JPH022860B2 - - Google Patents
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- JPH022860B2 JPH022860B2 JP57063767A JP6376782A JPH022860B2 JP H022860 B2 JPH022860 B2 JP H022860B2 JP 57063767 A JP57063767 A JP 57063767A JP 6376782 A JP6376782 A JP 6376782A JP H022860 B2 JPH022860 B2 JP H022860B2
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- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/20—Halogens; Compounds thereof
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- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、歯エナメル質の虫歯巣にミネラル補
給するに有効な安定水性組成物に関する。
給するに有効な安定水性組成物に関する。
虫歯がいわゆる“白斑”（不触菌エナメル質表
面下の脱ミネラル部分である）病巣で始まること
は知られている。放置すると表面下病巣上の表面
エナメルが結局はくずれて真空になり、ついで歯
の構造が失われる。
面下の脱ミネラル部分である）病巣で始まること
は知られている。放置すると表面下病巣上の表面
エナメルが結局はくずれて真空になり、ついで歯
の構造が失われる。
脱ミネラル化の進行を阻止し、又、“白斑”に
ミネラル補給するために様々な組成物が提案され
ている。例えば、アメリカ特許3679360号
（Rubin等）公報にはゲル体のリン酸Caを歯表面
に沈着させている。しかし、これは脱ミネラルが
まず生ずる表面下領域には達しない。更に、リン
酸Ca物質を沈殿させることなくCaイオンとリン
酸イオンの双方を維持するのは困難なので、英国
特許1408922号（Raff等）、1452125
（Grabenstetter等）、アメリカ特許4048300号
（Tomlinson等）発明における如くCa成分とリン
酸成分を口腔に順次使用するか、アメリカ特許
4080440号（DiGiulio等）、英国特許1509977号
（Levine等）発明における如く使用直前に両者を
混合して一時的に安定な準安定系を形成する２成
分系が提案されている。別の準安定溶液がアメリ
カ特許4097588号（Levine）公報に記載されてい
る。しかし、この溶液も実質上永久ではなく、沈
殿が生じうる（特にF-イオンが存在する時）。英
国特許1468149号（Levine）発明も同様である。
英国特許1516505号（DiGiulio）発明では水を避
け、無水組成物をミネラル補給に使用している。
ミネラル補給するために様々な組成物が提案され
ている。例えば、アメリカ特許3679360号
（Rubin等）公報にはゲル体のリン酸Caを歯表面
に沈着させている。しかし、これは脱ミネラルが
まず生ずる表面下領域には達しない。更に、リン
酸Ca物質を沈殿させることなくCaイオンとリン
酸イオンの双方を維持するのは困難なので、英国
特許1408922号（Raff等）、1452125
（Grabenstetter等）、アメリカ特許4048300号
（Tomlinson等）発明における如くCa成分とリン
酸成分を口腔に順次使用するか、アメリカ特許
4080440号（DiGiulio等）、英国特許1509977号
（Levine等）発明における如く使用直前に両者を
混合して一時的に安定な準安定系を形成する２成
分系が提案されている。別の準安定溶液がアメリ
カ特許4097588号（Levine）公報に記載されてい
る。しかし、この溶液も実質上永久ではなく、沈
殿が生じうる（特にF-イオンが存在する時）。英
国特許1468149号（Levine）発明も同様である。
英国特許1516505号（DiGiulio）発明では水を避
け、無水組成物をミネラル補給に使用している。
１液型の安定な水性のミネラル補給用組成物が
口洗料として適当に製造され、又、デンタルクリ
ームやゲル、口腔スプレー、トローチ、チユアブ
ル錠、舌下錠等の他歯磨組成物に配合できること
が本発明の一利点である。かかる組成物は２−ホ
スホノ−ブタン−三酢酸１，２，４かその水溶性
塩を含む。
口洗料として適当に製造され、又、デンタルクリ
ームやゲル、口腔スプレー、トローチ、チユアブ
ル錠、舌下錠等の他歯磨組成物に配合できること
が本発明の一利点である。かかる組成物は２−ホ
スホノ−ブタン−三酢酸１，２，４かその水溶性
塩を含む。
他利点は本明細書から明白であろう。
そのある態様により、本発明は、
Caイオン源とリン酸イオン源とを溶解してい
る水溶液（Caイオンとリン酸イオンとは歯エナ
メル質にミネラル補給するに充分なものであ
る）； 抗虫歯剤F-供給化合物；及び ２−ホスホノ−ブタン−三カルボン酸−１，
２，４とその水溶性塩からなる群から選択される
抗核形成剤； からなり、該溶液のPHが約５〜９である、安定な
ミネラル補給用水性組成物に関する。
る水溶液（Caイオンとリン酸イオンとは歯エナ
メル質にミネラル補給するに充分なものであ
る）； 抗虫歯剤F-供給化合物；及び ２−ホスホノ−ブタン−三カルボン酸−１，
２，４とその水溶性塩からなる群から選択される
抗核形成剤； からなり、該溶液のPHが約５〜９である、安定な
ミネラル補給用水性組成物に関する。
本発明で用いられる薬剤の抗核形成性は、歯磨
（特に、F-イオンも存在する歯磨）でCaイオンや
リン酸イオンの沈殿を防止するのに有効と思われ
る。チバ財団シンポジウム、“Hard Tissue
Growth Repair and Remineralization
（Elsevier）”（ニユーヨーク州のAssociated
Scientific Publishers社発行）でのFrancis等の
論文“Chemical Agents in the Control of
Calcification Processes in Biological
Systems”の57〜83頁、特に75〜78頁、に記載の
如く、抗核形成剤（例、二ホスホン酸塩）は生理
学的PHでヒドロキシアパタイトの球状核化粒子に
充分量で吸着し、結晶成長を完全に阻止できる。
これによりアパタイトの大きな不溶性結晶の形成
は防止され、水溶性度の高まつた、コーテイング
された小さなヒドロキシアパタイト結晶となる。
（特に、F-イオンも存在する歯磨）でCaイオンや
リン酸イオンの沈殿を防止するのに有効と思われ
る。チバ財団シンポジウム、“Hard Tissue
Growth Repair and Remineralization
（Elsevier）”（ニユーヨーク州のAssociated
Scientific Publishers社発行）でのFrancis等の
論文“Chemical Agents in the Control of
Calcification Processes in Biological
Systems”の57〜83頁、特に75〜78頁、に記載の
如く、抗核形成剤（例、二ホスホン酸塩）は生理
学的PHでヒドロキシアパタイトの球状核化粒子に
充分量で吸着し、結晶成長を完全に阻止できる。
これによりアパタイトの大きな不溶性結晶の形成
は防止され、水溶性度の高まつた、コーテイング
された小さなヒドロキシアパタイト結晶となる。
全ての抗核形成剤が沈殿に抗してCaイオンと
リン酸イオンを首尾よく安定化して大きな不溶性
アパタイト結晶を形成できるわけではないことが
発見された。例えば、かかる不溶性結晶は、ヘキ
サメタリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウ
ム、フイチン酸ナトリウム、メリツト酸、ホスホ
ノエタン−１，２−二カルボン酸二ナトリウム、
１，１−ジホスホノプロパン−２，３−二カルボ
ン酸・一水和物、３−アミノ−１−ヒドロキシプ
ロパン−１，１−ジホスホン酸、イミノ二酢酸−
Ｎ−メチレンホスホン酸等の抗核形成剤を使う時
に形成される。一方、本発明の抗核形成剤は約５
〜９のPHでCaイオンとリン酸イオンを沈殿に抗
して大きな不溶性アパタイト結晶として首尾よく
安定化する。好ましくはPHは約6.8〜約7.5であ
り、この値は普通の人間の生理状態に近く、ミネ
ラル補給達成に最適である。望ましくは、本発明
の抗核形成剤は組成物の約４〜5000ppm（1.5×
10-5M〜２×10-2M）、好ましくは約５〜
1000ppm（1.9×10-5M〜１×10-2M）、例えば約
５〜60ppm（1.9×10-5M〜1.8×10-4M）、の量で
存在する。
リン酸イオンを首尾よく安定化して大きな不溶性
アパタイト結晶を形成できるわけではないことが
発見された。例えば、かかる不溶性結晶は、ヘキ
サメタリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウ
ム、フイチン酸ナトリウム、メリツト酸、ホスホ
ノエタン−１，２−二カルボン酸二ナトリウム、
１，１−ジホスホノプロパン−２，３−二カルボ
ン酸・一水和物、３−アミノ−１−ヒドロキシプ
ロパン−１，１−ジホスホン酸、イミノ二酢酸−
Ｎ−メチレンホスホン酸等の抗核形成剤を使う時
に形成される。一方、本発明の抗核形成剤は約５
〜９のPHでCaイオンとリン酸イオンを沈殿に抗
して大きな不溶性アパタイト結晶として首尾よく
安定化する。好ましくはPHは約6.8〜約7.5であ
り、この値は普通の人間の生理状態に近く、ミネ
ラル補給達成に最適である。望ましくは、本発明
の抗核形成剤は組成物の約４〜5000ppm（1.5×
10-5M〜２×10-2M）、好ましくは約５〜
1000ppm（1.9×10-5M〜１×10-2M）、例えば約
５〜60ppm（1.9×10-5M〜1.8×10-4M）、の量で
存在する。
エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等
の特定抗核形成剤はアメリカ特許4177258号、
4183915号（共にGaffar等に付与）公報にリン
酸、Ca、Ｆのイオン源を含む溶液に対する有効
な抗核形成剤（添加剤）として開示されている。
本発明では溶液中のCaイオン、リン酸イオンの
沈殿は抗核形成性添加剤量が少なくても阻止され
る。
の特定抗核形成剤はアメリカ特許4177258号、
4183915号（共にGaffar等に付与）公報にリン
酸、Ca、Ｆのイオン源を含む溶液に対する有効
な抗核形成剤（添加剤）として開示されている。
本発明では溶液中のCaイオン、リン酸イオンの
沈殿は抗核形成性添加剤量が少なくても阻止され
る。
抗核形成性添加剤である２−ホスホノブタン三
カルボン酸−１，２，４（PBTA）とその水溶性
塩は次式で示される。
カルボン酸−１，２，４（PBTA）とその水溶性
塩は次式で示される。
式中Ｍは相互依存なくＨか口腔的に許容される
アルカリ金属（例、NaかＫ）、アンモニウム、
C1〜18一、二又は三置換アンモニウム（例えば一、
二又は三エタノールアンモニウム）塩の様なカチ
オンである。
アルカリ金属（例、NaかＫ）、アンモニウム、
C1〜18一、二又は三置換アンモニウム（例えば一、
二又は三エタノールアンモニウム）塩の様なカチ
オンである。
PBTAとその塩はアメリカ特許4224209号公報
にカチオン剤に起因する汚れに対する歯磨用添加
剤として、アメリカ特許4224308号公報に抗虫歯
添加剤として、アメリカ特許4229409号（Scharf
等）公報にAl腐食阻止剤として開示されている。
しかし、ミネラル補給用溶液でのCaイオン、リ
ン酸イオンの沈殿の有効阻止剤たり得ることは知
られていなかつた。
にカチオン剤に起因する汚れに対する歯磨用添加
剤として、アメリカ特許4224308号公報に抗虫歯
添加剤として、アメリカ特許4229409号（Scharf
等）公報にAl腐食阻止剤として開示されている。
しかし、ミネラル補給用溶液でのCaイオン、リ
ン酸イオンの沈殿の有効阻止剤たり得ることは知
られていなかつた。
有効抗核形成剤はミネラル補給用歯磨を通常温
度（例えば約15〜40℃）で安定にする。ミネラル
補給剤は、表面下病巣に作用するため完全ミネラ
ル表面を通過して有効拡散できる。
度（例えば約15〜40℃）で安定にする。ミネラル
補給剤は、表面下病巣に作用するため完全ミネラ
ル表面を通過して有効拡散できる。
有効な抗核形成剤により与えられる安定性はエ
ナメル表面への自然沈殿を防止し、これにより、
ミネラル補給成分が表面下病巣へ拡散するのを可
能にする。
ナメル表面への自然沈殿を防止し、これにより、
ミネラル補給成分が表面下病巣へ拡散するのを可
能にする。
Caイオン、リン酸イオンは各々、１種以上の
供給源を使用できる。リン酸カルシウムの様に供
給源が通常不溶性の時には、ミネラル補給液の製
造中（特に、有効な抗核形成剤添加前）に約６未
満の酸性PH（例、約2.5〜６）を維持することに
より可溶化する。
供給源を使用できる。リン酸カルシウムの様に供
給源が通常不溶性の時には、ミネラル補給液の製
造中（特に、有効な抗核形成剤添加前）に約６未
満の酸性PH（例、約2.5〜６）を維持することに
より可溶化する。
通常不溶性のCaイオン、リン酸イオンの供給
源は、リン酸三カルシウム〔実質上ヒドロキシア
パタイト、Ca5（PO4）3OH又は3Ca3（PO4）2・Ca
（OH）2に対応〕、骨粉、リン酸二カルシウム（二
水和体又は無水体）の様な単一化合物でよい。溶
解すると（特にF-イオンの存在下で）、ヒドロキ
シアパタイト、フルオロヒドロキシアパタイト、
フルオロアパタイトの形成が生ずる。
源は、リン酸三カルシウム〔実質上ヒドロキシア
パタイト、Ca5（PO4）3OH又は3Ca3（PO4）2・Ca
（OH）2に対応〕、骨粉、リン酸二カルシウム（二
水和体又は無水体）の様な単一化合物でよい。溶
解すると（特にF-イオンの存在下で）、ヒドロキ
シアパタイト、フルオロヒドロキシアパタイト、
フルオロアパタイトの形成が生ずる。
本発明のミネラル補給歯磨中に使用できる、他
の通常水溶性か通常水不溶性（しかし、約６未満
のPHで溶解性）のCaイオン（リン酸イオンでは
ない）源は、酢酸、グルコン酸、硝酸、ステアリ
ン酸、乳酸、ギ酸、モリブデン酸、タングステン
酸、硫酸、アルキルスルホン酸（例、ラウリルス
ルホン酸）、オレイン酸、酒石酸、ソルビン酸、
ヨウ素酸、ケイ酸、アルミン酸、安息香酸、クエ
ン酸、フマル酸、酪酸、イソ酪酸、リンゴ酸、マ
レイン酸、プロピオン酸、バレリアン酸等のCa
塩である。これらCa源相互の、或はリン酸カル
シウムとの混合物も使用できる。
の通常水溶性か通常水不溶性（しかし、約６未満
のPHで溶解性）のCaイオン（リン酸イオンでは
ない）源は、酢酸、グルコン酸、硝酸、ステアリ
ン酸、乳酸、ギ酸、モリブデン酸、タングステン
酸、硫酸、アルキルスルホン酸（例、ラウリルス
ルホン酸）、オレイン酸、酒石酸、ソルビン酸、
ヨウ素酸、ケイ酸、アルミン酸、安息香酸、クエ
ン酸、フマル酸、酪酸、イソ酪酸、リンゴ酸、マ
レイン酸、プロピオン酸、バレリアン酸等のCa
塩である。これらCa源相互の、或はリン酸カル
シウムとの混合物も使用できる。
本発明のミネラル補給歯磨中に使用できるリン
酸イオン（Caイオンではない）源の例は通常水
溶性か通常水不溶性（しかし約６未満のPHでは溶
解性）の塩であり、例えばアルカリ金属（例、
NaかＫ）、アンモニウム、オルトリン酸、酸性オ
ルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、グリセロ
リン酸のMg、Ba、Sr塩、フルクトース−６−ホ
スフエート、ソルビトール−６−ホスフエート、
グルコース−１−ホスフエート、グルコース−６
−ホスフエート等である。かかるリン酸源相互
の、或はリン酸カルシウムとの混合物も使用でき
る。
酸イオン（Caイオンではない）源の例は通常水
溶性か通常水不溶性（しかし約６未満のPHでは溶
解性）の塩であり、例えばアルカリ金属（例、
NaかＫ）、アンモニウム、オルトリン酸、酸性オ
ルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、グリセロ
リン酸のMg、Ba、Sr塩、フルクトース−６−ホ
スフエート、ソルビトール−６−ホスフエート、
グルコース−１−ホスフエート、グルコース−６
−ホスフエート等である。かかるリン酸源相互
の、或はリン酸カルシウムとの混合物も使用でき
る。
溶解した時にヒドロキシアパタイトを形成す
る、リン酸三カルシウムその他のCa、リン酸イ
オンはCaイオン対リン酸イオンのモル比が約0.01
〜約100：１、典型的には約0.2〜約５：１、好ま
しくは約1.2〜約２：１、例えば約1.4〜約1.7：
１、で使う。1.67：１というCa対リン酸比は歯エ
ナメル質のCa対リン酸比に対応する。歯磨のCa
イオンとリン酸イオンの量はミネラル補給を達成
するに充分なものであり、典型的には、Caイオ
ン、リン酸イオンは各々少くとも約500ppmであ
る。Caイオンとリン酸イオンの望ましい最大量
は、沈殿物形成を生じないものである。これはイ
オン源、PH条件に依存して変動しうる。典型的に
は、Caイオン約35000ppm、リン酸イオン約
40000ppmを使用でき、しかも沈殿が避けられる。
る、リン酸三カルシウムその他のCa、リン酸イ
オンはCaイオン対リン酸イオンのモル比が約0.01
〜約100：１、典型的には約0.2〜約５：１、好ま
しくは約1.2〜約２：１、例えば約1.4〜約1.7：
１、で使う。1.67：１というCa対リン酸比は歯エ
ナメル質のCa対リン酸比に対応する。歯磨のCa
イオンとリン酸イオンの量はミネラル補給を達成
するに充分なものであり、典型的には、Caイオ
ン、リン酸イオンは各々少くとも約500ppmであ
る。Caイオンとリン酸イオンの望ましい最大量
は、沈殿物形成を生じないものである。これはイ
オン源、PH条件に依存して変動しうる。典型的に
は、Caイオン約35000ppm、リン酸イオン約
40000ppmを使用でき、しかも沈殿が避けられる。
（特にF-源存在下では）リン酸カルシウムの
溶解維持は従来困難だつた。前述の如く、これ
は、本発明により有効な抗核形成剤を使用する時
に解消される。F-イオン源（複合F-イオンを含
む）の例はアルカリ金属（例、Na、Ｋ、Li）、ア
ンモニウム、アルカリ土類金属（例、Ca、Ba、
Sr、Mg）、Al、Zn、第一スズ、インジウム、ジ
ルコン、銅、ニツケル、パラジウム、F-イオン
源とのアルキルアミン（例、ヘキシルアミン）化
合物等のオルガノ窒素化合物である。F-イオン
源はフツ化物、フルオロリン酸塩（モノフルオロ
リン酸塩、ジフルオロリン酸塩、ポリフルオロリ
ン酸等）、シリコフツ化物、フルオロジルコン酸
塩、フルオロホウ酸塩、フルオロ第二スズ酸塩等
である。典型的化合物はフツ化ナトリウム、フツ
化亜鉛、フツ化第一スズ、モノフルオロリン酸ナ
トリウムである。フツ化ナトリウムとモノフルオ
ロリン酸ナトリウムが好ましい。F-源化合物は
ミネラル補給歯磨に約１〜10000ppm（0.0001％〜
１％）のF-を供給する量で存在させることが望
ましく、例えば約5ppmのF-を供給する約１〜
1000ppm（0.0001〜0.76％）のモノフルオロリン
酸ナトリウムを使う。その使用量は沈殿形成を招
来するものであつてはならない。例えば、フツ化
カルシウムの様に低溶解性のF-源の場合には使
用量は15000ppmを越えてはならない。
溶解維持は従来困難だつた。前述の如く、これ
は、本発明により有効な抗核形成剤を使用する時
に解消される。F-イオン源（複合F-イオンを含
む）の例はアルカリ金属（例、Na、Ｋ、Li）、ア
ンモニウム、アルカリ土類金属（例、Ca、Ba、
Sr、Mg）、Al、Zn、第一スズ、インジウム、ジ
ルコン、銅、ニツケル、パラジウム、F-イオン
源とのアルキルアミン（例、ヘキシルアミン）化
合物等のオルガノ窒素化合物である。F-イオン
源はフツ化物、フルオロリン酸塩（モノフルオロ
リン酸塩、ジフルオロリン酸塩、ポリフルオロリ
ン酸等）、シリコフツ化物、フルオロジルコン酸
塩、フルオロホウ酸塩、フルオロ第二スズ酸塩等
である。典型的化合物はフツ化ナトリウム、フツ
化亜鉛、フツ化第一スズ、モノフルオロリン酸ナ
トリウムである。フツ化ナトリウムとモノフルオ
ロリン酸ナトリウムが好ましい。F-源化合物は
ミネラル補給歯磨に約１〜10000ppm（0.0001％〜
１％）のF-を供給する量で存在させることが望
ましく、例えば約5ppmのF-を供給する約１〜
1000ppm（0.0001〜0.76％）のモノフルオロリン
酸ナトリウムを使う。その使用量は沈殿形成を招
来するものであつてはならない。例えば、フツ化
カルシウムの様に低溶解性のF-源の場合には使
用量は15000ppmを越えてはならない。
本発明の安定なミネラル補給液はCaイオン、
リン酸イオンの供給源を水に加え、PHを下げて液
を澄明に保つことにより製造される。イオン源は
リン酸三カルシウムの様に単一化合物でも、塩化
カルシウム＋オルトリン酸二水素ナトリウムの様
に複数材料でもよい。カルシウムイオンとリン酸
イオンの比は約0.01〜約100：１でよいが、ヒド
ロキシアパタイトを最適形成するには約1.67：１
が望ましい。例えば約1.5ｍＭのカルシウムイオ
ンと0.9ｍＭのリン酸イオンを溶解使用する。安
息香酸ナトリウムや４−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルの様な保存料を使つて細菌増殖を低下できる。
電解質塩、例えばアルカリ金属（例、NaかＫ）
塩化物、を本発明の安定なミネラル補給液中に存
在させてミネラル補給材の安定性、表面下病巣へ
の拡散を更に改良できる。
リン酸イオンの供給源を水に加え、PHを下げて液
を澄明に保つことにより製造される。イオン源は
リン酸三カルシウムの様に単一化合物でも、塩化
カルシウム＋オルトリン酸二水素ナトリウムの様
に複数材料でもよい。カルシウムイオンとリン酸
イオンの比は約0.01〜約100：１でよいが、ヒド
ロキシアパタイトを最適形成するには約1.67：１
が望ましい。例えば約1.5ｍＭのカルシウムイオ
ンと0.9ｍＭのリン酸イオンを溶解使用する。安
息香酸ナトリウムや４−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルの様な保存料を使つて細菌増殖を低下できる。
電解質塩、例えばアルカリ金属（例、NaかＫ）
塩化物、を本発明の安定なミネラル補給液中に存
在させてミネラル補給材の安定性、表面下病巣へ
の拡散を更に改良できる。
液の澄明性維持のため酸性材料を加えてPHを約
２〜４、典型的には約2.8〜3.8に下げる。典型的
材料はリン酸、塩酸等である。
２〜４、典型的には約2.8〜3.8に下げる。典型的
材料はリン酸、塩酸等である。
ついでPHをNaOH、KOH、水酸化アンモニウ
ム等の塩基性材料で約５〜6.5の様な緩和な酸性
値、例えば約６、に上げる。
ム等の塩基性材料で約５〜6.5の様な緩和な酸性
値、例えば約６、に上げる。
ついで２−ホスホノ−ブタン−三カルボン酸−
１，２，４・二ナトリウム塩の様な有効な抗核形
成剤の配合により沈殿に対して安定化できる。こ
の抗核形成剤を溶液に約１×10-6M〜２×
10-4M、典型的には約１×10-5M（3ppm）の量で
加え、完全混入する。
１，２，４・二ナトリウム塩の様な有効な抗核形
成剤の配合により沈殿に対して安定化できる。こ
の抗核形成剤を溶液に約１×10-6M〜２×
10-4M、典型的には約１×10-5M（3ppm）の量で
加え、完全混入する。
ついでPHを維持するか約９に上げ、有効な抗核
形成剤によりヒドロキシアパタイトの沈殿を防止
する。約6.8〜7.5の範囲内の生理学的PH、典型的
には約７〜7.5、に上げるのが好ましい。前記タ
イプの塩基性物質を使いPHを上げることができ
る。
形成剤によりヒドロキシアパタイトの沈殿を防止
する。約6.8〜7.5の範囲内の生理学的PH、典型的
には約７〜7.5、に上げるのが好ましい。前記タ
イプの塩基性物質を使いPHを上げることができ
る。
ついでフツ化ナトリウムやモノフルオロリン酸
ナトリウムの様なF-イオン源を指示量で加え、
溶液を所望濃度に希釈する。本発明の溶液では
F-はヒドロキシアパタイトの沈殿を招来しない。
ナトリウムの様なF-イオン源を指示量で加え、
溶液を所望濃度に希釈する。本発明の溶液では
F-はヒドロキシアパタイトの沈殿を招来しない。
従つて、この溶液は長時間維持でき、歯に接触
させて表面下病巣にミネラル補給する時に有効で
ある。この溶液はそのままでも、或は、口洗料の
ような歯用組成物に配合しても使用できる。
させて表面下病巣にミネラル補給する時に有効で
ある。この溶液はそのままでも、或は、口洗料の
ような歯用組成物に配合しても使用できる。
本発明の溶液は、例えばそれで口をゆすぐこと
により歯表面に適用でき、或は、口洗料に配合で
きる。
により歯表面に適用でき、或は、口洗料に配合で
きる。
口洗料に配合する時には典型的にはその約20〜
80重量％とする。口洗料にはエタノール、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノール等の非毒性低級脂
肪族アルコールも含まれる。ラウリル硫酸ナトリ
ウム、Ｎ−ラウロイルサルコシン酸ナトリウム、
ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン〔プ
ルロニツク（Pluronic）〕の様な界面活性剤（例
えば約１〜５％）、風味及び／又は甘味材や抗菌
剤も存在できる。
80重量％とする。口洗料にはエタノール、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノール等の非毒性低級脂
肪族アルコールも含まれる。ラウリル硫酸ナトリ
ウム、Ｎ−ラウロイルサルコシン酸ナトリウム、
ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン〔プ
ルロニツク（Pluronic）〕の様な界面活性剤（例
えば約１〜５％）、風味及び／又は甘味材や抗菌
剤も存在できる。
デンタルクリームやゲルに配合する時、該溶液
は典型的にはその約20〜60重量％である。
は典型的にはその約20〜60重量％である。
本発明の歯磨には典型的には約10〜50％の歯科
学的に許容される水不溶性研磨材が含まれる。こ
の研磨材にはCa部分やリン酸部分が含まれない
ことが好ましい。リン酸二カルシウムの様な、
Ca部分、リン酸部分を含む不溶性研磨材は、本
発明の歯磨中の被可溶化物により供給される量の
Caイオン、リン酸イオンは供給しないであろう。
望ましい研磨剤は水和のアルミナ、シリカ（コロ
イド状、沈降又は結晶型）、ドロマイト、ベント
ナイト、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素
−ホルムアルデヒド樹脂等である。水和のアルミ
ナとシリカが好ましい。本発明のデンタルクリー
ムには一般に、グリセリン、ソルビトールプロピ
レングリコールやポリエチレングリコール400等
の保湿剤、カルボキシメチルセルロースナトリウ
ムやアイリツシユモスの様なゲル化剤も含める。
更に、界面活性剤、風味及び／又は甘味材、抗菌
剤、抗菌性保存料（例、安息香酸ナトリウムや４
−ヒドロキシ安息香酸メチル）、シリコーン物質、
クロロフイル化合物や被アンモニヤ化物質も存在
できる。
学的に許容される水不溶性研磨材が含まれる。こ
の研磨材にはCa部分やリン酸部分が含まれない
ことが好ましい。リン酸二カルシウムの様な、
Ca部分、リン酸部分を含む不溶性研磨材は、本
発明の歯磨中の被可溶化物により供給される量の
Caイオン、リン酸イオンは供給しないであろう。
望ましい研磨剤は水和のアルミナ、シリカ（コロ
イド状、沈降又は結晶型）、ドロマイト、ベント
ナイト、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素
−ホルムアルデヒド樹脂等である。水和のアルミ
ナとシリカが好ましい。本発明のデンタルクリー
ムには一般に、グリセリン、ソルビトールプロピ
レングリコールやポリエチレングリコール400等
の保湿剤、カルボキシメチルセルロースナトリウ
ムやアイリツシユモスの様なゲル化剤も含める。
更に、界面活性剤、風味及び／又は甘味材、抗菌
剤、抗菌性保存料（例、安息香酸ナトリウムや４
−ヒドロキシ安息香酸メチル）、シリコーン物質、
クロロフイル化合物や被アンモニヤ化物質も存在
できる。
以下の実施例は本発明の例示であり、限定では
ない。部、量、割合は特記ない限り全て重量によ
る。
ない。部、量、割合は特記ない限り全て重量によ
る。
実施例 １
ヒドロキシアパタイト（リン酸三カルシウム）
ストツク液を、ヒドロキシアパタイトを水に加え
て最終濃度をCa1.5ｍＭ、リン酸0.9ｍＭとするこ
とにより調製した。ついで500mlのこのストツク
状にリン酸を加えてPHが3.0の澄明溶液を生成し
た。その後PHを1N KOHで５に上げた。ついで
PBTAを加え、混入して5ppmの濃度とした。つ
いでフツ化ナトリウムを5ppmの濃度に迄加えた。
ついでKOHを加えてPHを7.0とした。水を追加し
て全量を１とした。
ストツク液を、ヒドロキシアパタイトを水に加え
て最終濃度をCa1.5ｍＭ、リン酸0.9ｍＭとするこ
とにより調製した。ついで500mlのこのストツク
状にリン酸を加えてPHが3.0の澄明溶液を生成し
た。その後PHを1N KOHで５に上げた。ついで
PBTAを加え、混入して5ppmの濃度とした。つ
いでフツ化ナトリウムを5ppmの濃度に迄加えた。
ついでKOHを加えてPHを7.0とした。水を追加し
て全量を１とした。
かくて形成された溶液は38℃で４週間貯蔵後も
安定かつ澄明だつた。PBTAもフツ化ナトリウ
ムも含まない類似溶液では最後のPH上昇時から10
秒で沈殿が生じた。フツ化ナトリウムが存在して
PBTAが存在しない時には最後のPH上昇時から
10秒で沈殿が生じた。従つて、一液型の安定なミ
ネラル補給水溶液は安定剤の添加により得られ
る。
安定かつ澄明だつた。PBTAもフツ化ナトリウ
ムも含まない類似溶液では最後のPH上昇時から10
秒で沈殿が生じた。フツ化ナトリウムが存在して
PBTAが存在しない時には最後のPH上昇時から
10秒で沈殿が生じた。従つて、一液型の安定なミ
ネラル補給水溶液は安定剤の添加により得られ
る。
同様な結果が10、20、25、30、40、50、60ppm
のPBTAを使つて得られた。
のPBTAを使つて得られた。
フツ化ナトリウムの代わりに5ppmのモノフル
オロリン酸ナトリウムを使つても同様な結果が得
られた。
オロリン酸ナトリウムを使つても同様な結果が得
られた。
実施例 ２
フツ化ナトリウム、カルシウム、リン酸を含む
実施例１のストツク液100部を100部の次口洗料に
配合した。
実施例１のストツク液100部を100部の次口洗料に
配合した。
成 分 部
エタノール ６
プルロニツクＦ−168（ポリオキシエチレン ポリ
オキシプロピレン） ２ グリセリン 15 安息香酸 0.01 溶性サツカリン 0.02 風味剤 0.075 安息香酸ナトリウム 0.500 着色料 0.0006 水 残 100 この口洗料は貯蔵に際し安定であり、Caイオ
ン、リン酸イオンは溶解したままであつた。
オキシプロピレン） ２ グリセリン 15 安息香酸 0.01 溶性サツカリン 0.02 風味剤 0.075 安息香酸ナトリウム 0.500 着色料 0.0006 水 残 100 この口洗料は貯蔵に際し安定であり、Caイオ
ン、リン酸イオンは溶解したままであつた。
実施例 ３
フツ化ナトリウム、Ca、リン酸を含む実施例
１のストツク液を１：１、２：１、３：１の比で
次の歯用処方物に加えた。
１のストツク液を１：１、２：１、３：１の比で
次の歯用処方物に加えた。
成 分 部
グリセリン 10.00
ソルビトール（70％） 17.00
水 23.70
安息香酸ナトリウム 0.50
溶性サツカリン 0.20
カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.10
沈降シリカ 45.00
ラウリル硫酸ナトリウム 1.50
風味剤 1.00
以上の実施例の様々な変更が可能であることは
当業者に明白であろう。
当業者に明白であろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 安定な、歯にミネラル補給するための水性組
成物において、 Caイオン源とリン酸イオン源とを溶解して含
んでいる水溶液； 抗虫歯剤F-供給化合物；及び ２−ホスホノ−ブタン−三カルボン酸−１，
２，４とその水溶性塩からなる群から選択される
抗核形成剤； からなり、 Caイオンとリン酸イオンとは歯エナメル質に
ミネラル補給するに充分なものであり、 該溶液のPHが約５〜９である、 組成物。 ２ 該溶液のPHが約6.8〜約7.5である、特許請求
の範囲第１項記載の組成物。 ３ 該抗核形成剤が約４〜5000ppmの量で存在す
る、特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ４ 該抗核形成剤が約５〜1000ppmの量で存在す
る、特許請求の範囲第３項記載の組成物。 ５ 電解質塩が存在する、特許請求の範囲第１項
記載の組成物。 ６ Ca対リン酸モル比が約0.01：１から約100：
１であり、Caとリン酸が各々少くとも約50ppm
存在する、特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ７ Caイオンとリン酸イオンの供給源がヒドロ
キシアパタイトであり、Ca対リン酸モル比が約
1.67対１である、特許請求の範囲第６項記載の組
成物。 ８ Caイオンとリン酸イオンの供給源がリン酸
二カルシウムである、特許請求の範囲第１項記載
の組成物。 ９ Caイオン源が塩化カルシウム、リン酸イオ
ン源がリン酸ナトリウムである、特許請求の範囲
第１項記載の組成物。 １０ 抗虫歯剤F-供給化合物が約１〜約
1000ppmのF-を供給する、特許請求の範囲第１
項記載の組成物。 １１ 抗虫歯剤F-供給化合物がモノフルオロリ
ン酸ナトリウムである、特許請求の範囲第１０項
記載の組成物。 １２ 担体としての非毒性低級脂肪族アルコール
を含み、口洗料の形をしている、特許請求の範囲
第１項記載の組成物。 １３ 該アルコールがエタノールであり、該水溶
液が該口洗料の約20〜80重量％を占める、特許請
求の範囲第１２項記載の口洗料。 １４ 水、保湿剤、ゲル化剤、歯科的に許容され
る研磨材を含み、デンタルクリーム又はゲルの形
をしている、特許請求の範囲第１項記載の組成
物。 １５ 該歯磨がデンタルクリームであり、水和の
アルミナとシリカからなる群から選択される歯科
的に許容される水不溶性研磨材からなる、特許請
求の範囲第１４項記載の組成物。 １６ 安定な、歯にミネラル補給するための水性
組成物の製造方法において、 Caイオンとリン酸イオンとを含むPHが約２〜
４のストツク液に、２−ホスホノ−ブタン−三カ
ルボン酸−１，２，４とその水溶性塩とからなる
群から選択される、該Caイオンと該リン酸イオ
ンとの沈殿を防止する抗核形成剤を配合し；該ス
トツク液に抗虫歯剤F-を供給する化合物を加え、
PHを約５〜９に上げることからなる方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/260,951 US4348381A (en) | 1981-05-06 | 1981-05-06 | Dental remineralization composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57185213A JPS57185213A (en) | 1982-11-15 |
| JPH022860B2 true JPH022860B2 (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=22991332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57063767A Granted JPS57185213A (en) | 1981-05-06 | 1982-04-16 | Composition for supplying minerals to teeth |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4348381A (ja) |
| JP (1) | JPS57185213A (ja) |
| AR (1) | AR231919A1 (ja) |
| AT (1) | AT389443B (ja) |
| AU (1) | AU553823B2 (ja) |
| BE (1) | BE892359A (ja) |
| BR (1) | BR8200999A (ja) |
| CA (1) | CA1165953A (ja) |
| CH (1) | CH652301A5 (ja) |
| DE (1) | DE3206711C2 (ja) |
| DK (1) | DK163169C (ja) |
| ES (1) | ES509793A0 (ja) |
| FR (1) | FR2505180B1 (ja) |
| GB (1) | GB2097674B (ja) |
| GR (1) | GR76435B (ja) |
| HK (1) | HK23490A (ja) |
| IT (1) | IT1148109B (ja) |
| NL (1) | NL8200891A (ja) |
| NO (1) | NO158327C (ja) |
| NZ (1) | NZ199812A (ja) |
| PH (1) | PH16777A (ja) |
| PT (1) | PT74453B (ja) |
| SE (1) | SE452401B (ja) |
| ZA (1) | ZA821269B (ja) |
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