JPH02284939A - ポリオレフィン樹脂組成物 - Google Patents
ポリオレフィン樹脂組成物Info
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- JPH02284939A JPH02284939A JP1107018A JP10701889A JPH02284939A JP H02284939 A JPH02284939 A JP H02284939A JP 1107018 A JP1107018 A JP 1107018A JP 10701889 A JP10701889 A JP 10701889A JP H02284939 A JPH02284939 A JP H02284939A
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- JP
- Japan
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- catalyst
- polyolefin resin
- tert
- butyl
- compound
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/527—Cyclic esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は安定化されたポリオレフィン樹脂組成物に関し
、さらに詳しくは、ハロゲン含有マグネシウム化合物を
触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用い
て得られて未だ触媒残留物除去工程を経て居ない結晶性
ポリオレフィン樹脂の安定性を改善したポリオレフィン
樹脂組成物に関する。
、さらに詳しくは、ハロゲン含有マグネシウム化合物を
触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用い
て得られて未だ触媒残留物除去工程を経て居ない結晶性
ポリオレフィン樹脂の安定性を改善したポリオレフィン
樹脂組成物に関する。
ポリマー合成において、ハロゲン含有マグネシウム化合
物を触媒担体とすると、触媒の主成物である遷移金属(
たとえば、チタン)当りのポリマー収量が無担体の触媒
(たとえば、四塩化チタンを金属アルミニウムで還元し
て、さらに粉砕により活性化した三塩化チタン−塩化ア
ルミニウム混合物とジエチルアルミニウムモノクロライ
ドとを組合せた系)を使用した場合の収量に比べて数百
倍から数千倍も高(、しかも生成されたポリマーの結晶
性が高いため、触媒の除去(肌触)あるいは無定形ポリ
マーの抽出工程の不要な、新しい世代の触媒として脚光
を浴びつつある。
物を触媒担体とすると、触媒の主成物である遷移金属(
たとえば、チタン)当りのポリマー収量が無担体の触媒
(たとえば、四塩化チタンを金属アルミニウムで還元し
て、さらに粉砕により活性化した三塩化チタン−塩化ア
ルミニウム混合物とジエチルアルミニウムモノクロライ
ドとを組合せた系)を使用した場合の収量に比べて数百
倍から数千倍も高(、しかも生成されたポリマーの結晶
性が高いため、触媒の除去(肌触)あるいは無定形ポリ
マーの抽出工程の不要な、新しい世代の触媒として脚光
を浴びつつある。
このような新しい型の触媒の代表的な例としては、特開
昭47−9342号公報および特開昭50−12659
0号公報が挙げられる。
昭47−9342号公報および特開昭50−12659
0号公報が挙げられる。
しかしながら、このような担体担持触媒は、触媒の主成
分である遷移金属当りのポリマー収量は高いものの遷移
金属担持濃度が低いことに相当して担体当りのポリマー
収量が低い。
分である遷移金属当りのポリマー収量は高いものの遷移
金属担持濃度が低いことに相当して担体当りのポリマー
収量が低い。
従って無肌触ポリオレフィン樹脂には残留担体による悪
影響が出る。すなわち、担体に担持された遷移金属成分
の量は固体触媒成分当り1%以下から高々10%(重i
l)であるため、担体(マグネシウム化合物)当りのポ
リマー収量は数千ないし敵方程度にしかならず、そのた
め肌触処理を行わない場合には残存マグネシウム化合物
(通常はハロケン化マグネシウム)によって製品ポリマ
ーの熱安定性、臭気、色、腐食性、耐候性等が悪くなる
傾向がある。
影響が出る。すなわち、担体に担持された遷移金属成分
の量は固体触媒成分当り1%以下から高々10%(重i
l)であるため、担体(マグネシウム化合物)当りのポ
リマー収量は数千ないし敵方程度にしかならず、そのた
め肌触処理を行わない場合には残存マグネシウム化合物
(通常はハロケン化マグネシウム)によって製品ポリマ
ーの熱安定性、臭気、色、腐食性、耐候性等が悪くなる
傾向がある。
これらのポリオレフィン樹脂が成型されて、屋外使用末
端商品となりうることがらすれば、その耐候性が大きな
問題となる。
端商品となりうることがらすれば、その耐候性が大きな
問題となる。
そのため、例えば、ホスファイトなどの含リン化合物を
添加する方法(特開昭54−73842号公報)あるい
はハイドロタルサイト化合物を添加する方法(特開昭5
7−200433号公報)等が提案されたがまだ不充分
であり、これらの耐候性の改良が望まれていた。
添加する方法(特開昭54−73842号公報)あるい
はハイドロタルサイト化合物を添加する方法(特開昭5
7−200433号公報)等が提案されたがまだ不充分
であり、これらの耐候性の改良が望まれていた。
本発明者等は上記のような問題点を解決し、安定性の極
めて高いポリオレフィン樹脂を与えることを目的として
鋭意検討を重ねた結果、ハロゲン含有マグネシウム化合
物を触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を
用いて得られて、未だ触媒残留物除去工程を経て居ない
結晶性ポリオレフィン樹脂に対して、特定の有機ホスフ
ァイト化合物を配合することによって、安定性の極めて
優れたポリオレフィン樹脂組成物が得られることを知見
し本発明を完成するに至った。
めて高いポリオレフィン樹脂を与えることを目的として
鋭意検討を重ねた結果、ハロゲン含有マグネシウム化合
物を触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を
用いて得られて、未だ触媒残留物除去工程を経て居ない
結晶性ポリオレフィン樹脂に対して、特定の有機ホスフ
ァイト化合物を配合することによって、安定性の極めて
優れたポリオレフィン樹脂組成物が得られることを知見
し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、ハロゲン含有マグネシウム化合物を
触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用い
て得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶
性ポリオレフィン樹脂に、下記の一形成+I+で表され
る有機ホスファイト化合物を添加してなる安定化された
ポリオレフィン樹脂組成物を提供するものである。
触媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用い
て得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶
性ポリオレフィン樹脂に、下記の一形成+I+で表され
る有機ホスファイト化合物を添加してなる安定化された
ポリオレフィン樹脂組成物を提供するものである。
R。
(式中、R1は第三ブチル基または第三アミル基を示し
、R2は炭素原子数1〜9のアルキル基を示し、R1は
水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、
R4は炭素原子数1〜30のアルキル基または置換され
てもよいアリール基を示す。) 上記−形成(■)において、R2で表される炭素原子数
1〜9のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第ニブチル、第三ブチル、
イソブチル、アミル、第三アミル、フキシル、ヘプチル
、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、第三
オクチル、ノニル、第三ノニル等があげられ、P、で表
される炭素原子数1〜4のアルキル基としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第ニブチ
ル、第三ブチル、イソブチル等があげられ、また、R4
で表される炭素原子数1〜30のアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第
ニブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2
−エチルヘキシル、第三オクチル、ノニル、第三ノニル
、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキ
サデシル、オクタデシル、エイコシル、トコシル、テト
ラデシル、トリアコンチル等があげられ、アリール基と
してはフェニル、4−メチルフェニル、2−ヒドロキシ
フェニル、4−ヒドロキシフェニル、3−メチル−4−
ヒドロキシフェニル、3,5−ジ第三メチルー4−ヒド
ロキシフェニル、3−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル、3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−6−メチルフ
ェニル等があげられる。
、R2は炭素原子数1〜9のアルキル基を示し、R1は
水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、
R4は炭素原子数1〜30のアルキル基または置換され
てもよいアリール基を示す。) 上記−形成(■)において、R2で表される炭素原子数
1〜9のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第ニブチル、第三ブチル、
イソブチル、アミル、第三アミル、フキシル、ヘプチル
、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、第三
オクチル、ノニル、第三ノニル等があげられ、P、で表
される炭素原子数1〜4のアルキル基としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第ニブチ
ル、第三ブチル、イソブチル等があげられ、また、R4
で表される炭素原子数1〜30のアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第
ニブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2
−エチルヘキシル、第三オクチル、ノニル、第三ノニル
、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキ
サデシル、オクタデシル、エイコシル、トコシル、テト
ラデシル、トリアコンチル等があげられ、アリール基と
してはフェニル、4−メチルフェニル、2−ヒドロキシ
フェニル、4−ヒドロキシフェニル、3−メチル−4−
ヒドロキシフェニル、3,5−ジ第三メチルー4−ヒド
ロキシフェニル、3−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル、3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−6−メチルフ
ェニル等があげられる。
次に、本発明で用いられる上記一般式+1+で表される
ホスファイト化合物の代表例としては、次に示す化合物
があげられる。
ホスファイト化合物の代表例としては、次に示す化合物
があげられる。
−C4H9
t−C4)1゜
4H9
−C4Hw
t−CsH++
t−CaH*
上記有機ホスファイト化合物は、例えば、三塩化リンと
2,2′−アルキリデンビスフェノールとを反応させて
、上記一般式においてR4−0−が塩素原子である化合
物を合成し、これとR,OHで表されるアルコールとを
反応させることによって容易に製造することができる。
2,2′−アルキリデンビスフェノールとを反応させて
、上記一般式においてR4−0−が塩素原子である化合
物を合成し、これとR,OHで表されるアルコールとを
反応させることによって容易に製造することができる。
次に本発明で用いられる有機ホスファイト化合物の具体
的な合成例を示す。
的な合成例を示す。
〈合成例〉
t−C4H*
500 dの4つ目フラスコに、42.5 gの2,2
゛−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフエノール)
、トルエン100gおよびトリエチルアミン0.86
gを仕込み、撹拌しなから三塩化リン16.5 gを6
0〜65°Cで滴下した。滴下終了後、窒素気流下で徐
々に昇温し、還流下に2時間撹拌した。
゛−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフエノール)
、トルエン100gおよびトリエチルアミン0.86
gを仕込み、撹拌しなから三塩化リン16.5 gを6
0〜65°Cで滴下した。滴下終了後、窒素気流下で徐
々に昇温し、還流下に2時間撹拌した。
減圧下に過剰の三塩化リンを留去し、60°Cに冷却し
た後、トリエチルアミン12.1gおよびステアリルア
ルコール27gを加え、80”Cで4時間撹拌した。冷
却後、生成したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、溶媒
を留去した。
た後、トリエチルアミン12.1gおよびステアリルア
ルコール27gを加え、80”Cで4時間撹拌した。冷
却後、生成したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、溶媒
を留去した。
残留物をメタノールから晶析し、融点65°Cの白色粉
末の生成物(I−5化合物)を得た。この化合物のIR
スペクトル及びH’−NMRスペクトルによる分析デー
タを以下に示す。
末の生成物(I−5化合物)を得た。この化合物のIR
スペクトル及びH’−NMRスペクトルによる分析デー
タを以下に示す。
I R(cm−’)
2925、2850 メチレン
1230、1200 第三ブチル
1100 −0−フェニル
1020 P −0−アルキル840
P −0−フェニル H’−NMR(CDCIs中、60 MHz、 7MS
基準)δ値; 0.8 : 3H,t 、メチル
基(ステアリル基末端) 1.2〜1.3 : 73H、sss 、第三ブチル基
およびステアリル基 3.2〜4.4 : 4H,dd、メチレン基および一
〇−C1,− 7,2: 48Ss、芳香族水素 これらの有機ボスファイト化合物の添加量はポリオレフ
ィン樹脂100重量部に対し、0.001〜10ffi
−1部、好ましくは0.01〜3重量部である。
P −0−フェニル H’−NMR(CDCIs中、60 MHz、 7MS
基準)δ値; 0.8 : 3H,t 、メチル
基(ステアリル基末端) 1.2〜1.3 : 73H、sss 、第三ブチル基
およびステアリル基 3.2〜4.4 : 4H,dd、メチレン基および一
〇−C1,− 7,2: 48Ss、芳香族水素 これらの有機ボスファイト化合物の添加量はポリオレフ
ィン樹脂100重量部に対し、0.001〜10ffi
−1部、好ましくは0.01〜3重量部である。
本発明に用いられる触媒は、チーグラー型コンプレック
ス触媒、すなわち、周期律表第■〜第■族遷移金属化合
物と周期律表第■〜■族金属の有機金属化合物との組合
せより生成するコンプレックス触媒において、前者がハ
ロゲン含有マグネシウム化合物上に担持されているもの
である。
ス触媒、すなわち、周期律表第■〜第■族遷移金属化合
物と周期律表第■〜■族金属の有機金属化合物との組合
せより生成するコンプレックス触媒において、前者がハ
ロゲン含有マグネシウム化合物上に担持されているもの
である。
ここで「触媒担体とする」あるいは「担持する」とは、
遷移金属化合物がハロゲン含有マグネシウム化合物上に
単に物理的に載っている場合だけでなく両者が物理的、
物理化学的あるいは化学的な相互作用または結合をなし
ている場合をも包含するものであり、またハロゲン含有
マグネシウム化合物が何らかの触媒作用をしている場合
を排除するものではない。
遷移金属化合物がハロゲン含有マグネシウム化合物上に
単に物理的に載っている場合だけでなく両者が物理的、
物理化学的あるいは化学的な相互作用または結合をなし
ている場合をも包含するものであり、またハロゲン含有
マグネシウム化合物が何らかの触媒作用をしている場合
を排除するものではない。
チーグラー型コンプレックス触媒に用いられる遷移金属
の代表的な例としては、°チタンおよびバナジウムが挙
げられる。これらは最高原子価または還元された状態で
使用され、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、アルコ
キシド、アルコキシハロゲン化物等、個々の金属にとっ
て触媒性能上量も好ましい化合物の形として使用するこ
とができる。その遷移金属化合物の具体例としては、四
塩化チタン、三塩化チタン、二塩化チタン、テトラブト
キシチタン、トリブトキシチタンクロライド、ジブトキ
シチタンジクロライド、四塩化バナジウム、バナジウム
オキシクロライド、バナジウムトリクロライド等があげ
られる。これらは、単独で使用することは勿論のこと、
または二種以上を組合せて使用することもできる。
の代表的な例としては、°チタンおよびバナジウムが挙
げられる。これらは最高原子価または還元された状態で
使用され、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、アルコ
キシド、アルコキシハロゲン化物等、個々の金属にとっ
て触媒性能上量も好ましい化合物の形として使用するこ
とができる。その遷移金属化合物の具体例としては、四
塩化チタン、三塩化チタン、二塩化チタン、テトラブト
キシチタン、トリブトキシチタンクロライド、ジブトキ
シチタンジクロライド、四塩化バナジウム、バナジウム
オキシクロライド、バナジウムトリクロライド等があげ
られる。これらは、単独で使用することは勿論のこと、
または二種以上を組合せて使用することもできる。
一方、有機金属化合物の代表例としては、アルキルアル
ミニウム化合物、特にトリアルキルアルミニウム、ジア
ルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムハ
ライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジアル
キルアルミニウムハイドライド、アルキルアルミニウム
シバイドライド(アルキル基はC+””Cm程度、ハロ
ゲンは塩素、臭素、よう素が好ましい)等が挙げられる
。
ミニウム化合物、特にトリアルキルアルミニウム、ジア
ルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムハ
ライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジアル
キルアルミニウムハイドライド、アルキルアルミニウム
シバイドライド(アルキル基はC+””Cm程度、ハロ
ゲンは塩素、臭素、よう素が好ましい)等が挙げられる
。
具体的には、たとえば、トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリーn−プロピルアルミニウム
、トリーn−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアル
ミニウム、トリーn−ヘキシルアルミニウム、トリーn
−オクチルアルミニウム:ジエチルアルミニウムクロラ
イド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニ
ウムジクロライド:エチルアルミニウムセスキクロライ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等がある。
エチルアルミニウム、トリーn−プロピルアルミニウム
、トリーn−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアル
ミニウム、トリーn−ヘキシルアルミニウム、トリーn
−オクチルアルミニウム:ジエチルアルミニウムクロラ
イド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニ
ウムジクロライド:エチルアルミニウムセスキクロライ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等がある。
担体としての好ましいハロゲン含有マグネシウム化合物
としては、オキシマグネシウムハロゲニド、オキシマグ
ネシウムハロゲニドをアルキルアルミニウムハライド(
たとえば、エチルアルミニウムジクロライド)で処理し
てその一部がジハロゲン化マグムシウムを各種の電子供
与化合物で処理して錯体化したもの等があげられる。
としては、オキシマグネシウムハロゲニド、オキシマグ
ネシウムハロゲニドをアルキルアルミニウムハライド(
たとえば、エチルアルミニウムジクロライド)で処理し
てその一部がジハロゲン化マグムシウムを各種の電子供
与化合物で処理して錯体化したもの等があげられる。
また、触媒担体となる化合物がハロゲン含量の少ない、
あるいはハロゲンを含まないものであっても、触媒成分
の有機金属化合物中にハロゲンを含有するものを使用し
てポリオレフィン樹脂を得て本発明に用いれば、生成し
たポリマーの耐候性の向上効果が期待できる。
あるいはハロゲンを含まないものであっても、触媒成分
の有機金属化合物中にハロゲンを含有するものを使用し
てポリオレフィン樹脂を得て本発明に用いれば、生成し
たポリマーの耐候性の向上効果が期待できる。
遷移金属触媒成分をハロゲン含有マグネシウム化合物担
体上に担持するには、両者をボールミル等の粉砕装置に
より共粉砕する方法、前者が液状の状態のとき(それ自
身で、あるいは溶媒たとえば炭化水素、ハロゲン化炭化
水素等による溶液として)に後者を分散させる方法、あ
るいは両者を適当な共通溶媒する方法、その他既知ない
し利用可能な任意の方法で実施することができる。
体上に担持するには、両者をボールミル等の粉砕装置に
より共粉砕する方法、前者が液状の状態のとき(それ自
身で、あるいは溶媒たとえば炭化水素、ハロゲン化炭化
水素等による溶液として)に後者を分散させる方法、あ
るいは両者を適当な共通溶媒する方法、その他既知ない
し利用可能な任意の方法で実施することができる。
触媒性能向上の目的で、各種の電子供与性化合物を触媒
製造の任意の段階で任意の触媒成分と任意の方法で組合
せることもできる。代表的な例としては、N、 N、
N”Nl−テトラメチルエチレンジアミンを四塩化チタ
ンと反応させて1:1の分子化合物を予めつくって、こ
れを無水塩化マグネシウムと共にミル中で粉砕したもの
(a)とトリエチルアルミニウムと安息香酸エチルを予
め反応させて得られる生成物Q))とを組合せプロピレ
ン重合用触媒を得る方法(特開昭48−16986号公
報)、あるいは無水塩化マグネシウムと安息香酸エチル
をボールミル中で共粉砕し、次いでこの粉砕生成物を四
塩化チタン中に懸濁させて四塩化チタンを塩化マグネシ
ウム上に担持させ、これをヘキサンで処理して非担持四
塩化チタンを洗い去って固体触媒成分をつくり、これを
トリエチルアルミニウムと組合せプロピレン重合用触媒
を得る方法(特開昭50−126590号公報)等があ
る。
製造の任意の段階で任意の触媒成分と任意の方法で組合
せることもできる。代表的な例としては、N、 N、
N”Nl−テトラメチルエチレンジアミンを四塩化チタ
ンと反応させて1:1の分子化合物を予めつくって、こ
れを無水塩化マグネシウムと共にミル中で粉砕したもの
(a)とトリエチルアルミニウムと安息香酸エチルを予
め反応させて得られる生成物Q))とを組合せプロピレ
ン重合用触媒を得る方法(特開昭48−16986号公
報)、あるいは無水塩化マグネシウムと安息香酸エチル
をボールミル中で共粉砕し、次いでこの粉砕生成物を四
塩化チタン中に懸濁させて四塩化チタンを塩化マグネシ
ウム上に担持させ、これをヘキサンで処理して非担持四
塩化チタンを洗い去って固体触媒成分をつくり、これを
トリエチルアルミニウムと組合せプロピレン重合用触媒
を得る方法(特開昭50−126590号公報)等があ
る。
上記触媒によって得られて本発明になるポリオレフィン
樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、その他の結
晶性ホモポリオレフィンの外に、オレフィン相互または
オレフィンと他の共重合可能な単量体との共重合体、た
とえばエチレン−プロピレン共重合体があげられる。こ
のようなポリオレフィン樹脂の重合方式は任意であって
、溶液中の懸濁重合、液化モノマー中での懸濁重合、モ
ノマーがガス状で存在する条件下で希釈を使用しないで
行なう気相重合法等があげられる。
樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、その他の結
晶性ホモポリオレフィンの外に、オレフィン相互または
オレフィンと他の共重合可能な単量体との共重合体、た
とえばエチレン−プロピレン共重合体があげられる。こ
のようなポリオレフィン樹脂の重合方式は任意であって
、溶液中の懸濁重合、液化モノマー中での懸濁重合、モ
ノマーがガス状で存在する条件下で希釈を使用しないで
行なう気相重合法等があげられる。
本発明になるポリオレフィン樹脂は、上記のような触媒
によって得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていな
いものである。
によって得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていな
いものである。
本発明でいう[触媒残留物除去工程]とは、重合により
得られたポリオレフィン樹脂中に含まれる触媒残渣を積
極的に除去するために、アルコール類や水のように触媒
と反応してこれを不活性化しあるいは可溶化する化合物
でこのポリオレフィンを処理し、次いでろ過、洗浄、遠
心分離等の物理的手段によって不活性化ないし可溶他剤
触媒を除去する工程を意味する。
得られたポリオレフィン樹脂中に含まれる触媒残渣を積
極的に除去するために、アルコール類や水のように触媒
と反応してこれを不活性化しあるいは可溶化する化合物
でこのポリオレフィンを処理し、次いでろ過、洗浄、遠
心分離等の物理的手段によって不活性化ないし可溶他剤
触媒を除去する工程を意味する。
従って、懸濁重合の際の分散媒(溶媒または液化上ツマ
−)から生成ポリマーを分離する段階は、分散媒溶存溶
媒の除去が行われるかも知れないとしても本発明でいう
触媒残留物除去工程には該当しない。また、重合後に触
媒を不活性化するために生成ポリマーにエーテル、アル
コール、ケトン、エステル、水等の触媒毒を少量添加し
たり、分散媒を除去するため生成ポリマー懸濁液を水蒸
気や窒素等のガスで処理する工程も本発明でいう触媒残
留物除去工程には該当しない。
−)から生成ポリマーを分離する段階は、分散媒溶存溶
媒の除去が行われるかも知れないとしても本発明でいう
触媒残留物除去工程には該当しない。また、重合後に触
媒を不活性化するために生成ポリマーにエーテル、アル
コール、ケトン、エステル、水等の触媒毒を少量添加し
たり、分散媒を除去するため生成ポリマー懸濁液を水蒸
気や窒素等のガスで処理する工程も本発明でいう触媒残
留物除去工程には該当しない。
従って、本発明で使用される「未だ触媒残留物除去工程
を経ていない結晶性ポリオレフィン」とは、使用した触
媒中のマグネシウム化合物の実質的部分が残存している
ようなポリオレフィンである。
を経ていない結晶性ポリオレフィン」とは、使用した触
媒中のマグネシウム化合物の実質的部分が残存している
ようなポリオレフィンである。
前述した無肌触ポリオレフィン樹脂に有機ホスファイト
化合物を添加する方法は特に制限を受けず、一般に用い
られる方法をそのまま適用することができる。
化合物を添加する方法は特に制限を受けず、一般に用い
られる方法をそのまま適用することができる。
たとえば、重合直後に未反応モノマー(および重合方式
によっては分散媒)を含むポリマーに必要配合成分を添
加する方法、未反応モノマーや分散媒を除去した段階で
添加する方法、粉末状で得られた乾燥ポリマーを造粒す
る段階で添加する方法等があげられる。添加後、ポリオ
レフィン樹脂が流動可能な温度で混練して均一組成物と
するのが普通である。
によっては分散媒)を含むポリマーに必要配合成分を添
加する方法、未反応モノマーや分散媒を除去した段階で
添加する方法、粉末状で得られた乾燥ポリマーを造粒す
る段階で添加する方法等があげられる。添加後、ポリオ
レフィン樹脂が流動可能な温度で混練して均一組成物と
するのが普通である。
本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を−層改善することもで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては例えば、2,
6−第三ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフェニル
−4−オクタデシルオキシフェノール、ジステアリル(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)ホス
ホネート、4.4’−チオビス(6−第三ブチル−I−
クレゾール)、2−オクチルチオ−4,6−ジ(3”5
1−ジヒドロキシフェノキシ) −S−トリアジン、2
,2°−メチレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフ
ェノール) 、2,2”−メチレンビス(4−エチル−
6−第三ブチルフェノール)、ビス[3,3−ビス(4
°−ヒドロキシ−3°−第三メチルフェニル)ブチリッ
クアシッド]グリコールエステル、4.4”−ブチリデ
ンビス(6−第三ブチル−m−クレゾール) 、2,2
”−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフエノール
) 、2.2”−エチリデンビス(4−第二ブチル−6
−第三ブチルフェノール)、2−第三ブチル−4−メチ
ル−6−(2’−アクリロイルオキシ−31−第三ブチ
ル−5′−メチルベンジル)フェノール、ビス[2−第
三ブチル−4−メチル−6−(2°−ヒドロキシ、−・
3−第三ブチル−5′−メチルベンジル)フェニル1テ
レフタレ−4,3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニルプロピオン酸オクタデシルエステル、テトラキ
ス(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)
プロピオン酸メチル)メタン、LL3− トリス(2″
−メチル−4゛−ヒドロキシ−5°−第三ブチルフェニ
ル)ブタン、1.3.5− トリス(2”、6“−ジメ
チル−3°−ヒドロキシ−4°−第三ブチルベンジル)
イソシアヌレート、1,3.5− )リス(3”、5°
−ジ第三ブチルー4°−ヒドロキシベンジル)イソシア
ヌレート、1.3.5− トリス(3’、5’−ジ第三
ブチルー4°−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−)
リメチルベンゼン等があげられる。
ることによってその酸化安定性を−層改善することもで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては例えば、2,
6−第三ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフェニル
−4−オクタデシルオキシフェノール、ジステアリル(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)ホス
ホネート、4.4’−チオビス(6−第三ブチル−I−
クレゾール)、2−オクチルチオ−4,6−ジ(3”5
1−ジヒドロキシフェノキシ) −S−トリアジン、2
,2°−メチレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフ
ェノール) 、2,2”−メチレンビス(4−エチル−
6−第三ブチルフェノール)、ビス[3,3−ビス(4
°−ヒドロキシ−3°−第三メチルフェニル)ブチリッ
クアシッド]グリコールエステル、4.4”−ブチリデ
ンビス(6−第三ブチル−m−クレゾール) 、2,2
”−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフエノール
) 、2.2”−エチリデンビス(4−第二ブチル−6
−第三ブチルフェノール)、2−第三ブチル−4−メチ
ル−6−(2’−アクリロイルオキシ−31−第三ブチ
ル−5′−メチルベンジル)フェノール、ビス[2−第
三ブチル−4−メチル−6−(2°−ヒドロキシ、−・
3−第三ブチル−5′−メチルベンジル)フェニル1テ
レフタレ−4,3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニルプロピオン酸オクタデシルエステル、テトラキ
ス(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)
プロピオン酸メチル)メタン、LL3− トリス(2″
−メチル−4゛−ヒドロキシ−5°−第三ブチルフェニ
ル)ブタン、1.3.5− トリス(2”、6“−ジメ
チル−3°−ヒドロキシ−4°−第三ブチルベンジル)
イソシアヌレート、1,3.5− )リス(3”、5°
−ジ第三ブチルー4°−ヒドロキシベンジル)イソシア
ヌレート、1.3.5− トリス(3’、5’−ジ第三
ブチルー4°−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−)
リメチルベンゼン等があげられる。
本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。
化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては例えば、チオジプロピオン
酸のジラウリル、シミリスチル、ジステアリルエステル
等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリ
スリトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロビオネ
ート)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピ
オン酸エステル類があげられる。
酸のジラウリル、シミリスチル、ジステアリルエステル
等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリ
スリトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロビオネ
ート)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピ
オン酸エステル類があげられる。
本発明の組成物に、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン化
合物等の光安定剤を添加することによってその耐光性を
一層改善することができる。
合物等の光安定剤を添加することによってその耐光性を
一層改善することができる。
この光安定剤としては例えば、2,4−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノ
ン、5□5゛−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン類;2−(2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロキシ−5
°−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2“−ヒドロキシ−3”5+−ジ第三ブチルフェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3°
、5゛−ジ第三ブチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′−第三プチ
ル−5゛−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2”−ヒドロキシ−3″、5゛−ジクミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2.2″−メチレン
ビス(4−第三オクチルー6−ベンゾトリアゾリル)フ
ェノール等の2(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール類;フェニルサリシレート、レゾルシノール
モノベンゾエート、2.4−ジ第三ブチルフェニル−3
′、5゜−ジ第三ブチル−4”−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル−3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロ
キシベンゾエート等のベンゾエート類;2−エチル−2
”−エトキシオキザニリド、2−エトキシ−4′ドデシ
ルオキザニリド等の置換オキザニリド類;エチルーα−
シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート、メチル−2
−シアノ−3−メチル−3−p−メトキシフェニル)ア
クリレート等のシアノアクリレート類、2,2,6.6
−テトラメチル−4−ピペリジルステアレート、1.2
,2,6.6−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレ
ート、2,2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジル
ベンゾエート、ビス(2,26,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ベンタメチルー4−ピペリジル)セバケート、テトラ
キス(2,2;6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2
,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)−1,
2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1
,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)・
ジ(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチ
ルー4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジツール/コハク酸ジエチル重縮合物
、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン重縮合物
、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−
第三オクチルアミノ−5−)リアジン重縮合物、1.6
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルアミノ)ヘキサン/2.4−ジクロロ−6−モルホリ
ノ−8−トリアジン重縮合物等のヒンダードアミン化合
物があげられる。
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノ
ン、5□5゛−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン類;2−(2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロキシ−5
°−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2“−ヒドロキシ−3”5+−ジ第三ブチルフェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3°
、5゛−ジ第三ブチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′−第三プチ
ル−5゛−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2”−ヒドロキシ−3″、5゛−ジクミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2.2″−メチレン
ビス(4−第三オクチルー6−ベンゾトリアゾリル)フ
ェノール等の2(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール類;フェニルサリシレート、レゾルシノール
モノベンゾエート、2.4−ジ第三ブチルフェニル−3
′、5゜−ジ第三ブチル−4”−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル−3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロ
キシベンゾエート等のベンゾエート類;2−エチル−2
”−エトキシオキザニリド、2−エトキシ−4′ドデシ
ルオキザニリド等の置換オキザニリド類;エチルーα−
シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート、メチル−2
−シアノ−3−メチル−3−p−メトキシフェニル)ア
クリレート等のシアノアクリレート類、2,2,6.6
−テトラメチル−4−ピペリジルステアレート、1.2
,2,6.6−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレ
ート、2,2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジル
ベンゾエート、ビス(2,26,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ベンタメチルー4−ピペリジル)セバケート、テトラ
キス(2,2;6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2
,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)−1,
2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1
,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)・
ジ(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチ
ルー4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジツール/コハク酸ジエチル重縮合物
、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン重縮合物
、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−
第三オクチルアミノ−5−)リアジン重縮合物、1.6
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルアミノ)ヘキサン/2.4−ジクロロ−6−モルホリ
ノ−8−トリアジン重縮合物等のヒンダードアミン化合
物があげられる。
その他必要に応じて、本発明の組成物には重合属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、顔料、充填剤、有機錫化合
物、可製剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
化剤、造核剤、金属石けん、顔料、充填剤、有機錫化合
物、可製剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
[発明の効果]
本発明によれば、ハロゲン含をマグネシウム化合物を触
媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用いて
得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性
ポリオレフィン樹脂を用いて安定性の改善されたポリオ
レフィン樹脂組成物を得ることができる。
媒担体とするチーグラー型コンプレックス触媒を用いて
得られて、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性
ポリオレフィン樹脂を用いて安定性の改善されたポリオ
レフィン樹脂組成物を得ることができる。
従って本発明の組成物を使用した成型物は、その熱安定
性、臭気、色、腐食性、耐候性等の諸性質、特に耐候性
において優れたものを得ることができる。
性、臭気、色、腐食性、耐候性等の諸性質、特に耐候性
において優れたものを得ることができる。
次に本発明を実施例によって具体的に説明する。
しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制限を
受けるものではない。
受けるものではない。
実施例 1
重合後、未だ触媒残留物除去工程を経ていない高密度ポ
リエチレン(Ti:4、^l:51、Mg:3、Si:
42ppm含有)100重量部に、3,5−ジ第三ブチ
ル4−ヒドロキシフェニルプロピオン酸オクタデシルエ
ステル(抗酸化剤)、および表−1に示す有機ホスファ
イト化合物または下記に示した比較有機ホスファイトA
−Cを各々0.1重量部添加し、充分に混合した。
リエチレン(Ti:4、^l:51、Mg:3、Si:
42ppm含有)100重量部に、3,5−ジ第三ブチ
ル4−ヒドロキシフェニルプロピオン酸オクタデシルエ
ステル(抗酸化剤)、および表−1に示す有機ホスファ
イト化合物または下記に示した比較有機ホスファイトA
−Cを各々0.1重量部添加し、充分に混合した。
次いでこれらの組成物を樹脂温度250°Cで通常の押
出機によってベレット化し、さらに250″Cで射出成
型して、厚さ1mmの試験片を作成した。
出機によってベレット化し、さらに250″Cで射出成
型して、厚さ1mmの試験片を作成した。
この試験片を用いて、熱安定性、色相の変化および耐候
性を下記の方法にて評価した。
性を下記の方法にて評価した。
その結果を表−1に示す。
試験片を150°Cのギヤーオーブンに入れ、劣化する
までの時間を測定した(熱安定性)。
までの時間を測定した(熱安定性)。
また、72時間加熱後の試験片の色相変化をハンター比
色計で測定し、その黄邑度によって表した。
色計で測定し、その黄邑度によって表した。
試験片をウェザ−メーターに入れ、63°Cで100時
間照射後の試験片の白色度をハンター比色計で測定した
。
間照射後の試験片の白色度をハンター比色計で測定した
。
*比較有機ホスファイト
比較ホスファイト Aニ
トリス(ノニルフェニル)ホスファイト比較ホスファイ
ト B: 4.4”−ブチリデンビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェニル・ジトリデシルホスファイト)比較ホスファ
イト Cニ ジステアリル・ペンタエリスリトールジホスファイト 実施例 2 重合後、未だ触媒残留物除去工程を経ていない低密度エ
チレン・ブテン−1共重合体(Ti:3、Al:82、
門g:4、Siニア6ppm含有)100重量部にテト
ラキス(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸メチル)メタン(抗酸化剤)、および
表−2に示す有機ホスファイト化合物または実施例1と
同じ比較有機ホスファイトA−Cを各々061重量部添
加し、充分に混合した。
ト B: 4.4”−ブチリデンビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェニル・ジトリデシルホスファイト)比較ホスファ
イト Cニ ジステアリル・ペンタエリスリトールジホスファイト 実施例 2 重合後、未だ触媒残留物除去工程を経ていない低密度エ
チレン・ブテン−1共重合体(Ti:3、Al:82、
門g:4、Siニア6ppm含有)100重量部にテト
ラキス(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸メチル)メタン(抗酸化剤)、および
表−2に示す有機ホスファイト化合物または実施例1と
同じ比較有機ホスファイトA−Cを各々061重量部添
加し、充分に混合した。
次いで、これらの組成物を樹脂温度190°Cで通常の
押出機によってペレット化して、さらに190°Cで射
出成型し、厚さIIIIIllの試験片を作成した。
押出機によってペレット化して、さらに190°Cで射
出成型し、厚さIIIIIllの試験片を作成した。
この試験片を用いて、実施例1と同様の試験を行なった
。なお、色相変化(熱着色性)は144時間加熱後の試
験片の黄色度を測定した。
。なお、色相変化(熱着色性)は144時間加熱後の試
験片の黄色度を測定した。
その結果を表−2に示す。
実施例3
重合後、未だ触媒残留物除去工程を経ていないポリプロ
ピレン(Ti:4、Al:13、Mg:69 ppm含
有)100重量部に1.3.5−トリス(3’、5”−
ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート(抗酸化剤)、および表−3に示す有機ホスファイ
ト化合物または実施例1と同じ比較有機ホスファイトA
〜Cを各々0.1重量部、およびステアリン酸カルシウ
ム0.05重量部を添加し、充分混合した。
ピレン(Ti:4、Al:13、Mg:69 ppm含
有)100重量部に1.3.5−トリス(3’、5”−
ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート(抗酸化剤)、および表−3に示す有機ホスファイ
ト化合物または実施例1と同じ比較有機ホスファイトA
〜Cを各々0.1重量部、およびステアリン酸カルシウ
ム0.05重量部を添加し、充分混合した。
次いで、これらの組成物を樹脂温度250°Cで通常の
押出機によってペレット化し、さらに250’Cで射出
成型して、厚さ1111II+の試験片を作成した。
押出機によってペレット化し、さらに250’Cで射出
成型して、厚さ1111II+の試験片を作成した。
この試験片を用いて、実施例1と同様の試験を行なった
。なお、色相変化(熱着色性)は1ooo時間加熱後の
試験片の黄色度を測定した。
。なお、色相変化(熱着色性)は1ooo時間加熱後の
試験片の黄色度を測定した。
その結果を表−3に示す。
実施例4
重合後、未だ触媒残留物除去工程を経ていないポリプロ
ピレン(Ti:4、A1:13、Mg:270 ppm
含有)100重量部に3.5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシフェニルプロピオン酸オクタデシルエステル(抗
酸化剤)0.1重量部、及び表−4に示す有機ホスファ
イト化合物または実施例1と同じ比較有機ホスファイト
A−Cを各々0.15重量部、およびステアリン酸カル
シウム0.05重量部を添加し、充分混合した。
ピレン(Ti:4、A1:13、Mg:270 ppm
含有)100重量部に3.5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシフェニルプロピオン酸オクタデシルエステル(抗
酸化剤)0.1重量部、及び表−4に示す有機ホスファ
イト化合物または実施例1と同じ比較有機ホスファイト
A−Cを各々0.15重量部、およびステアリン酸カル
シウム0.05重量部を添加し、充分混合した。
次いで、これらの組成物を樹脂温度250°Cで通常の
押出機によってペレット化し、さらに250°Cで射出
成型して、厚さ1mmの試験片を°作成した。
押出機によってペレット化し、さらに250°Cで射出
成型して、厚さ1mmの試験片を°作成した。
この試験片を用いて、実施例3と同様の試験を行なった
。
。
その結果を表−4に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ハロゲン含有マグネシウム化合物を触媒担体とする
チーグラー型コンプレックス触媒を用いて得られて、未
だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性ポリオレフィ
ン樹脂に、下記の一般式( I )で表される有機ホスフ
ァイト化合物を添加してなる安定化されたポリオレフィ
ン樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は第三ブチル基または第三アミル基を示
し、R_2は炭素原子数1〜9のアルキル基を示し、R
_3は水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を
示し、R_4は炭素原子数1〜30のアルキル基または
置換されてもよいアリール基を示す。)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1107018A JP2774309B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | ポリオレフィン樹脂組成物 |
| KR1019900005820A KR920011029B1 (ko) | 1989-04-26 | 1990-04-25 | 폴리올레핀 수지조성물 |
| EP90107887A EP0395030A1 (en) | 1989-04-26 | 1990-04-25 | Polyolefin resins containing ziegler type complex catalyst residues stabilized with organic phosphites |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1107018A JP2774309B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | ポリオレフィン樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02284939A true JPH02284939A (ja) | 1990-11-22 |
| JP2774309B2 JP2774309B2 (ja) | 1998-07-09 |
Family
ID=14448427
Family Applications (1)
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Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5473842A (en) * | 1977-11-25 | 1979-06-13 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Polyolefin resin composition |
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Also Published As
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