JPH02285089A - めゅき処理法 - Google Patents
めゅき処理法Info
- Publication number
- JPH02285089A JPH02285089A JP10699589A JP10699589A JPH02285089A JP H02285089 A JPH02285089 A JP H02285089A JP 10699589 A JP10699589 A JP 10699589A JP 10699589 A JP10699589 A JP 10699589A JP H02285089 A JPH02285089 A JP H02285089A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- bellows
- base metal
- film
- tin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 21
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 abstract 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 abstract 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 abstract 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L stannous sulfate Chemical compound [SnH2+2].[O-]S([O-])(=O)=O RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910000375 tin(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はめっき処理法に係り、特に、耐真空性が要求さ
れる金属被覆におけるピンホール等の欠陥部を改善する
ための方法に関し、電鋳製法から得られるめっきの薄膜
を利用したセンサーに適用するのに好適なめっき処理法
に関する。
れる金属被覆におけるピンホール等の欠陥部を改善する
ための方法に関し、電鋳製法から得られるめっきの薄膜
を利用したセンサーに適用するのに好適なめっき処理法
に関する。
〔従来の技術]
現在、電鋳製法から得られるめつきの薄膜を利用したセ
ンサーが各用途に使用されており、このセンサーの例と
して第2図に示す電着ベローズがある。
ンサーが各用途に使用されており、このセンサーの例と
して第2図に示す電着ベローズがある。
この電着ベローズは、アルミニウムまたは樹脂等の材質
からなる中子の表面に前処理を施し、ニッケルめっきを
膜厚1o〜20am程度析出させ、その後、適当な溶剤
、例えば苛性ソーダの液を煮沸させて中子を溶解し、ニ
ッケル被膜のみを取り出すことによって製造される。
からなる中子の表面に前処理を施し、ニッケルめっきを
膜厚1o〜20am程度析出させ、その後、適当な溶剤
、例えば苛性ソーダの液を煮沸させて中子を溶解し、ニ
ッケル被膜のみを取り出すことによって製造される。
このようにして得られる電着、ベローズからなるセンサ
ーの用途は、多方面にわたるが、多くの要求仕様として
は、バネ定数10〜20g 、/a+m、 Heリー
ク値I X 10−’A−CC/sec以下の非常に厳
しい要求が多い。
ーの用途は、多方面にわたるが、多くの要求仕様として
は、バネ定数10〜20g 、/a+m、 Heリー
ク値I X 10−’A−CC/sec以下の非常に厳
しい要求が多い。
すなわち、電着ベローズからなるセンサーは、ベローズ
の部分は薄り、柔軟性があり、He等の気体の浸透漏れ
を起こすようなわずかな孔(ピンホール)を有しないも
のが要求される。
の部分は薄り、柔軟性があり、He等の気体の浸透漏れ
を起こすようなわずかな孔(ピンホール)を有しないも
のが要求される。
しかしながら、電気化学的原理からしてピンホールの発
生を皆無とすることは橿めて困難である。
生を皆無とすることは橿めて困難である。
このようなピンホールの封孔処理として、ニッケル被膜
等の金属の被膜に生成されたピンホールに希薄な樹脂溶
液を浸透させ、封孔する方法があるが、金属と異質な物
性を有する成分によってピンホールが封孔されるために
耐熱性、機械的特性に問題を生しる。
等の金属の被膜に生成されたピンホールに希薄な樹脂溶
液を浸透させ、封孔する方法があるが、金属と異質な物
性を有する成分によってピンホールが封孔されるために
耐熱性、機械的特性に問題を生しる。
本発明の目的は、上記した従来技術の課題を解決し、耐
熱性、機械的特性を損なうことなく電着ベローズ等の金
属被膜のピンホール等の欠陥部を改善し、金属被膜の要
求特性を満足させることができるめっき処理法を提供す
ることにある。
熱性、機械的特性を損なうことなく電着ベローズ等の金
属被膜のピンホール等の欠陥部を改善し、金属被膜の要
求特性を満足させることができるめっき処理法を提供す
ることにある。
〔課題を解決するための手段]
上記した目的は、耐真空性が要求される部品を構成する
下地金属被膜の表面に、該下地金属被膜の特性を損なわ
ない材質からなるとともに、下地金属の融点よりも低い
融点を有する金属のめっき被膜を施した後、該めっき被
膜金属の融点以上であるとともに、前記下地金属の融点
よりも低い温度で、前記めっき被膜を加熱流動させて前
記下地金属表面に前記めっき被膜を被覆させることによ
って達成される。
下地金属被膜の表面に、該下地金属被膜の特性を損なわ
ない材質からなるとともに、下地金属の融点よりも低い
融点を有する金属のめっき被膜を施した後、該めっき被
膜金属の融点以上であるとともに、前記下地金属の融点
よりも低い温度で、前記めっき被膜を加熱流動させて前
記下地金属表面に前記めっき被膜を被覆させることによ
って達成される。
下地金属、例えばニッケル被膜からなる電着ベローズに
対して、スズめっき等のめっき被膜を施した後、めっき
被膜を構成する金属の融点以上で加熱すると、めっき被
膜は下地金属表面で溶融しピンホール中に流入するとと
もに、緻密な膜を形成し、封孔される。
対して、スズめっき等のめっき被膜を施した後、めっき
被膜を構成する金属の融点以上で加熱すると、めっき被
膜は下地金属表面で溶融しピンホール中に流入するとと
もに、緻密な膜を形成し、封孔される。
このとき、めっき被膜を構成する下地金属の特性を損な
わない材質で、かつ下地金属よりも低い融点の金属が選
定され、めっき被膜加熱時に下地金属の変形等が生じる
ことなく、また下地金属の特性も損なわれることがない
。
わない材質で、かつ下地金属よりも低い融点の金属が選
定され、めっき被膜加熱時に下地金属の変形等が生じる
ことなく、また下地金属の特性も損なわれることがない
。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明のめっき処理法の一実施例を示し、電着
ベローズに適用したときの説明図である。
ベローズに適用したときの説明図である。
まず、従来と同様にアルミニウムまたは樹脂等の材質か
らなる中子の表面に前処理を施し、ニッケルめっきを膜
厚10〜20μm程度に析出させ、その後適当な溶剤、
例えば苛性ソーダの液を煮沸させて中子を溶解し、ニッ
ケル被膜を取り出す。
らなる中子の表面に前処理を施し、ニッケルめっきを膜
厚10〜20μm程度に析出させ、その後適当な溶剤、
例えば苛性ソーダの液を煮沸させて中子を溶解し、ニッ
ケル被膜を取り出す。
つぎにニッケル被膜からなる電着ベローズ1の内径側に
導電部2を設置し、この導電部2と導線3とを導電性の
懸下治具4で接続した状態テ電着ベローズ1をスズめっ
き浴5中に浸漬する。
導電部2を設置し、この導電部2と導線3とを導電性の
懸下治具4で接続した状態テ電着ベローズ1をスズめっ
き浴5中に浸漬する。
そして、スズめっき浴5としては、酸性浴、アルカリ浴
等、いずれも適用可能であるが、ここでは代表的な例と
して硫酸浴を挙げる。
等、いずれも適用可能であるが、ここでは代表的な例と
して硫酸浴を挙げる。
浴の組成としては硫酸第一スズ:30〜90g/l、硫
酸=60〜180 g/l、その他光沢剤等の公知の成
分を適当量加えた成分からなり、液温は20〜30 ’
Cである。
酸=60〜180 g/l、その他光沢剤等の公知の成
分を適当量加えた成分からなり、液温は20〜30 ’
Cである。
めっき操作時、懸下治具4を回転させることによってニ
ッケル被膜からなる電着ベローズ1をスズめっき浴5中
を移動させ、陰掻電流密度0.5〜3A/drI′rで
行うと、電着ベローズ1の外表面に数μm程度のスズめ
っき層が析出する。
ッケル被膜からなる電着ベローズ1をスズめっき浴5中
を移動させ、陰掻電流密度0.5〜3A/drI′rで
行うと、電着ベローズ1の外表面に数μm程度のスズめ
っき層が析出する。
つぎに表面にスズめっき層が析出した電着ベローズ1を
水洗後、5〜10%第三リン酸ソーダ溶液(60〜90
°C)に浸漬し、スズの融点231.9°C以上で、下
地のニッケルの融点よりも低い温度で加熱する。
水洗後、5〜10%第三リン酸ソーダ溶液(60〜90
°C)に浸漬し、スズの融点231.9°C以上で、下
地のニッケルの融点よりも低い温度で加熱する。
これによってニッケル被膜に発生しているビンホールに
溶融スズが流入すると共にニッケル被膜上にスズが緻密
に被覆し、確実に封孔することになり、Heリーク不良
率が大巾に低減する。
溶融スズが流入すると共にニッケル被膜上にスズが緻密
に被覆し、確実に封孔することになり、Heリーク不良
率が大巾に低減する。
この場合、ピンホールに対するスズの浸透を確実にし、
かつ下地のニッケルの熱特性に影響を与えないようにす
る点から250〜300°Cが好適である。
かつ下地のニッケルの熱特性に影響を与えないようにす
る点から250〜300°Cが好適である。
また、加熱雰囲気としては、恒温槽またはオイルバス等
の方法が用いられる。
の方法が用いられる。
上記しためっき処理法によって得られる電着ベローズに
おいては、スズは耐食性があり、かつ、スズ自身ニッケ
ルを侵す腐食性がなく、しかも、スズ被膜の硬度はビッ
カースで15〜30程度である。
おいては、スズは耐食性があり、かつ、スズ自身ニッケ
ルを侵す腐食性がなく、しかも、スズ被膜の硬度はビッ
カースで15〜30程度である。
したがってニッケルめっきの表層に数μm程度のスズめ
っきを積層してもベローズの特性を1員なうことがなし
)。
っきを積層してもベローズの特性を1員なうことがなし
)。
上記した実施例においては、ニッケル被膜からなる電着
ベロースを例に説明したが、本発明は下地金属が二ンケ
ル以外の被膜でもよく、この被膜にめっきされる金属は
、下地金属の特性を損なうことがなく、下地金属よりも
融点の低い金属を選定することもでき、この場合下地金
属面にめっきを施した後、加熱する温度はこのめっき膜
の金属の融点以上で、かつ、下地金属の融点よりも低い
温度の範囲内で下地の変形防止等の熱特性を考慮して選
定される。
ベロースを例に説明したが、本発明は下地金属が二ンケ
ル以外の被膜でもよく、この被膜にめっきされる金属は
、下地金属の特性を損なうことがなく、下地金属よりも
融点の低い金属を選定することもでき、この場合下地金
属面にめっきを施した後、加熱する温度はこのめっき膜
の金属の融点以上で、かつ、下地金属の融点よりも低い
温度の範囲内で下地の変形防止等の熱特性を考慮して選
定される。
以上のように本発明によれば、下地金属に施されためっ
き被膜が加熱により溶融流動し、下地金属の被膜上を緻
密に被覆し、下地金属被膜に発生したピンホールを封孔
し、欠陥部を改善できる。
き被膜が加熱により溶融流動し、下地金属の被膜上を緻
密に被覆し、下地金属被膜に発生したピンホールを封孔
し、欠陥部を改善できる。
第1図は本発明の方法の一実施例を示す説明図、第2図
はニッケル被膜からなる電着ベローズの例を示す説明図
である。 1・・・・・・電着ベローズ 2・・・・・・導電部 3・・・・・・導線 4・・・・・・懸下治具 5・・・・・・スズめっき浴 特 許 出 願 人 イーグル工業株式会社 第2図 電1べ0−ス
はニッケル被膜からなる電着ベローズの例を示す説明図
である。 1・・・・・・電着ベローズ 2・・・・・・導電部 3・・・・・・導線 4・・・・・・懸下治具 5・・・・・・スズめっき浴 特 許 出 願 人 イーグル工業株式会社 第2図 電1べ0−ス
Claims (3)
- (1)耐真空性が要求される部品を構成する下地金属被
膜の表面に、該下地金属被膜の特性を損なわない材質か
らなるとともに、下地金属の融点よりも低い融点を有す
る金属のめっき被膜を施した後、該めっき被膜金属の融
点以上であるとともに、前記下地金属の融点よりも低い
温度で、前記めっき被膜を加熱流動させて前記下地金属
表面に前記めっき被膜を被覆させることを特徴とするめ
っき処理法。 - (2)前記下地金属がニッケルからなり、前記めっき被
膜がスズめっきにより形成されることを特徴とする請求
項1記載のめっき処理法。 - (3)前記下地金属が、ニッケル被膜からなる電着ベロ
ーズであることを特徴とする請求項1記載のめっき処理
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10699589A JPH02285089A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | めゅき処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10699589A JPH02285089A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | めゅき処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02285089A true JPH02285089A (ja) | 1990-11-22 |
Family
ID=14447809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10699589A Pending JPH02285089A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | めゅき処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02285089A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49121746A (ja) * | 1973-03-26 | 1974-11-21 | ||
| JPS6133079A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 輪郭補償回路 |
| JPS63192888A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Eagle Ind Co Ltd | 部品の電鋳方法 |
-
1989
- 1989-04-26 JP JP10699589A patent/JPH02285089A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49121746A (ja) * | 1973-03-26 | 1974-11-21 | ||
| JPS6133079A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 輪郭補償回路 |
| JPS63192888A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Eagle Ind Co Ltd | 部品の電鋳方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5552234A (en) | Copper foil for printed circuits | |
| US4655884A (en) | Nickel plating of refractory metals | |
| JPS6113688A (ja) | 印刷回路用銅箔およびその製造方法 | |
| JPH0791667B2 (ja) | 電鋳用マンドレル | |
| US3857684A (en) | Corrosion-resistant double-coated steel material | |
| US6677056B2 (en) | Method for producing tin-silver alloy plating film, the tin-silver alloy plating film and lead frame for electronic parts having the plating film | |
| US3771972A (en) | Coated article | |
| WO1998033957A9 (en) | Electroformed hollow jewelry | |
| GB2173424A (en) | Anticorrosive coated steel pipe | |
| WO1998033957A1 (en) | Electroformed hollow jewelry | |
| US4632734A (en) | Process for electrochemically or chemically coating niobium | |
| US5160423A (en) | Nickel plating solution, nickel-chromium electroplating method and nickel-chromium plating film | |
| US2970090A (en) | Plating nickel on aluminum | |
| JPH02285089A (ja) | めゅき処理法 | |
| US3108931A (en) | Etching of chromium alloys | |
| US2327676A (en) | Plating process | |
| US2039069A (en) | Corrosion resisting rubber coated article | |
| JPS6187894A (ja) | チタン素材用メツキ法 | |
| JPS58210194A (ja) | 電気Zn或はZn系合金めっき鋼板の製造方法 | |
| JP3113445B2 (ja) | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 | |
| KR101801331B1 (ko) | 전착 도장 방법 | |
| US2764538A (en) | Method of plating chromium over antimony | |
| JP2892601B2 (ja) | ホイスカーの発生しない電気・電子部品用光沢亜鉛メッキ品及び光沢亜鉛メッキ法 | |
| JPS6191392A (ja) | 耐食性重合被覆鋼材および重合被覆形成方法 | |
| JPH02243793A (ja) | 錫および錫合金めっき材の製造方法 |