförmigem Öffnungsquerschnitt |
| US5729022A (en) * | 1996-09-26 | 1998-03-17 | Etec Systems, Inc. | Composite concentric-gap magnetic lens and deflector with conical pole pieces |
| EP0910108B1 (de) * | 1997-09-29 | 2004-11-24 | Advantest Corporation | Elektronenstrahl-Linse |
| US6362486B1 (en) * | 1998-11-12 | 2002-03-26 | Schlumberger Technologies, Inc. | Magnetic lens for focusing a charged particle beam |
| GB0912332D0 (en) * | 2009-07-16 | 2009-08-26 | Vg Systems Ltd | Magnetic lens,method for focussing charged particles and charged particle energy analyser |
| JP6815473B1 (ja) * | 2019-12-24 | 2021-01-20 | 株式会社アルバック | 電子銃装置及び蒸着装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2752598C3 (de) * | 1977-11-25 | 1981-10-15 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel | Verfahren zum Betrieb einer elektromagnetischen fokussierenden elektronen-optischen Linsenanordnung und Linsenanordnung hierfür |
| JPS57118357A (en) * | 1981-01-14 | 1982-07-23 | Jeol Ltd | Objective lens for scan type electron microscope |
| JPS5973840A (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-26 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡用対物レンズ |
| JPS5994350A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 電磁式対物レンズ |
| JPS6079653A (ja) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡等の対物レンズ |
-
1989
- 1989-03-21 FR FR8903674A patent/FR2644930B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-07 US US07/489,978 patent/US5038045A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-16 EP EP90400714A patent/EP0389342A1/fr not_active Ceased
- 1990-03-20 JP JP2071767A patent/JPH02284340A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016143514A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 松定プレシジョン株式会社 | 荷電粒子線装置 |
| JP2023046921A (ja) * | 2021-09-24 | 2023-04-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法 |
| US12400825B2 (en) | 2021-09-24 | 2025-08-26 | Nuflare Technology, Inc. | Multi-electron beam image acquisition apparatus, multi-electron beam inspection apparatus, and multi-electron beam image acquisition method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5038045A (en) | 1991-08-06 |
| EP0389342A1 (fr) | 1990-09-26 |
| FR2644930B1 (fr) | 1996-04-26 |
| FR2644930A1 (fr) | 1990-09-28 |
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