JPH02289584A - セファロスポリンγ―ラクトン化合物 - Google Patents
セファロスポリンγ―ラクトン化合物Info
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- JPH02289584A JPH02289584A JP3324190A JP3324190A JPH02289584A JP H02289584 A JPH02289584 A JP H02289584A JP 3324190 A JP3324190 A JP 3324190A JP 3324190 A JP3324190 A JP 3324190A JP H02289584 A JPH02289584 A JP H02289584A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なセ7ア口スポリンγ−ラクトン化合物
に関する。 本発明のセファ口スポリンγ−ラクトン化
合物は抗菌剤として用いられる。
に関する。 本発明のセファ口スポリンγ−ラクトン化
合物は抗菌剤として用いられる。
(従来の技術)
これまでセファ口スポリンγ−ラクトン化合物は数種製
造され、報告されている。
造され、報告されている。
例えば、特開昭51−82291、同52−83778
、ジャーナル オブ ファーマシュウチ力ル サイアン
ス( Journal of Pharmaceuti
calSciences ) ヱ6.208 (19
87)等にラクトン環上にメチル基またはフェニル基が
置換したセファロスポリンγ−ラクトン化合物が記載さ
れているが、ラクトン環上に電子吸引基で置換されたメ
チル基を有する本発明のセ7アロスポリンγ−ラクトン
化合物については全く報告されていない。
、ジャーナル オブ ファーマシュウチ力ル サイアン
ス( Journal of Pharmaceuti
calSciences ) ヱ6.208 (19
87)等にラクトン環上にメチル基またはフェニル基が
置換したセファロスポリンγ−ラクトン化合物が記載さ
れているが、ラクトン環上に電子吸引基で置換されたメ
チル基を有する本発明のセ7アロスポリンγ−ラクトン
化合物については全く報告されていない。
(発明が解決しようとする課題)
セファロスポリン系抗生物質は人および動物の病原性細
菌により生ずる疾病に広く使用されており、たとえばペ
ニシリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病
の治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用で
ある。
菌により生ずる疾病に広く使用されており、たとえばペ
ニシリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病
の治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用で
ある。
しかしながら、セファロスポリンγ−ラクトン化合物は
、水に難溶性でありその抗菌活性は一般に低く実用上満
足できるものではない。
、水に難溶性でありその抗菌活性は一般に低く実用上満
足できるものではない。
従って、優れた抗菌作用を示すセファロスポリンγ−ラ
クトン化合物の出現が望まれている。
クトン化合物の出現が望まれている。
(課題を解決するための手段)
本発明は、一般式(1)
[式中、Rlはアシル基を、R!は電子吸引基で置換さ
れたメチル基を、nは0またはlを示すJで表わされる
セファ口スポリンラクトン化合物またはその塩に関する
。
れたメチル基を、nは0またはlを示すJで表わされる
セファ口スポリンラクトン化合物またはその塩に関する
。
本発明化合物は、ラクトン環上に電子吸引基で置換され
たメチル基を有する点に構造上の特徴を有し、この構造
上の特徴に基づき、優れた抗菌作用を示す。
たメチル基を有する点に構造上の特徴を有し、この構造
上の特徴に基づき、優れた抗菌作用を示す。
上記一般式(I)中、Rlで示されるアシル基は、好ま
しくは有機カルボン酸から誘導されるアシル基を示す。
しくは有機カルボン酸から誘導されるアシル基を示す。
さらに好ましくは、R′は従来から知られているペニシ
リン誘導体の6位のアミノ基に置換しているアシル基や
、セ7エム誘導体の7位アミノ基に置換しているアシル
基等が用いられる。
リン誘導体の6位のアミノ基に置換しているアシル基や
、セ7エム誘導体の7位アミノ基に置換しているアシル
基等が用いられる。
このようなアシル基の具体例を示せば、例えばホルミル
基、アルキルカルボニル基(アルカノイル基)、好まし
くはC,−C,アルキルーカルボニル基(例、アセチル
.プロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,
イソバレリル.ビバロイルまたはヘキサノイル等)、ア
リールカルボニル基(アロイル基)、好ましくはC.〜
Cl47リールー力ルポニル基(例、ベンゾイル.l一
または2−ナフトイル等),アラルキルカルボニル基、
好ましくはC,〜C,.アラルキルーカルポニル基(例
、ペンジルカルボニル.2−7ェネチル力ルポニル.1
−または2−ナフチルメチル力ルポニルまたはペンズヒ
ドリル力ルボニル等)、5〜6員芳香族複素環カルボニ
ル基(例、2−または3−テノイル,2一* t:−
ハ3−フロイル.ニコチノイル.イソニコチノイル.4
−または5−チアゾリル力ルポニルまたはl.2.4−
チアジアゾール−3−または−5−イルカルボニル等)
、5〜6員芳香族複素環アセチル基(例、2−または3
−チェニルアセチル,2−または3−7リルアセチル.
4−チアゾリルアセチル.l.2.4−チアジアゾール
−3−イルアセチル.l−テトラゾリルアセチル等)、
アルコキシ力ルボニル基、好ましくはC,−C,アルコ
キシ力ルポニル基(例、メトキシ力ルボニル.エトキシ
力ルポニノレ,グロポキシカルボニル.インプロポキシ
カルボニル.プトキシカノレボニル,イソブトキシカル
ボニルまたは第三級ブトキシ力ルボニル等)、アリール
オキシ力ルボニル基、好ましくはC.〜Cl.アリール
オキシー力ルポニル基(例、フエノキシカルポニル.l
一または2−ナフトキシ力ルポニル等)、アラルキルオ
キシ力ルボニル基、好ましくはC7〜cpsアラノレキ
JレオキシーカJレボニル基(例、べ冫ジルオキシ力ル
ポニル等)等が用いられ、これらはアミノ.ニトロ,ハ
ロゲン(例、フッ素.塩素または臭素等),ヒドロキシ
ル.オキソ.カルバモイル,01〜C,アルキル基(例
、メチル,エチル,プロビル.イソプロビルまたはブチ
ル等1cI=caアルコキシ基(例、メトキシ,エトキ
シ,プロポキシ.ブトキシ等),エステル化されていて
もよいカルボキシル基.カルボキシルで置換されていて
もよいC,−C,アルコキシイミノ基(例、メトキシイ
ミノ,エトキシイミノ,カルポキシメトキシイミノ,l
一力ルボキシーl−メチルエトキシイミノ等),ヒドロ
キシイミノ,4−エチル−2.3−ジオキソピペラジノ
力ルポニルアミノ等の置換基で1ないし3個置換されて
いてもよい。
基、アルキルカルボニル基(アルカノイル基)、好まし
くはC,−C,アルキルーカルボニル基(例、アセチル
.プロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,
イソバレリル.ビバロイルまたはヘキサノイル等)、ア
リールカルボニル基(アロイル基)、好ましくはC.〜
Cl47リールー力ルポニル基(例、ベンゾイル.l一
または2−ナフトイル等),アラルキルカルボニル基、
好ましくはC,〜C,.アラルキルーカルポニル基(例
、ペンジルカルボニル.2−7ェネチル力ルポニル.1
−または2−ナフチルメチル力ルポニルまたはペンズヒ
ドリル力ルボニル等)、5〜6員芳香族複素環カルボニ
ル基(例、2−または3−テノイル,2一* t:−
ハ3−フロイル.ニコチノイル.イソニコチノイル.4
−または5−チアゾリル力ルポニルまたはl.2.4−
チアジアゾール−3−または−5−イルカルボニル等)
、5〜6員芳香族複素環アセチル基(例、2−または3
−チェニルアセチル,2−または3−7リルアセチル.
4−チアゾリルアセチル.l.2.4−チアジアゾール
−3−イルアセチル.l−テトラゾリルアセチル等)、
アルコキシ力ルボニル基、好ましくはC,−C,アルコ
キシ力ルポニル基(例、メトキシ力ルボニル.エトキシ
力ルポニノレ,グロポキシカルボニル.インプロポキシ
カルボニル.プトキシカノレボニル,イソブトキシカル
ボニルまたは第三級ブトキシ力ルボニル等)、アリール
オキシ力ルボニル基、好ましくはC.〜Cl.アリール
オキシー力ルポニル基(例、フエノキシカルポニル.l
一または2−ナフトキシ力ルポニル等)、アラルキルオ
キシ力ルボニル基、好ましくはC7〜cpsアラノレキ
JレオキシーカJレボニル基(例、べ冫ジルオキシ力ル
ポニル等)等が用いられ、これらはアミノ.ニトロ,ハ
ロゲン(例、フッ素.塩素または臭素等),ヒドロキシ
ル.オキソ.カルバモイル,01〜C,アルキル基(例
、メチル,エチル,プロビル.イソプロビルまたはブチ
ル等1cI=caアルコキシ基(例、メトキシ,エトキ
シ,プロポキシ.ブトキシ等),エステル化されていて
もよいカルボキシル基.カルボキシルで置換されていて
もよいC,−C,アルコキシイミノ基(例、メトキシイ
ミノ,エトキシイミノ,カルポキシメトキシイミノ,l
一力ルボキシーl−メチルエトキシイミノ等),ヒドロ
キシイミノ,4−エチル−2.3−ジオキソピペラジノ
力ルポニルアミノ等の置換基で1ないし3個置換されて
いてもよい。
また上記の5〜6員芳香族複素環カルボニル基および5
〜6員芳香族複素環アセチル基における複素環基として
は窒素原子(オキシド化されていてもよい).酸素原子
,硫黄原子(モノまたはジオキシド化されていてもよい
)等のへテロ原子を1ないし4個含む芳香族複素環基が
用いられる。このような芳香族複素環基の具体例として
は、例えば、テノイル,チェニル.フロイル.ニコチノ
イル.イソニコチノイル.ピロリル,イミダゾリル,ピ
ラゾリル.ビリミジニル,ピラジニル,ピリダジニル.
インドリル.チアゾリル.インチアゾル,チアジアゾリ
ル,テトラゾリル,オキサゾリル,インオキサゾリル,
トリアゾリル等が用いられる。
〜6員芳香族複素環アセチル基における複素環基として
は窒素原子(オキシド化されていてもよい).酸素原子
,硫黄原子(モノまたはジオキシド化されていてもよい
)等のへテロ原子を1ないし4個含む芳香族複素環基が
用いられる。このような芳香族複素環基の具体例として
は、例えば、テノイル,チェニル.フロイル.ニコチノ
イル.イソニコチノイル.ピロリル,イミダゾリル,ピ
ラゾリル.ビリミジニル,ピラジニル,ピリダジニル.
インドリル.チアゾリル.インチアゾル,チアジアゾリ
ル,テトラゾリル,オキサゾリル,インオキサゾリル,
トリアゾリル等が用いられる。
Rlは、さらに好ましくは
(1)一般式
(式中、Aは窒素原子,CHまたはCCI,R’は水素
原子またはカルポキシル基で置換されていてもよい低級
アルキル基を示す)で表わされる基、(2)一般式 (式中、R6は低級アルキル基、R′は水素原子またけ
ヒドロキシル基を示す)、または (3)一般式 (式中、Xは水素原子,ハロゲン原子又はヒドロキシル
基を示す)で表わされる基である。
原子またはカルポキシル基で置換されていてもよい低級
アルキル基を示す)で表わされる基、(2)一般式 (式中、R6は低級アルキル基、R′は水素原子またけ
ヒドロキシル基を示す)、または (3)一般式 (式中、Xは水素原子,ハロゲン原子又はヒドロキシル
基を示す)で表わされる基である。
このうち特に(1)で示される基が好ましい。
R!で示される電子吸引基で置換されたメチル基におけ
る電子吸引基とは、分子内で水素を標準にした時、他か
ら電子を引きつける傾向のある基を意味する。このよう
な電子吸引基として、好ましくはシアノ基,ニトロ基,
トリハロゲノメチル基,または式 COOQ, −coq, −S (0).Q. −O−Q, −OCO−Q または C O N Q IQ ! 1式中、Q.Q,.Q!は水素原子.置換されていても
よい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を
、mは0.1または2を示す]で表わされる基等が用い
られる。
る電子吸引基とは、分子内で水素を標準にした時、他か
ら電子を引きつける傾向のある基を意味する。このよう
な電子吸引基として、好ましくはシアノ基,ニトロ基,
トリハロゲノメチル基,または式 COOQ, −coq, −S (0).Q. −O−Q, −OCO−Q または C O N Q IQ ! 1式中、Q.Q,.Q!は水素原子.置換されていても
よい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を
、mは0.1または2を示す]で表わされる基等が用い
られる。
R2は好ましくはl〜2個の電子吸引基で置換されたメ
チル基を示す。
チル基を示す。
R2は少なくとも1ないし2個の電子吸引基で置換され
ていればよいメチル基を意味し、このような基としては
、lまたは2個の電子吸引基で置換されたメチル基、及
び1個の電子吸引基と1個の上記Qで示される置換され
ていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複
素環基,ハロゲン原子.−NHQ,−NHCOQで置換
されたメチル基が用いられる。
ていればよいメチル基を意味し、このような基としては
、lまたは2個の電子吸引基で置換されたメチル基、及
び1個の電子吸引基と1個の上記Qで示される置換され
ていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複
素環基,ハロゲン原子.−NHQ,−NHCOQで置換
されたメチル基が用いられる。
Q.Q.およびQ,で示される置換されていてもよい炭
化水素基における炭化水素基としては、例えばメチル,
エチル,プロビル.イソプロビル,ブチル.イソブチル
.第3級ブチル,ペンチル.第3級ペンチル,ヘキシル
等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキル基、
シクロベンチル,シクロヘキシル等の炭素数5〜6のシ
クロアルキル基、ビニル.アリル等の炭素数2〜6のア
ルケ二ル基、フェニル,ナ7チル.ビ7エニリル,アン
トリル等の炭素数6〜l4のアリール基、ベンジル,フ
ェニルエチル,フェナシル.トリチル等の炭素数7〜l
9のアラルキル基等の炭化水素基が用いられる。
化水素基における炭化水素基としては、例えばメチル,
エチル,プロビル.イソプロビル,ブチル.イソブチル
.第3級ブチル,ペンチル.第3級ペンチル,ヘキシル
等の炭素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキル基、
シクロベンチル,シクロヘキシル等の炭素数5〜6のシ
クロアルキル基、ビニル.アリル等の炭素数2〜6のア
ルケ二ル基、フェニル,ナ7チル.ビ7エニリル,アン
トリル等の炭素数6〜l4のアリール基、ベンジル,フ
ェニルエチル,フェナシル.トリチル等の炭素数7〜l
9のアラルキル基等の炭化水素基が用いられる。
Q.Q+及びQ2で示される炭化水素基は、置換基を有
していてもよく、このような置換基としては、好ましく
は水酸基、二トロ基、アミノ基、シアノ基、カルポキシ
ル基、カルバモイル基、炭素数3から6のシクロアルキ
ル基(例えばシクロプロピル、シクロプチル,シクロペ
ンチルまたはシクロヘキシル等)、炭素数1から4のア
ルキルチオ基(例えばメチルチオまたはエチルチオ等)
、炭素数lから4のアルコキシ基(例えばメトキシまた
はエトキシ等)、炭素数1から4のアルコキシ力ルポニ
ル基(例えばメトキシ力ルボニルまたはエトキシ力ルポ
ニル等)、ハロゲン原子(例えばフッ素,塩素または臭
素等)、七ノーまたはジー炭素数1から4のアルキルア
ミノ基(例えばメチルアミノ,ジメチルアミノまたはジ
ェチルアミノ等)、炭素数1から4のアルカノイルアミ
ノ基(例えばホルムアミドまたはアセトアミド等)、複
素環基(例えば2−フリル,3−フリル.2−チェニル
,3−チェニル、2−チアゾリル,4−チアゾリル,l
.2.4−チアジアゾリール−3イル等)等が用いられ
る。置換基の数は好まし〈はl〜3個である。
していてもよく、このような置換基としては、好ましく
は水酸基、二トロ基、アミノ基、シアノ基、カルポキシ
ル基、カルバモイル基、炭素数3から6のシクロアルキ
ル基(例えばシクロプロピル、シクロプチル,シクロペ
ンチルまたはシクロヘキシル等)、炭素数1から4のア
ルキルチオ基(例えばメチルチオまたはエチルチオ等)
、炭素数lから4のアルコキシ基(例えばメトキシまた
はエトキシ等)、炭素数1から4のアルコキシ力ルポニ
ル基(例えばメトキシ力ルボニルまたはエトキシ力ルポ
ニル等)、ハロゲン原子(例えばフッ素,塩素または臭
素等)、七ノーまたはジー炭素数1から4のアルキルア
ミノ基(例えばメチルアミノ,ジメチルアミノまたはジ
ェチルアミノ等)、炭素数1から4のアルカノイルアミ
ノ基(例えばホルムアミドまたはアセトアミド等)、複
素環基(例えば2−フリル,3−フリル.2−チェニル
,3−チェニル、2−チアゾリル,4−チアゾリル,l
.2.4−チアジアゾリール−3イル等)等が用いられ
る。置換基の数は好まし〈はl〜3個である。
さらにQ.Q,及びQ,がアリール基またはアラルキル
基を.示す場合は、例えば炭素数1から4のアルキル基
(例えばメチル,エチル,プロビル,プチルまたは第3
級ブチル等)等の置換基を1〜3個有していてもよい。
基を.示す場合は、例えば炭素数1から4のアルキル基
(例えばメチル,エチル,プロビル,プチルまたは第3
級ブチル等)等の置換基を1〜3個有していてもよい。
Qで示される置換基を有していてもよい複素環基におけ
る複素環基としては、ペテロ原子、例えばN,S,O等
を1〜4個含有する5または6員複素環基で、環を構成
する炭素原子に結合手を有するものが用いられる。
る複素環基としては、ペテロ原子、例えばN,S,O等
を1〜4個含有する5または6員複素環基で、環を構成
する炭素原子に結合手を有するものが用いられる。
このような複素環基を具体的に示せば、2−フリノ呟3
−フリル、2−チェニル、3−チェニJ呟2−ピロリル
、3−ピロリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル
、l.2.3−チアジアゾールー5−イル、2−チアゾ
リル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、lH−テトラ
ゾール−5−イル、1.3.4−チアジアゾール−5−
イル、l,2.4−チアジアゾール−5−イル、ピリジ
ン−3−イル、ピリジン−4−イル等が用いられる。こ
のような複素環基は置換基を有していてもよく、置換基
としては、例えば水酸基、アミノ基、カルポキシ基、炭
素数1から4のアルキル基(例えばメチルまたはエチル
等)、炭素数1から4のアルコキシ基(例えばメトキシ
まt;はエトキシ等)、ヒドロキシー炭素数1から4の
アルキル基(例えばヒドロキシメチルまたはヒドロキシ
エチル等)、ハロゲン原子(例えばフッ素.塩素または
臭素等)等が用いられる。置換基の数は、好ましくはl
から3個である。
−フリル、2−チェニル、3−チェニJ呟2−ピロリル
、3−ピロリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル
、l.2.3−チアジアゾールー5−イル、2−チアゾ
リル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、lH−テトラ
ゾール−5−イル、1.3.4−チアジアゾール−5−
イル、l,2.4−チアジアゾール−5−イル、ピリジ
ン−3−イル、ピリジン−4−イル等が用いられる。こ
のような複素環基は置換基を有していてもよく、置換基
としては、例えば水酸基、アミノ基、カルポキシ基、炭
素数1から4のアルキル基(例えばメチルまたはエチル
等)、炭素数1から4のアルコキシ基(例えばメトキシ
まt;はエトキシ等)、ヒドロキシー炭素数1から4の
アルキル基(例えばヒドロキシメチルまたはヒドロキシ
エチル等)、ハロゲン原子(例えばフッ素.塩素または
臭素等)等が用いられる。置換基の数は、好ましくはl
から3個である。
トリハロゲノメチル基としては、好ましくはトリフルオ
ロメチル基またはトリクロロメチル基等が用いられる。
ロメチル基またはトリクロロメチル基等が用いられる。
式−COOQで表わされる基の好ましい具体例?あげれ
ば、カルボキシル基.炭素数1〜6の直鎖もしくは分校
状のアルキルーオキシ力ルポニル基である。
ば、カルボキシル基.炭素数1〜6の直鎖もしくは分校
状のアルキルーオキシ力ルポニル基である。
式一〇〇Qで表わされる基の好ましい具体例をあげれば
、炭素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキルーカル
ポニル基および炭素数6〜l4のアリールー力ルボニル
基である。
、炭素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキルーカル
ポニル基および炭素数6〜l4のアリールー力ルボニル
基である。
式一S (0).Qで表わされる基の好ましい具体例を
あげれば、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝状のアルキ
ルスルホニル基である。
あげれば、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝状のアルキ
ルスルホニル基である。
式一〇−Qで表わされる基の好ましい具体例は.炭素数
1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキルオキシ基である
。
1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキルオキシ基である
。
式一〇〇〇−Qで表わされる基の好ましい具体例は、炭
素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキノレーカノレ
ポニノレオキシ基である。
素数1〜6の直鎖もしくは分校状のアルキノレーカノレ
ポニノレオキシ基である。
式−CONQ.Q■で表わされる基の好ましい具体例は
、カルバモイル基、七ノーもしくはジー炭素数1〜6の
直鎖もしくは分校状のアルキル置換力ルバモイル基であ
る。
、カルバモイル基、七ノーもしくはジー炭素数1〜6の
直鎖もしくは分校状のアルキル置換力ルバモイル基であ
る。
R!は、好ましくは式
E式中 R3はシアノ基,ニトロ基.トリ/1ロゲノメ
チル基,または式 一〇〇〇Q,−COQ,−S (0
).Q.−0−Q.−OCO−Qまたは一CONQ,Q
xで表わされる基を R4はR3,水素原子.ハロゲン
原子,式一NHQまたはNHCOQで表わされる基また
は炭化水素基を、Q.Ql.Q*は水素原子,置換され
ていてもよい炭化水素基また置換されていてもよい複素
環基を、mはO.Iまたは2を示すjで表わされる基で
ある。
チル基,または式 一〇〇〇Q,−COQ,−S (0
).Q.−0−Q.−OCO−Qまたは一CONQ,Q
xで表わされる基を R4はR3,水素原子.ハロゲン
原子,式一NHQまたはNHCOQで表わされる基また
は炭化水素基を、Q.Ql.Q*は水素原子,置換され
ていてもよい炭化水素基また置換されていてもよい複素
環基を、mはO.Iまたは2を示すjで表わされる基で
ある。
さらに好ましくはR3は炭素数1から6の直鎖もしくは
分校状アルキルーカルポニル基,炭素数1から6の直鎖
もしくは分枝状アルキルスルホニル基.炭素数6から1
4のアリールー力ルボニル基.炭素数1から6の直鎖も
しくは分校状アルコキシーカルボニル基.シアノ基を
R4は水素原子,炭素数1から6の直鎖もしくは分校状
アルコキシーカルポニル基をそれぞれ示す1で表わされ
る基である。
分校状アルキルーカルポニル基,炭素数1から6の直鎖
もしくは分枝状アルキルスルホニル基.炭素数6から1
4のアリールー力ルボニル基.炭素数1から6の直鎖も
しくは分校状アルコキシーカルボニル基.シアノ基を
R4は水素原子,炭素数1から6の直鎖もしくは分校状
アルコキシーカルポニル基をそれぞれ示す1で表わされ
る基である。
ここにおいて、炭素数1から6の直鎖もしくは分枝状ア
ルキルーカルポニル基としては、例えばアセチルまたは
グロピオニルなどが用いられ、炭素数1から6の直鎖も
しくは分枝状アルキルスルホニル基としては、例えばメ
チルスルホニルまたはエチルスルホニルなどが用いられ
、炭素数6から14のアリールー力ルボニル基としては
、例えばベンゾイルなどが用いられ、炭素数1から6の
直鎖もしくは分校状アルコキシーカルポニル基としては
、例えばメトキシカルポニルまたはエトキシ力ルポニル
などが用いられる。 化合物(1)は薬理学的に許容し
うる塩として用いてもよい。
ルキルーカルポニル基としては、例えばアセチルまたは
グロピオニルなどが用いられ、炭素数1から6の直鎖も
しくは分枝状アルキルスルホニル基としては、例えばメ
チルスルホニルまたはエチルスルホニルなどが用いられ
、炭素数6から14のアリールー力ルボニル基としては
、例えばベンゾイルなどが用いられ、炭素数1から6の
直鎖もしくは分校状アルコキシーカルポニル基としては
、例えばメトキシカルポニルまたはエトキシ力ルポニル
などが用いられる。 化合物(1)は薬理学的に許容し
うる塩として用いてもよい。
化合物(1)が分子中に塩基性基(例、アミノ基)を有
している場合、酸との付加塩を形成してもよい。これら
の酸付加塩を形成しうる酸としては塩酸,VL酸などの
無機酸、コハク酸,マレイン酸.p−トルエンスルホン
酸などの有機酸が用いられる。
している場合、酸との付加塩を形成してもよい。これら
の酸付加塩を形成しうる酸としては塩酸,VL酸などの
無機酸、コハク酸,マレイン酸.p−トルエンスルホン
酸などの有機酸が用いられる。
化合物(1)が分子中に酸性基(カルボキシル基.スル
ホ基等)を含んでいる場合、塩基との塩を形成してもよ
い。これらの塩基塩を形成しうる塩基としは、無機塩基
または有機塩基が用いられる。無機塩基としてはアルカ
リ金属(例、ナトリウム.カリウム等)、アルカリ土類
金属(例、カルシウム.マグネシウム等)等が、有機塩
基としては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチノレアミン、ジイソプ口ピノレエチノレア
ミン、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミンの
有機3級アミン等が用いられる。
ホ基等)を含んでいる場合、塩基との塩を形成してもよ
い。これらの塩基塩を形成しうる塩基としは、無機塩基
または有機塩基が用いられる。無機塩基としてはアルカ
リ金属(例、ナトリウム.カリウム等)、アルカリ土類
金属(例、カルシウム.マグネシウム等)等が、有機塩
基としては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチノレアミン、ジイソプ口ピノレエチノレア
ミン、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミンの
有機3級アミン等が用いられる。
化合物(1)またはその塩は、臨床分離株菌を含むダラ
ム陽性及びダラム陰性細菌に対して優れた抗菌活性を示
す価値ある抗生物質であり、人及び家畜の医薬として利
用され、種々の細菌によって引起される感染を治療及び
予防する抗菌剤として安全に使用される。
ム陽性及びダラム陰性細菌に対して優れた抗菌活性を示
す価値ある抗生物質であり、人及び家畜の医薬として利
用され、種々の細菌によって引起される感染を治療及び
予防する抗菌剤として安全に使用される。
さらに本発明の化合物(1)またはその塩は、例えば飼
料を防腐するために殺菌剤として動物用飼料に添加する
こともできる。また医科及び歯科装置上の有害な細菌を
除去するための殺菌剤として用いることができる。
料を防腐するために殺菌剤として動物用飼料に添加する
こともできる。また医科及び歯科装置上の有害な細菌を
除去するための殺菌剤として用いることができる。
本発明の化合物(I)またはその塩は、単独でまたは他
の活性成分と組合せて必要により安定化剤.分散剤等の
補助剤を加えて例えばカプセル剤,錠剤,溶液,懸濁液
または乳濁液のような液剤等の製剤として使用すること
ができる。これらは、非経口的に(例えば静脈もしくは
筋肉内に注射)または経口的に投与することができる。
の活性成分と組合せて必要により安定化剤.分散剤等の
補助剤を加えて例えばカプセル剤,錠剤,溶液,懸濁液
または乳濁液のような液剤等の製剤として使用すること
ができる。これらは、非経口的に(例えば静脈もしくは
筋肉内に注射)または経口的に投与することができる。
注射用製剤は、アンプルまたは防腐剤を添加した容器の
使用形態で提供し得る。該製剤は、油性または水性溶媒
中の懸濁液、溶液または乳濁液であってもよく、公知の
懸濁剤、安定化剤及び(または)分散剤等の補助剤を適
宜含有していてもよい。また、化合物(I)またはその
塩は、粉末剤.散剤として使用直前に適当な溶媒、例え
ば殺菌した発熱性物質を含有していない水で溶解したの
ち使用に供することができる。
使用形態で提供し得る。該製剤は、油性または水性溶媒
中の懸濁液、溶液または乳濁液であってもよく、公知の
懸濁剤、安定化剤及び(または)分散剤等の補助剤を適
宜含有していてもよい。また、化合物(I)またはその
塩は、粉末剤.散剤として使用直前に適当な溶媒、例え
ば殺菌した発熱性物質を含有していない水で溶解したの
ち使用に供することができる。
化合物(I)またはその塩は結合剤例えばシロップ,ア
ラビアゴム.ゼラチン,ソノレビトーノレ,トラガント
ゴム,ポリビニルビロリドンなど、充填剤例えばラクト
ース,糖類,とうもろこし澱粉,燐酸カルシウム,ソル
ビトール,グリシンなど、かったく剤例えばステアリン
酸マグネシウム,タルク.ポリエチレングリコール,シ
リカなど,崩かい剤例えば馬鈴薯澱粉などまたは湿潤剤
例えばナトリウムラウリルサルフエート等と適宜混合し
たのち、経口投与用の錠剤.カプセル剤,散剤.粉末と
することができる。錠剤.散剤等は自体公知の方法によ
ってフイルムコーティングすることもできる。経口用製
剤は、水性または油性懸濁液、溶液、乳濁液、シロップ
、エリキシルなどの液状製剤として用いてもよい。
ラビアゴム.ゼラチン,ソノレビトーノレ,トラガント
ゴム,ポリビニルビロリドンなど、充填剤例えばラクト
ース,糖類,とうもろこし澱粉,燐酸カルシウム,ソル
ビトール,グリシンなど、かったく剤例えばステアリン
酸マグネシウム,タルク.ポリエチレングリコール,シ
リカなど,崩かい剤例えば馬鈴薯澱粉などまたは湿潤剤
例えばナトリウムラウリルサルフエート等と適宜混合し
たのち、経口投与用の錠剤.カプセル剤,散剤.粉末と
することができる。錠剤.散剤等は自体公知の方法によ
ってフイルムコーティングすることもできる。経口用製
剤は、水性または油性懸濁液、溶液、乳濁液、シロップ
、エリキシルなどの液状製剤として用いてもよい。
また、これらの製剤に、例えば公知の酸化防止剤、防腐
剤、結合剤、湿潤剤、かったく剤、粘稠剤または風味剤
等の成分を混合してもよい。さらに、製剤に他の活性成
分(例えばβ−ラクタム系抗生物質)を混合してより広
いスペクトルの抗菌活性を示す製剤とすることもできる
。
剤、結合剤、湿潤剤、かったく剤、粘稠剤または風味剤
等の成分を混合してもよい。さらに、製剤に他の活性成
分(例えばβ−ラクタム系抗生物質)を混合してより広
いスペクトルの抗菌活性を示す製剤とすることもできる
。
化合物(I)またはその塩は、細菌感染症治療剤として
、例えば人や他の啼乳動物の呼吸器感染症、尿路感染症
、化膿性疾患、胆道感染症、腸内感染症、産婦人科感染
症、耳鼻科感染症、外科感染症等の治療及び予防に用い
ることができる。
、例えば人や他の啼乳動物の呼吸器感染症、尿路感染症
、化膿性疾患、胆道感染症、腸内感染症、産婦人科感染
症、耳鼻科感染症、外科感染症等の治療及び予防に用い
ることができる。
化合物(I)またはその塩の1日投与量は、患者の状態
や体重、投与の方法等により異なるが、非経口投与では
、成人体重1kg当り活性成分(化合物(1)またはそ
の塩)として約0.5から80mg,好ましくは約1−
から40mgであり、毎日1から4回に分けて静脈また
は筋肉内注射により投与するのが適当である。又経口投
与量は、l日当りlから4回にわけて成人の体重1kg
当り活性成分(化合物(I)またはその塩)約5から1
00mgが適当である。
や体重、投与の方法等により異なるが、非経口投与では
、成人体重1kg当り活性成分(化合物(1)またはそ
の塩)として約0.5から80mg,好ましくは約1−
から40mgであり、毎日1から4回に分けて静脈また
は筋肉内注射により投与するのが適当である。又経口投
与量は、l日当りlから4回にわけて成人の体重1kg
当り活性成分(化合物(I)またはその塩)約5から1
00mgが適当である。
化合物(1)またはその塩は次の方法で製造することが
できる。
できる。
製造法l
化合物(1)またはその塩は、一般式(II)[式中、
R!′はlないし2個の電子吸引性基で置換されたメチ
レン基を RFは水素原子または酸性条件下で除去可能
なカルポキシル基の保護基を、他の記号は前記と同意義
を示す1で表わされる化合物またはその塩を酸性条件下
でラクトン化反応させることにより製造される。
R!′はlないし2個の電子吸引性基で置換されたメチ
レン基を RFは水素原子または酸性条件下で除去可能
なカルポキシル基の保護基を、他の記号は前記と同意義
を示す1で表わされる化合物またはその塩を酸性条件下
でラクトン化反応させることにより製造される。
R!゛で示されるlないし2個の電子吸引性基で置換さ
れたメチレン基としては R2で示されるlないし2個
の電子吸引性基で置換されたメチル基のメチル基から水
素原子を1個除くことにより形成される基が用いられる
。
れたメチレン基としては R2で示されるlないし2個
の電子吸引性基で置換されたメチル基のメチル基から水
素原子を1個除くことにより形成される基が用いられる
。
酸性条件下で除去可能なカルボキシル基の保護基はβ−
ラクタム化合物の分野で従来十分確立されており、当業
者は任意に選択して用いることができる。酸性条件下で
除去されうるカルボキシル基の保護基としては、好まし
くは例えばp−メ:・キシペンジル,ペンズヒドリル.
トリチルなどのアラルキル基、メトキシメチル、メチル
チオメチル、テトラヒド口ビラ二ノ呟第3級ブチル等が
用いられる。
ラクタム化合物の分野で従来十分確立されており、当業
者は任意に選択して用いることができる。酸性条件下で
除去されうるカルボキシル基の保護基としては、好まし
くは例えばp−メ:・キシペンジル,ペンズヒドリル.
トリチルなどのアラルキル基、メトキシメチル、メチル
チオメチル、テトラヒド口ビラ二ノ呟第3級ブチル等が
用いられる。
化合物(III)またはその塩の構造式中、アミノ基,
ヒドロキシル基又はカルボキシル基等の反応性基が含ま
れる場合には、これらの基は下記する保護基により保護
されていてもよい。
ヒドロキシル基又はカルボキシル基等の反応性基が含ま
れる場合には、これらの基は下記する保護基により保護
されていてもよい。
化合物(I[[)の塩としては、塩基との塩が用いられ
る。これらの塩基塩としては化合物(1)の塩と同様の
ものが用いられる。
る。これらの塩基塩としては化合物(1)の塩と同様の
ものが用いられる。
本反応は通常、反応に悪影響のない溶媒中で行なわれる
。反応に悪影響のない溶媒としては、例えばホルムアミ
ド.ジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド等の
アミド類、ジクロ口メタン.クロロホノレム,1.2−
ジクロ口エタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ
ーテル,テトラヒドロ7ラン.ジオキサン等のエーテル
類、酢酸メチル,酢酸エチル,酢酸イソブチル.プロピ
オン酸メチル等のエステル類、アセトニトリル.プロビ
オニトリル等のニトリル類、ニトロメタン.ニトロエタ
ン等のニトロ化合物類、アセトン,メチルエチルケトン
等のケトン類、ベンゼン.トルエン等の芳香族炭化水素
類、メタノール,エタノール,プロパノール等のアルコ
ール類、水等が用いられ、これらは一種又は二種以上適
宜の割合で混合して用いてもよい。
。反応に悪影響のない溶媒としては、例えばホルムアミ
ド.ジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド等の
アミド類、ジクロ口メタン.クロロホノレム,1.2−
ジクロ口エタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ
ーテル,テトラヒドロ7ラン.ジオキサン等のエーテル
類、酢酸メチル,酢酸エチル,酢酸イソブチル.プロピ
オン酸メチル等のエステル類、アセトニトリル.プロビ
オニトリル等のニトリル類、ニトロメタン.ニトロエタ
ン等のニトロ化合物類、アセトン,メチルエチルケトン
等のケトン類、ベンゼン.トルエン等の芳香族炭化水素
類、メタノール,エタノール,プロパノール等のアルコ
ール類、水等が用いられ、これらは一種又は二種以上適
宜の割合で混合して用いてもよい。
水、または有機溶媒と水との混合溶媒中で行う場合は、
pH5以下で行うのが有利である。有機溶媒中で行う場
合は、酸を化合物(III)またはその塩に対して触媒
量から大過剰量を用いる。
pH5以下で行うのが有利である。有機溶媒中で行う場
合は、酸を化合物(III)またはその塩に対して触媒
量から大過剰量を用いる。
反応に用いられる酸としては、塩酸,臭化水素酸.[酸
,硝酸,リン酸等の無a!酸、ギ酸,酢酸,トリフル才
口酢酸,トリクロ口酢酸.メタンスルホン酸.p一トル
エンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が挙
げられる。
,硝酸,リン酸等の無a!酸、ギ酸,酢酸,トリフル才
口酢酸,トリクロ口酢酸.メタンスルホン酸.p一トル
エンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が挙
げられる。
反応の温度は、原料の化合物Cm)またはその塩、溶媒
,酸等の量,種類等によって異なるが、通常約−70か
ら100℃である。反応時間は1分から24f?間程度
である。
,酸等の量,種類等によって異なるが、通常約−70か
ら100℃である。反応時間は1分から24f?間程度
である。
原料の化合物(I[[)またはその塩は例えば英国特許
第134224号、ジャーナル オブ メデイシナル
ケミストリー (Journal of Medici
nal Chemistry) 18. 986 (
1975)に記載の方法またはそれに準じる方法等を用
いて製造できる。
第134224号、ジャーナル オブ メデイシナル
ケミストリー (Journal of Medici
nal Chemistry) 18. 986 (
1975)に記載の方法またはそれに準じる方法等を用
いて製造できる。
化合物(1)またはその塩は、一般式(IV)[式中、
Rlは水素原子またはエステル残基を、他の記号は前記
と同意義を示す]で表わされる化合物またはその塩を閉
環反応に付すことにより製造される。
Rlは水素原子またはエステル残基を、他の記号は前記
と同意義を示す]で表わされる化合物またはその塩を閉
環反応に付すことにより製造される。
Raで表わされるエステル残基としは、例えばメチル,
ブチル.第3級ブチル等の低級アルキル基、メトキシメ
チル.エトキシメチル.l一エトキシエチル等の低級ア
ルコキシ一低級アルキル基、メチルチオメチル,エチル
チオエチル等の低級アルキルー低級アルキル基、2−ヨ
ードエチル,2,2.2−1−リクロ口エチル等のモノ
(ジまたはトリ)ハロゲノー低級アルキル基、アセトキ
シメチル,ピバロイルオキシメチル等の低級アルカノイ
ルオキシ一低級アルキル基、ベンジル,p−メトキシベ
ンジル.p−ニトロベンジル,ペンズヒドリル等の置換
基を有していてもよいモノ(ジまたはトリ)フェニルー
低級アルキル基等が用いられる。
ブチル.第3級ブチル等の低級アルキル基、メトキシメ
チル.エトキシメチル.l一エトキシエチル等の低級ア
ルコキシ一低級アルキル基、メチルチオメチル,エチル
チオエチル等の低級アルキルー低級アルキル基、2−ヨ
ードエチル,2,2.2−1−リクロ口エチル等のモノ
(ジまたはトリ)ハロゲノー低級アルキル基、アセトキ
シメチル,ピバロイルオキシメチル等の低級アルカノイ
ルオキシ一低級アルキル基、ベンジル,p−メトキシベ
ンジル.p−ニトロベンジル,ペンズヒドリル等の置換
基を有していてもよいモノ(ジまたはトリ)フェニルー
低級アルキル基等が用いられる。
化合物(!V)またはそれらの塩の構造式中、アミノ基
.ヒドロキシル基又はカルポキシル基等の反応性基が含
まれる場合には、これらの基は下記する保護基によって
保護されていてもよい。
.ヒドロキシル基又はカルポキシル基等の反応性基が含
まれる場合には、これらの基は下記する保護基によって
保護されていてもよい。
原料化合物(IV)が塩基きの塩の場合は酸を加えて中
和した後、反応に供してもよい。
和した後、反応に供してもよい。
本反応は、通常反応に悪影響のない溶媒中で行われる。
反応に悪影響のない溶媒としては、前記のエーテル類、
エステル類、ハロゲン化炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類、アルコール類、水等が用いられる。。
エステル類、ハロゲン化炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類、アルコール類、水等が用いられる。。
反応を促進するために酸や縮合剤を加えてもよい。酸と
しては製造法lで用いられる無機酸および有機酸が用い
られる。また縮合剤としては、例tlfN,N−ジシク
ロへキシル力ルポジイミド、N−シクロへキシルーN−
モルホリノエチル力ルポジイミド、N一エチルーN−(
3−ジメチルアミノブロピル)カルポジイミド等が用い
られる。
しては製造法lで用いられる無機酸および有機酸が用い
られる。また縮合剤としては、例tlfN,N−ジシク
ロへキシル力ルポジイミド、N−シクロへキシルーN−
モルホリノエチル力ルポジイミド、N一エチルーN−(
3−ジメチルアミノブロピル)カルポジイミド等が用い
られる。
反応は約−lθ〜150゜Cの温度範囲で行われる。反
応時間は反応温度によって異なるが、通常lO分から7
0時間である。
応時間は反応温度によって異なるが、通常lO分から7
0時間である。
原料化合物(IV)またはその塩は自体公知の方法によ
り製造される。 例えば、3−ホルミルセ7エム化合物
[ヘルベチ力 チミ力 アクタ(Helvetica
Chimica Acta)57. 2044
(1974)に記載の方法で製造される]と、一般式
(V) M−R” (V) [式中、MはLi,Na,KまたはMgX,ZnX(X
はハロゲンを示す)等を示す1で表される有機金属化合
物とを反応させることにより製造される。
り製造される。 例えば、3−ホルミルセ7エム化合物
[ヘルベチ力 チミ力 アクタ(Helvetica
Chimica Acta)57. 2044
(1974)に記載の方法で製造される]と、一般式
(V) M−R” (V) [式中、MはLi,Na,KまたはMgX,ZnX(X
はハロゲンを示す)等を示す1で表される有機金属化合
物とを反応させることにより製造される。
Xで示されるハロゲンとしては、塩素.臭素.ヨウ素な
どが用いられる。
どが用いられる。
本反応は不活性溶媒中で行われる。不活性溶媒としては
、例えばジエチルエーテル,ジイソプロビルエーテル,
エチレングリコールジメチルエーテル,ジオキサン,テ
トラヒド口フラン,ジメトキシメタン等のエーテル類、
ベンゼン.ヘキサン等の炭化水素類等が用いられる。
、例えばジエチルエーテル,ジイソプロビルエーテル,
エチレングリコールジメチルエーテル,ジオキサン,テ
トラヒド口フラン,ジメトキシメタン等のエーテル類、
ベンゼン.ヘキサン等の炭化水素類等が用いられる。
反応は約−100〜30℃、好ましくは約−80〜θ℃
の温度範囲で行われる。反応時間は原料の3−ホルミル
セフェム化合物および有機金属化合物の種類や反応温度
によって異なるが通常1分から3時間である。有機金属
化合物は、3−ホルミルセフエム化合物1当量に対して
約lからlO当量用いる。
の温度範囲で行われる。反応時間は原料の3−ホルミル
セフェム化合物および有機金属化合物の種類や反応温度
によって異なるが通常1分から3時間である。有機金属
化合物は、3−ホルミルセフエム化合物1当量に対して
約lからlO当量用いる。
製造法3
また、化合物(1)またはその塩、一般式(Vl)[式
中の記号は上記と同意義を示す1で表わされる化合物ま
たはその塩と、一般式(■)R’OH
(■)[式中の記号は前記と同意義を示す]
で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体とを反応させることによって製造すること
ができる。
中の記号は上記と同意義を示す1で表わされる化合物ま
たはその塩と、一般式(■)R’OH
(■)[式中の記号は前記と同意義を示す]
で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体とを反応させることによって製造すること
ができる。
一般式(■)において Rlで示される置換分中にアミ
ノ基が存在する場合、このアミノ基は保護基で保護され
ていることが好ましく、このアミノ基の保護基としては
、例えばβ−ラクタムおよびペブチドの分野で使用され
るものが適宜に採用されうるが、なかでもホルミル.ク
ロロアセチル.フェニルアセチル,フェノキシアセチル
.第三級ブトキシカルポニル,ペンジルオキシカルポニ
ル.p−メトキシベンジルオキシ力ルポニル,p−ニト
ロペンジルオキシ力ルポニル,2−トリメチルシリルエ
トキシ力ルポニル.2,2.2 − 1− IJ クロ
ロエトキシ力ルポニル,トリチル等が好ましい。
ノ基が存在する場合、このアミノ基は保護基で保護され
ていることが好ましく、このアミノ基の保護基としては
、例えばβ−ラクタムおよびペブチドの分野で使用され
るものが適宜に採用されうるが、なかでもホルミル.ク
ロロアセチル.フェニルアセチル,フェノキシアセチル
.第三級ブトキシカルポニル,ペンジルオキシカルポニ
ル.p−メトキシベンジルオキシ力ルポニル,p−ニト
ロペンジルオキシ力ルポニル,2−トリメチルシリルエ
トキシ力ルポニル.2,2.2 − 1− IJ クロ
ロエトキシ力ルポニル,トリチル等が好ましい。
またヒドロキシル基の存在する場合、このヒドロキシル
基は保護されていることが好ましく、このヒドロキシル
基の保護基としては、例えばクロロアセチル.ベンジル
,p−ニトロベンジル.メチルチオメチル,トリメチル
シリル,第三級プチルジメチルシリル.2−テトラヒド
口ピラニル.4−メトキシ−4−テトラヒド口ピラニル
等が用いられる。
基は保護されていることが好ましく、このヒドロキシル
基の保護基としては、例えばクロロアセチル.ベンジル
,p−ニトロベンジル.メチルチオメチル,トリメチル
シリル,第三級プチルジメチルシリル.2−テトラヒド
口ピラニル.4−メトキシ−4−テトラヒド口ピラニル
等が用いられる。
さらにカルポキシル基が存在する場合、この力ルポキシ
ル基は保護されていることが好ましく、このカルポキシ
ル基の保護基としてはベンジル.ベンズヒドリル,トリ
チル.p−メトキシベンジル,p−ニトロベンジル,第
三級ブチル等が用いられる。
ル基は保護されていることが好ましく、このカルポキシ
ル基の保護基としてはベンジル.ベンズヒドリル,トリ
チル.p−メトキシベンジル,p−ニトロベンジル,第
三級ブチル等が用いられる。
化合物(■)のカルボキシル基における反応性誘導体と
しては、例えば常法に従って製造することができる酸ハ
ライド.酸無水物,活性アミド,活性エステル,活性チ
オエステル等が用いられ、このような反応性誘導体を具
体的に述べると次のとおりである。
しては、例えば常法に従って製造することができる酸ハ
ライド.酸無水物,活性アミド,活性エステル,活性チ
オエステル等が用いられ、このような反応性誘導体を具
体的に述べると次のとおりである。
l)酸ハライド:
例えば酸クロリド,酸プロミド等が用いられる。
2)酸無水物:
例えばモノ低級アルキル炭酸混合無水物等が用いられる
。
。
3)活性アミド:
例えばピラゾール.イミダゾール,4一置換イミダゾー
ル,ジメチルピラゾール,ペンゾトリアゾール等とのア
ミドが用いられる。
ル,ジメチルピラゾール,ペンゾトリアゾール等とのア
ミドが用いられる。
4)活性エステル:
例えばメトキシメチルエステル.ペンゾトリアゾールエ
ステル,4−ニトロフエニルエステル,2.4−ジニト
ロフェニルエステル.トリクロロフエニルエステル.ペ
ンタクロ口フエニルエステル等のエステルのほか、l−
ヒドロキシ−IH−2−ピリドン,N−ヒドロキシサク
シンイミド,N−ヒドロキシフタルイミド等とのエステ
ル等が用いられる。
ステル,4−ニトロフエニルエステル,2.4−ジニト
ロフェニルエステル.トリクロロフエニルエステル.ペ
ンタクロ口フエニルエステル等のエステルのほか、l−
ヒドロキシ−IH−2−ピリドン,N−ヒドロキシサク
シンイミド,N−ヒドロキシフタルイミド等とのエステ
ル等が用いられる。
5)活性チオエステル:
例えば2−ピリジルチオール.2−ペンゾチアゾリルチ
オールなどの複素環チオール等とのチオエステル等が用
いられる。
オールなどの複素環チオール等とのチオエステル等が用
いられる。
原料の化合物(Vl+)の塩としては、化合物(1)の
塩と同様のものが用いられる。
塩と同様のものが用いられる。
本反応では化合物(■)またはそのカルボキシル基にお
ける反応性誘導体は化合物(Vl)またはその塩1モル
に対してlモル以上、好ましくは約lから4モル用いる
。
ける反応性誘導体は化合物(Vl)またはその塩1モル
に対してlモル以上、好ましくは約lから4モル用いる
。
本反応は通常は反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行な
われる。溶媒としては、例えば水、アセトン等のケトン
類、テトラヒド口フラン,ジオキサン等のエーテル類、
アセトニトリル等のニトリル類、シクロ口メタン,クロ
ロホルム.l,2−ジクロ口エタン等のハロゲン化炭化
水素類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムア
ミド,ジメチルアセトアミド等のアミド類等が用いられ
、これらは一種又は二種以上適当な割合で混合して用い
てもよい。
われる。溶媒としては、例えば水、アセトン等のケトン
類、テトラヒド口フラン,ジオキサン等のエーテル類、
アセトニトリル等のニトリル類、シクロ口メタン,クロ
ロホルム.l,2−ジクロ口エタン等のハロゲン化炭化
水素類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムア
ミド,ジメチルアセトアミド等のアミド類等が用いられ
、これらは一種又は二種以上適当な割合で混合して用い
てもよい。
化合物(■)またはその塩を遊離のまま、またはその塩
で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を行なうの
が好ましい。縮合剤としては,例えばN,N−ジシクロ
へキシルカノレポジイミド,N−シクロへキシルーN−
モルホリノエチル力ルポジイミド,N−シクロヘキシル
ーN−(4−ジエチルアミノシク口ヘキシル)カルポジ
イミド,N−エチルーN−(3−ジメチルアミノプロビ
ル)カルボジイミド等が用いられる。また、例えば炭酸
ナトリウム.炭酸カリウム.炭酸水素ナトリウム,炭酸
水素カリウム等の炭酸アルカリ金属、例えばトリエチル
アミン,トリブチルアミン.N−メチルモルホリン.N
−メチルピペリジン,N,N−ジメチルアニリン等の三
級アミン,例えばピリジン.ピコリン,ルチジン.コリ
ジン等のピリジン類等の塩基の存在下に反応を行なうこ
ともできる。これらの塩基は反応を促進するかあるいは
反応で生成する酸を中和するな効果があり、通常化合物
(Vl)またはその塩に対して約0.OlからlO倍モ
ル、好ましくは約0.1から5倍モル用いられる。反応
温度はとくに限定されないが、通常約−30から50℃
で行なわれることが多い。反応時間は数分から数十時間
程度(例えば5分から30時間など)である。
で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を行なうの
が好ましい。縮合剤としては,例えばN,N−ジシクロ
へキシルカノレポジイミド,N−シクロへキシルーN−
モルホリノエチル力ルポジイミド,N−シクロヘキシル
ーN−(4−ジエチルアミノシク口ヘキシル)カルポジ
イミド,N−エチルーN−(3−ジメチルアミノプロビ
ル)カルボジイミド等が用いられる。また、例えば炭酸
ナトリウム.炭酸カリウム.炭酸水素ナトリウム,炭酸
水素カリウム等の炭酸アルカリ金属、例えばトリエチル
アミン,トリブチルアミン.N−メチルモルホリン.N
−メチルピペリジン,N,N−ジメチルアニリン等の三
級アミン,例えばピリジン.ピコリン,ルチジン.コリ
ジン等のピリジン類等の塩基の存在下に反応を行なうこ
ともできる。これらの塩基は反応を促進するかあるいは
反応で生成する酸を中和するな効果があり、通常化合物
(Vl)またはその塩に対して約0.OlからlO倍モ
ル、好ましくは約0.1から5倍モル用いられる。反応
温度はとくに限定されないが、通常約−30から50℃
で行なわれることが多い。反応時間は数分から数十時間
程度(例えば5分から30時間など)である。
上記の製造法3において、用いられる原料化合物(Vl
)またはその塩は、例えば一般式(■)c式中、R9は
アミノ基の保護基を、他の記号は前記き同意義を示す】
で表わされる化合物またはその塩のアミノ基の保護基を
除去することなどによって製造することができる。この
脱保護基反応は、加水分解による方法;還元による方法
;ルイス酸を使用する方法:化合物(■)またはその塩
をイミノハロゲン化剤、次いでイミノエーテル化剤と反
応させ、必要に応じて、生成する化合物を加水分解に付
す方法等の自体公知の方法により実施される。
)またはその塩は、例えば一般式(■)c式中、R9は
アミノ基の保護基を、他の記号は前記き同意義を示す】
で表わされる化合物またはその塩のアミノ基の保護基を
除去することなどによって製造することができる。この
脱保護基反応は、加水分解による方法;還元による方法
;ルイス酸を使用する方法:化合物(■)またはその塩
をイミノハロゲン化剤、次いでイミノエーテル化剤と反
応させ、必要に応じて、生成する化合物を加水分解に付
す方法等の自体公知の方法により実施される。
また原料化合物(■)およびその反応性誘導体は自体公
知の方法または公知の方法によって製造することができ
る。
知の方法または公知の方法によって製造することができ
る。
製造法4
化合物(I)またはその塩は、一般式(II)[式中、
記号は前記と同意義を示す]で表される化合物と、一般
式(V) M−R” (V) [式中、記号は前記と同意義を示す]で表される有機金
属化合物とを反応させ、ついで酸で処理することにより
得られる。
記号は前記と同意義を示す]で表される化合物と、一般
式(V) M−R” (V) [式中、記号は前記と同意義を示す]で表される有機金
属化合物とを反応させ、ついで酸で処理することにより
得られる。
本反応は不活性溶媒中で行われる。不活性溶媒としては
、例えばジエチルエーテル、ジイソプ口ピルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテノレ、ジオキサン、
テトラヒド口7ラン、ジメトキシメタン等のエーテル類
、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素類等が用いられる。
、例えばジエチルエーテル、ジイソプ口ピルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテノレ、ジオキサン、
テトラヒド口7ラン、ジメトキシメタン等のエーテル類
、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素類等が用いられる。
反応は約−100〜30℃、好ましくは約−80〜0゜
Cの温度範囲で行われる。反応時間は原料の化合物(I
!)および有機金属化合物の種類や反応温度によって異
なるが通常1分から3時間である。有機金属化合物は、
化合物(If) 1当量に対して約1から10当量用い
る。
Cの温度範囲で行われる。反応時間は原料の化合物(I
!)および有機金属化合物の種類や反応温度によって異
なるが通常1分から3時間である。有機金属化合物は、
化合物(If) 1当量に対して約1から10当量用い
る。
反応に用いられる酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸
、硝酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオ口
酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、p−}ルエ
ンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
、硝酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオ口
酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、p−}ルエ
ンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
原料化合物(II)またはその塩は、例えば特開昭49
−124091に記載の方法またはそれに準じる方法等
を用いて製造できる。
−124091に記載の方法またはそれに準じる方法等
を用いて製造できる。
上記の製造法1,2.3および4によって得られる反応
生成物は自体公知の手段、例えば溶媒抽出,液性変換,
転溶,塩析,晶出,再結晶,クロマトグラフィー等によ
って単離精製することができる。
生成物は自体公知の手段、例えば溶媒抽出,液性変換,
転溶,塩析,晶出,再結晶,クロマトグラフィー等によ
って単離精製することができる。
また反応生成物中に保護基が含まれている場合には、そ
の保護基は当技術分野で周知の方法により除去すること
により化合物(I)またはその塩が得られる。すなわち
β−ラクタム.ベプチド合成の分野でアミノ,ヒドロキ
シルまたはカルボキシルの保護基は十分研究され、保護
の方法及び脱保護の方法は確立されている。例えば該保
護基を除去する方法としては、酸による方法,塩基によ
る方法,ヒドラジンによる方法.還元による方法,N−
メチルジチオカルバミン酸ナトリウムによる方法等の公
知の手段を適宜選択して用いることができる。
の保護基は当技術分野で周知の方法により除去すること
により化合物(I)またはその塩が得られる。すなわち
β−ラクタム.ベプチド合成の分野でアミノ,ヒドロキ
シルまたはカルボキシルの保護基は十分研究され、保護
の方法及び脱保護の方法は確立されている。例えば該保
護基を除去する方法としては、酸による方法,塩基によ
る方法,ヒドラジンによる方法.還元による方法,N−
メチルジチオカルバミン酸ナトリウムによる方法等の公
知の手段を適宜選択して用いることができる。
また、上記製造法1.2.3および4によって得られる
反応生成物(1)は、通常ジアステレオアイソマー混合
物として得られる。これらの混合物は、分別再結晶また
はカラムクロマトグラフィーによって分類されうる。
反応生成物(1)は、通常ジアステレオアイソマー混合
物として得られる。これらの混合物は、分別再結晶また
はカラムクロマトグラフィーによって分類されうる。
以下、本明細書中で化合物(I)について述べるときは
、特にことわらない限りジアステレオマー混合物を意味
する。
、特にことわらない限りジアステレオマー混合物を意味
する。
上記製造法1.2.38よび4において、化合物(I)
(シン[2]一体)がそのアンチ[E]一異性体との混
合物として得られる場合がある。混合物から所望のシン
異性体(即ち化合物(I)またはその塩)を分離するに
は自体公知の方法またはそれに準ずる方法が適用される
。それらの方法としては例えば溶解性,結晶性などの差
を利用した分別法,クロマトグラ7イーによる分離法等
が用いられる。
(シン[2]一体)がそのアンチ[E]一異性体との混
合物として得られる場合がある。混合物から所望のシン
異性体(即ち化合物(I)またはその塩)を分離するに
は自体公知の方法またはそれに準ずる方法が適用される
。それらの方法としては例えば溶解性,結晶性などの差
を利用した分別法,クロマトグラ7イーによる分離法等
が用いられる。
また得られる化合物が1−オキシドの場合、即ち一般式
(I)においてnが1の場合、還元することによってス
ル7イド体[一般式(1)においてnが0]へ変換でき
る。ここに用いられる還元剤としては、例えば還元性無
機塩(チオ硫酸塩、ヨウ化物、二価スズ塩、鉄塩等)、
リン化合物(三ハロゲン化リン,5硫化リン,ホスフィ
ン等)、水素化物(水素化ホウ素ナトリウム等)が挙げ
られる。
(I)においてnが1の場合、還元することによってス
ル7イド体[一般式(1)においてnが0]へ変換でき
る。ここに用いられる還元剤としては、例えば還元性無
機塩(チオ硫酸塩、ヨウ化物、二価スズ塩、鉄塩等)、
リン化合物(三ハロゲン化リン,5硫化リン,ホスフィ
ン等)、水素化物(水素化ホウ素ナトリウム等)が挙げ
られる。
?発明の効果)
本発明の化合物(I)またはその塩はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人およ.び動物における病原性細菌に
より生ずる種々の疾病の予防ならびに治療のために使用
されうる。
抗菌活性を有し、人およ.び動物における病原性細菌に
より生ずる種々の疾病の予防ならびに治療のために使用
されうる。
以下に参考例,実施例,試験例で本発明をさらに詳しく
説明する。しかしこれらは単なる例であって本発明を何
ら限定するものではない。
説明する。しかしこれらは単なる例であって本発明を何
ら限定するものではない。
以下の参考例、実施例のカラムクロマトグラフィーにお
ける溶出はTLC(薄層クロマトグラフィー)による観
察下に行なわれた。TLC観察においては、TLCプレ
ートとしてメルク(Merck)社製(7)60F■.
を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラ7イーで溶出
溶媒として用いられた溶媒を、検出法としてUV検出器
を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製の
キーゼルゲル60(70〜230メッシュ)を用いた。
ける溶出はTLC(薄層クロマトグラフィー)による観
察下に行なわれた。TLC観察においては、TLCプレ
ートとしてメルク(Merck)社製(7)60F■.
を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラ7イーで溶出
溶媒として用いられた溶媒を、検出法としてUV検出器
を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製の
キーゼルゲル60(70〜230メッシュ)を用いた。
“セ7アデックス“はファルマシア・ファイン・ケミカ
ルズ社(Pharmacia Fine Chem
icals)製である。
ルズ社(Pharmacia Fine Chem
icals)製である。
XAD一II 樹脂はローム・アンド・ハース社( R
ohm& Hass Co.)製である。HP−20
樹脂は三菱化成製である。NMRスペクトルは内部また
は外部基準としてテトラメチルシランを用いてEM3
9 0(9 0MHz)型およびGEMINI 20
0 (200MHz)型スペクトロメーターで測定し、
全δ値をppmで示した。クロマトグラフィーで用い
られる混合溶媒において( )内に示した数値は各溶媒
の容量混合比である。%は特記ない場合は重量バーセン
トを示す。
ohm& Hass Co.)製である。HP−20
樹脂は三菱化成製である。NMRスペクトルは内部また
は外部基準としてテトラメチルシランを用いてEM3
9 0(9 0MHz)型およびGEMINI 20
0 (200MHz)型スペクトロメーターで測定し、
全δ値をppmで示した。クロマトグラフィーで用い
られる混合溶媒において( )内に示した数値は各溶媒
の容量混合比である。%は特記ない場合は重量バーセン
トを示す。
参考例、実施例中の記号は次のような意味を有する。
S:シングレット,d:ダブレット,t:トリプレット
q:クワルテット,ABQeAB型クヮルテットddニ
ダプノレ ダブレット,m:マノレチプレットb『.二
幅広い,J:カップリング定数sh: ショルダー 参考例l 4−メトキシベンジル 7β−フェニルアセトアミF−
3− (トリフェニルホスホニオ)メチル−3−セフエ
ム−4−カルポキシレート アイオダイド41.4gを
ジクロ口メタン300mQと水150dの混液に溶かし
、かき混ぜながらピルビンアルデヒド40′%水溶液2
00gを加えた後、20%炭酸ナトリウム水溶液でpH
9.0〜9.5に調整した。反応液は室温で2時間かき
混ぜた後、IN塩酸でpH7に調整した。有機層を分取
し、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減
圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲル(800g
)カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとジク
ロ口メタンの混液(1:9)で溶出した。溶出液を減圧
下に濃縮乾固し、得られた固体を酢酸エチルーヘキサン
から再結晶すると目的物のシス体とトランス体のl対l
の混合物が無色固体として4.87g得られた。母液を
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲル(100g)カラ
ムクロマトグラ7イーに付し、酢酸エチルとジクロ口メ
タンの混液(1:9)で溶出した。溶出液を減圧下に濃
縮し、残留物をエーテルで処理すると4−メトキシベン
ジル 3−[(Z)−3オキソーl−ブテニルl−7β
−7ェニルアセト?ミドー3−セ7エム−4−カルポキ
シレートが淡黄色固体として3.07g得られた。融点
II9〜121’O(分解) 夏 R (KBr) cm−’: 3270.3
030.2960.l775.l?10.N M R
(CDCIs)δ: 2.19(3H,s). 3.3
3(IH,d,J48Hz), 3.62(IH,d,
J=18Hz). 3.64(2H, ABq.J=
16Hz). 3.80(3H,s). 5.01(I
H,d,J=5Hz), 5.14(2H.ABq.
J=12Hz).5.85(IH,dd,J=5&9
Hz).6.16(IH,d, J=9Hz).6.1
9(IH,d, J=12Hz).6−74(IH,
J■1 2Hz) ,6.87(IH,d, J■9H
z) . 7 .31(2H, d , J =9Hz
) . 7.2〜7.4(5H,01) 元素分析値: C,,H,.N.O.S−0.4H!O
として計算値(%) : C,63.12; H,5
.26; N,5.45実測値(%) : c,fl:
3.o6; H.5.11; N.5.23一方、上記
のシス体とトランス体の混合物(l:1)4.8gをク
ロロホルム25mαに溶解し、水冷下に塩化水素を飽和
したクロロホルム溶液1ml2を加え3時間かき混ぜた
。減圧下に溶媒を留去し、残留物を酢酸エチルとヘキサ
ンから再結晶すると4−メトキシベンジル 3− [(
E)−3−オキソーl−ブテニル1−7β−フェニルア
セトアミドー3−セフェム−4−カルポキシレートが淡
黄色固体として3.4g得られた。融点179〜182
°C(分解) I R (KBr) cm−’: 3270.3030
.2960.l780.l710,1670.1610 N M R (CDC13)δ: 2.22(3H,s
),3−45(IH,d,J=18Hz). 3.59
(IH,d,J=18Hz).3−65(2H,ABq
.J=17Hz).3.81(3H.s), 4.97
(IH,d.J=5Hz), 5.25(2H,ABq
.J=12Hz), 5.88(IH,dd,J=5&
9Hz), fi.23(IH,d,J=16Hz).
6.24(lH.d,J=9Hz).6.90(2H
,d,J=9Hz).7.2−7.4(7H, m),
7.75(IH,d,J=16Hz)元素分析値’Cz
tHtsNzOsSとして計算値(%) : C,64
.02; H.5.l7; N.5.53実測値(%)
: C,63.71; H.5.ll; N.5。3
6参考例2 4−メトキシベンジル 7β−7ェニルアセトアミド−
3−(トリフエニルホスホニオ)メチル−3−セ7エム
ー4−カルポキシレート アイオダイド8.29gをジ
クロ口メタン60ml2と水30ml2の混液に溶かし
、7エニルグリオキサールー水和物10.0gを加えた
後20%炭酸ナトリウム水溶液でpH9.0〜9.5に
調整し、室温で30分間かき混ぜた。IN塩酸で中和し
有機層を分取し、食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル(2 5 0 g)カラムクロマトグラフィーに付
し、ジクロ口メタンと酢酸エチルの混液(9:l)で溶
出した。溶出液を濃縮乾固し、残留物をエーテルで洗浄
すると4−メトキシベンジル3−(2−ベンゾイルビニ
ル)−7β−7ェニルアセトアミド−3−セフェム−4
一カノレボキシレートのシス体とトランス体の混合物(
約3:I)が淡黄色固体として2.50g得られた。
q:クワルテット,ABQeAB型クヮルテットddニ
ダプノレ ダブレット,m:マノレチプレットb『.二
幅広い,J:カップリング定数sh: ショルダー 参考例l 4−メトキシベンジル 7β−フェニルアセトアミF−
3− (トリフェニルホスホニオ)メチル−3−セフエ
ム−4−カルポキシレート アイオダイド41.4gを
ジクロ口メタン300mQと水150dの混液に溶かし
、かき混ぜながらピルビンアルデヒド40′%水溶液2
00gを加えた後、20%炭酸ナトリウム水溶液でpH
9.0〜9.5に調整した。反応液は室温で2時間かき
混ぜた後、IN塩酸でpH7に調整した。有機層を分取
し、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減
圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲル(800g
)カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとジク
ロ口メタンの混液(1:9)で溶出した。溶出液を減圧
下に濃縮乾固し、得られた固体を酢酸エチルーヘキサン
から再結晶すると目的物のシス体とトランス体のl対l
の混合物が無色固体として4.87g得られた。母液を
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲル(100g)カラ
ムクロマトグラ7イーに付し、酢酸エチルとジクロ口メ
タンの混液(1:9)で溶出した。溶出液を減圧下に濃
縮し、残留物をエーテルで処理すると4−メトキシベン
ジル 3−[(Z)−3オキソーl−ブテニルl−7β
−7ェニルアセト?ミドー3−セ7エム−4−カルポキ
シレートが淡黄色固体として3.07g得られた。融点
II9〜121’O(分解) 夏 R (KBr) cm−’: 3270.3
030.2960.l775.l?10.N M R
(CDCIs)δ: 2.19(3H,s). 3.3
3(IH,d,J48Hz), 3.62(IH,d,
J=18Hz). 3.64(2H, ABq.J=
16Hz). 3.80(3H,s). 5.01(I
H,d,J=5Hz), 5.14(2H.ABq.
J=12Hz).5.85(IH,dd,J=5&9
Hz).6.16(IH,d, J=9Hz).6.1
9(IH,d, J=12Hz).6−74(IH,
J■1 2Hz) ,6.87(IH,d, J■9H
z) . 7 .31(2H, d , J =9Hz
) . 7.2〜7.4(5H,01) 元素分析値: C,,H,.N.O.S−0.4H!O
として計算値(%) : C,63.12; H,5
.26; N,5.45実測値(%) : c,fl:
3.o6; H.5.11; N.5.23一方、上記
のシス体とトランス体の混合物(l:1)4.8gをク
ロロホルム25mαに溶解し、水冷下に塩化水素を飽和
したクロロホルム溶液1ml2を加え3時間かき混ぜた
。減圧下に溶媒を留去し、残留物を酢酸エチルとヘキサ
ンから再結晶すると4−メトキシベンジル 3− [(
E)−3−オキソーl−ブテニル1−7β−フェニルア
セトアミドー3−セフェム−4−カルポキシレートが淡
黄色固体として3.4g得られた。融点179〜182
°C(分解) I R (KBr) cm−’: 3270.3030
.2960.l780.l710,1670.1610 N M R (CDC13)δ: 2.22(3H,s
),3−45(IH,d,J=18Hz). 3.59
(IH,d,J=18Hz).3−65(2H,ABq
.J=17Hz).3.81(3H.s), 4.97
(IH,d.J=5Hz), 5.25(2H,ABq
.J=12Hz), 5.88(IH,dd,J=5&
9Hz), fi.23(IH,d,J=16Hz).
6.24(lH.d,J=9Hz).6.90(2H
,d,J=9Hz).7.2−7.4(7H, m),
7.75(IH,d,J=16Hz)元素分析値’Cz
tHtsNzOsSとして計算値(%) : C,64
.02; H.5.l7; N.5.53実測値(%)
: C,63.71; H.5.ll; N.5。3
6参考例2 4−メトキシベンジル 7β−7ェニルアセトアミド−
3−(トリフエニルホスホニオ)メチル−3−セ7エム
ー4−カルポキシレート アイオダイド8.29gをジ
クロ口メタン60ml2と水30ml2の混液に溶かし
、7エニルグリオキサールー水和物10.0gを加えた
後20%炭酸ナトリウム水溶液でpH9.0〜9.5に
調整し、室温で30分間かき混ぜた。IN塩酸で中和し
有機層を分取し、食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲル(2 5 0 g)カラムクロマトグラフィーに付
し、ジクロ口メタンと酢酸エチルの混液(9:l)で溶
出した。溶出液を濃縮乾固し、残留物をエーテルで洗浄
すると4−メトキシベンジル3−(2−ベンゾイルビニ
ル)−7β−7ェニルアセトアミド−3−セフェム−4
一カノレボキシレートのシス体とトランス体の混合物(
約3:I)が淡黄色固体として2.50g得られた。
融点177〜179℃(分解)
I R (KBr) cm−’: 3430.3260
.l780.l715.1655.1540.1515 シス体のN M R (CDCI .)δ: 3.48
(2H.ABq,J=18Hz).3.64(2H,A
Bq.J=4Hz).3.79(3H,s).4.97
(IH,d,J=5Hz), 5.12(2H.ABq
.J−12Hz). 5.84(IH,dd,C5&9
Hz), 6.14(IH,d,J=9Hz). 6.
82(lH.d,J=12Hz).6.84(2H,d
,J=91{z). 7.04(IH,d,J42Hz
). 7.2−7.9(12H, m) 元素分析値: C 32H zaN to asとして
計算値(%) : C.67.59; H,4.96;
N,4.93実測値(%): C.67.40; H
.4.93; N.4.76参考例3 4−メトキシベンジル 7β−7エニルアセトアミド−
3−(トリフェニルホスホニオ)メチル−3−セフェム
−4一カルポキシレート アイオダイド4.76gをク
ロロホルム70raQと酢酸エチル80dの混液に溶か
し、IN水酸化ナトリウム水溶液を20.5aQを加え
て10分間かき混ぜた。有機層を分取し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。得られた溶液にケトマロン酸ジエ
チル10gを加え、30分間かき混ぜた後、減圧下溶媒
を留去した。残留物をシリカゲル(2 0 0 g)カ
ラムクロマトグラフイーに付し、ジクロ口メタンと酢酸
エチルの混液(9:1)で溶出した。得?れた粗生成物
をジクロ口メタンとエーテルで再沈澱すると4−メトキ
シベンジル 3− [2.2−ビス(エトキシ力ルポニ
ル)ヒニル]−7β−7エニルアセトアミド−3−セフ
エム−4−カルポキシレートが無色固体として2.lO
g得られた。融点164〜168℃ I R (KBr) cm−’: 3430.3270
.2970.l780,1730.1710.1655
,1615.1535.1520N M R (CDC
I.)δ: 1.29(6H,t,J■7Hz), 3
.45(2H,ABq. J48Hz) . 3.64
(2H, ABq, J=15Hz) . 3.80(
3H , s).4.25(2H.q,J=7Hz).
4.26(2H.q.J=7Hz).4.80(IH,
d, J=5Hz).5.20(2H,s).5.86
(IH,dd, J=5&9Hz).6.08(IH,
d,J=9Hz).6.88(2H,a,J=9Hz)
.7.2−7.4(7H,m).7.71(IH,s) 元素分析値: C s r H s z N ! O
* S・0.3H ,o計算値(%): C,61.1
7; H.5.30; N.4.60実測値(%) :
C,60.78; H.5.25i N.4.63参
考例4 亜鉛顆粒(2%塩酸、水、エタノール、アセトン、乾燥
エーテルで順次洗浄し、真空下100℃で乾燥したもの
)3.6gと乾燥ジメトキシメタン50dの混合物に、
ヨウ素少量とブロモ酢酸エチル5.6m<1を加え、2
時間加熱還流した。生成した淡黄色溶液を氷冷し、撹拌
しながらジ7エニルメチル 3−ホルミル−7β−フェ
ニルアセトアミドー2−セフェム−4−カルポキシレー
ト2.56g加えて同温度で10分間撹拌した。氷冷し
た0.5N塩酸200+nQを加えて撹拌し、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をシリカゲル(long)カラムクロマト
グラフフィーに付し、ジクロ口メタンと酢酸エチルの混
液(4:l)で溶出した。溶出液を減圧下に濃縮し、残
留物にジエチルエーテル5mQを加え、撹拌しながらヘ
キサンlowQを加えた。あめ状物が生成したので、デ
カンテーションにより上溝を取り除き、真空乾燥すると
ジフエニルメチル 3−(2−エトキシ力ルポニル=1
−ヒドロキシエチル)−7β−7エニルアセトアミド−
2−セフエム−4一カルボ?シレート(ジアステレオマ
ー混合物、約l=1)が淡黄色固体として2− 18g
得られた。
.l780.l715.1655.1540.1515 シス体のN M R (CDCI .)δ: 3.48
(2H.ABq,J=18Hz).3.64(2H,A
Bq.J=4Hz).3.79(3H,s).4.97
(IH,d,J=5Hz), 5.12(2H.ABq
.J−12Hz). 5.84(IH,dd,C5&9
Hz), 6.14(IH,d,J=9Hz). 6.
82(lH.d,J=12Hz).6.84(2H,d
,J=91{z). 7.04(IH,d,J42Hz
). 7.2−7.9(12H, m) 元素分析値: C 32H zaN to asとして
計算値(%) : C.67.59; H,4.96;
N,4.93実測値(%): C.67.40; H
.4.93; N.4.76参考例3 4−メトキシベンジル 7β−7エニルアセトアミド−
3−(トリフェニルホスホニオ)メチル−3−セフェム
−4一カルポキシレート アイオダイド4.76gをク
ロロホルム70raQと酢酸エチル80dの混液に溶か
し、IN水酸化ナトリウム水溶液を20.5aQを加え
て10分間かき混ぜた。有機層を分取し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。得られた溶液にケトマロン酸ジエ
チル10gを加え、30分間かき混ぜた後、減圧下溶媒
を留去した。残留物をシリカゲル(2 0 0 g)カ
ラムクロマトグラフイーに付し、ジクロ口メタンと酢酸
エチルの混液(9:1)で溶出した。得?れた粗生成物
をジクロ口メタンとエーテルで再沈澱すると4−メトキ
シベンジル 3− [2.2−ビス(エトキシ力ルポニ
ル)ヒニル]−7β−7エニルアセトアミド−3−セフ
エム−4−カルポキシレートが無色固体として2.lO
g得られた。融点164〜168℃ I R (KBr) cm−’: 3430.3270
.2970.l780,1730.1710.1655
,1615.1535.1520N M R (CDC
I.)δ: 1.29(6H,t,J■7Hz), 3
.45(2H,ABq. J48Hz) . 3.64
(2H, ABq, J=15Hz) . 3.80(
3H , s).4.25(2H.q,J=7Hz).
4.26(2H.q.J=7Hz).4.80(IH,
d, J=5Hz).5.20(2H,s).5.86
(IH,dd, J=5&9Hz).6.08(IH,
d,J=9Hz).6.88(2H,a,J=9Hz)
.7.2−7.4(7H,m).7.71(IH,s) 元素分析値: C s r H s z N ! O
* S・0.3H ,o計算値(%): C,61.1
7; H.5.30; N.4.60実測値(%) :
C,60.78; H.5.25i N.4.63参
考例4 亜鉛顆粒(2%塩酸、水、エタノール、アセトン、乾燥
エーテルで順次洗浄し、真空下100℃で乾燥したもの
)3.6gと乾燥ジメトキシメタン50dの混合物に、
ヨウ素少量とブロモ酢酸エチル5.6m<1を加え、2
時間加熱還流した。生成した淡黄色溶液を氷冷し、撹拌
しながらジ7エニルメチル 3−ホルミル−7β−フェ
ニルアセトアミドー2−セフェム−4−カルポキシレー
ト2.56g加えて同温度で10分間撹拌した。氷冷し
た0.5N塩酸200+nQを加えて撹拌し、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をシリカゲル(long)カラムクロマト
グラフフィーに付し、ジクロ口メタンと酢酸エチルの混
液(4:l)で溶出した。溶出液を減圧下に濃縮し、残
留物にジエチルエーテル5mQを加え、撹拌しながらヘ
キサンlowQを加えた。あめ状物が生成したので、デ
カンテーションにより上溝を取り除き、真空乾燥すると
ジフエニルメチル 3−(2−エトキシ力ルポニル=1
−ヒドロキシエチル)−7β−7エニルアセトアミド−
2−セフエム−4一カルボ?シレート(ジアステレオマ
ー混合物、約l=1)が淡黄色固体として2− 18g
得られた。
融点98〜102℃
I R (KBr) am−’二 3420.3
060.3030.2980.2930,1780.l
740.l670.l530N M R (CDCIs
)δ: 1.23 (3H.t,J=7Hz),2.4
1 (0.5H,dd,J■4&l6Hz). 2.4
2 (0.5H,dd,J■9&l6Hz).2.55
(0.5H,dd,J=9&l6Hz). 2.55
(0.5H,dd,J=4&16Hz). 3.20(
IH,br.s), 3.63 (2H,s). 4.
12(2B,q.J=7 Hz). 4.5−4.6(
IH,a+). 5.02 (0.5H,s),5.1
1(0.5H,d,J=4Hz), 5.13 (0.
5H,d,J=4Hz),5.21(0.5H,s).
5.55(0.5H,dd,J=4&7Hz), 5
.59(0.5H,dd,J=4&7Hz). 6.2
3(0.5H,s). 6.2=6.3(IH,m),
6.38(0.5H,s). 6.87(IH,s)
. 7.2〜7.4(15H,m) 元素分析値: CssHsxNzOtS ・0.8Hx
Oとして計算値(%’) : C,64.44; H.
5.51; N.4.55実測値(%) :C.64.
47; H.5.23; N.4.44参考例5 無水テトラヒド口フラン(以下THFと略す)6ml2
を−78°Cに冷却し、n−ブチルリチウム(1.6M
ヘキサン溶液)6mffを加え、かき混ぜながらアセト
ニト・リル0.6mQのTHF溶液を5分間で滴下し、
同温度で30分間撹拌した。得られた懸濁液をジフェニ
ルメチル 3−ホルミル−7β−7ェニルアセトアミド
−2−セフェム−4一カルポキシレート1.64gのT
HF(15m4)溶液に−78℃で滴下し、同温度で1
5分間かき混ぜた。2N塩酸5罰を加えかき混ぜた後、
水!50ml2に注いだ。ジクロロメタンで抽出し、抽
出液を食塩水で洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去した
。残留物をシリカゲル(100g)カラムクロマトグラ
7イーに付し、酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1
:4)で溶出するとジフエニルメチル 3−(2−シア
ノー1−ヒドロキシエチル)−7β−フエニルアセトア
ミF−2−セフェム−4−カルポキシレート(ジアステ
レオマー混合物、約2=1)が淡黄色固体として882
mg得られた。融点75〜78℃ I R (KBr) cod−’: 3410.303
0.2930.2250.l775.1745. 16
65. 1530 主異性体のN M R (CDCI.)δ: 2.49
(2H.d,J=6Hz).2.68(IH,d,J=
5Hz).3.fi4(2H,s).4.44(lH.
dd,J=5&6Hz).5.02(IH,s),5.
15(IH,d, J=4Hz),5.58IH,dd
,J・4&9Hz).6.30(IH,d,J=9Hz
).6.48(IH,s)6.90(l}1,s).7
.2〜7.4(15H,m)元素分析値: C s l
H x v N s O a Sとして計算値(%)
:C,67.25; H.4.92; N.7.59実
測値(%) : C,67.58; H.5.22;
N.7.34参考例6 ジメチルスルホンl.92gをTHF60mQに溶かし
、−78℃でn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶
液)12onを加え、同温度で2時間かき混ぜた。この
溶液を、ジフェニルメチル 3−ホルミル−7β−7ェ
ニルアセトアミド−2セフェム−4−カルポキシレート
1.97gのTHF(18m<2)溶液に−78℃で滴
下し、同温度で10分間かき混ぜた。2N塩酸11−を
加え、かき混ぜた後、氷水150−に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲノレ
力ラムクロマトグラフィー(シリカゲルl O O g
.溶出液 酢酸エチル:ジクロ口メタン−1:1)で精
製するとジフエニルメチル 3(1−ヒドロキシ−2−
メチルスルホニルエチル)−7β−7エニルアセトアミ
ド−2−セフェム−4−カルポキシレートのジアステレ
オマー混合物(約1:l)が淡黄色固体として1.41
g得られた。融点63〜67℃ I R (KBr) cm−’: 3440.3060
.3030.2930.l775.1745.1665
. 1535. N M R (CDCIs)δ: 2.82(3H,s
).2−8−3.3(2H,m).3.63(2H,s
).4.7−4.8(IH,m).5.08(0.5H
,d,J=4Hz).5.09(0.5H,s).5.
12(0.5H,d,J=4Hz),5−20(0.5
H,s).5.56(LH,dd,J=4&9Hz).
6.37(IH,d,J=9Hz).6.37(0.5
H.s).6.41(0.5H.s).6.87(0.
5H,s).6.88(0.5H,s).7.2=7.
5(15H,m)元素分析値.’CssHsoNxOt
S*・l.5H.0計算値(%): C,5B.75;
H.5.25i N.4.42実測値(%): C,
58.45; H,5.1B. N.4.12参考例7 (9R.l OR)−10−アミノー4−オキサ−3.
11−ジオキソー5−(2−オキソプ口ピル)−8−チ
アー■−アザトリシクロ[7.2,0.08・6]ウン
デカ−2(6)一エン塩酸塩HC7 五塩化リン4.5gをジクロロメタン40m(lに懸濁
し、水冷下かき混ぜながらピリジン1.8m<2を加え
た。水冷下で60分間かき混ぜた後、(9R.IOR)
−4−オキサー3.11−ジオキソ−5−(2−オキソ
プロビル)一lO−フエニルアセトアミドー8−チアー
1−アザトリシクロ[7.2.0.0’・6J ウンデ
カ−2(6)一エン2.7gを加え、同温度で更に2時
間かき混ぜた。
060.3030.2980.2930,1780.l
740.l670.l530N M R (CDCIs
)δ: 1.23 (3H.t,J=7Hz),2.4
1 (0.5H,dd,J■4&l6Hz). 2.4
2 (0.5H,dd,J■9&l6Hz).2.55
(0.5H,dd,J=9&l6Hz). 2.55
(0.5H,dd,J=4&16Hz). 3.20(
IH,br.s), 3.63 (2H,s). 4.
12(2B,q.J=7 Hz). 4.5−4.6(
IH,a+). 5.02 (0.5H,s),5.1
1(0.5H,d,J=4Hz), 5.13 (0.
5H,d,J=4Hz),5.21(0.5H,s).
5.55(0.5H,dd,J=4&7Hz), 5
.59(0.5H,dd,J=4&7Hz). 6.2
3(0.5H,s). 6.2=6.3(IH,m),
6.38(0.5H,s). 6.87(IH,s)
. 7.2〜7.4(15H,m) 元素分析値: CssHsxNzOtS ・0.8Hx
Oとして計算値(%’) : C,64.44; H.
5.51; N.4.55実測値(%) :C.64.
47; H.5.23; N.4.44参考例5 無水テトラヒド口フラン(以下THFと略す)6ml2
を−78°Cに冷却し、n−ブチルリチウム(1.6M
ヘキサン溶液)6mffを加え、かき混ぜながらアセト
ニト・リル0.6mQのTHF溶液を5分間で滴下し、
同温度で30分間撹拌した。得られた懸濁液をジフェニ
ルメチル 3−ホルミル−7β−7ェニルアセトアミド
−2−セフェム−4一カルポキシレート1.64gのT
HF(15m4)溶液に−78℃で滴下し、同温度で1
5分間かき混ぜた。2N塩酸5罰を加えかき混ぜた後、
水!50ml2に注いだ。ジクロロメタンで抽出し、抽
出液を食塩水で洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去した
。残留物をシリカゲル(100g)カラムクロマトグラ
7イーに付し、酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1
:4)で溶出するとジフエニルメチル 3−(2−シア
ノー1−ヒドロキシエチル)−7β−フエニルアセトア
ミF−2−セフェム−4−カルポキシレート(ジアステ
レオマー混合物、約2=1)が淡黄色固体として882
mg得られた。融点75〜78℃ I R (KBr) cod−’: 3410.303
0.2930.2250.l775.1745. 16
65. 1530 主異性体のN M R (CDCI.)δ: 2.49
(2H.d,J=6Hz).2.68(IH,d,J=
5Hz).3.fi4(2H,s).4.44(lH.
dd,J=5&6Hz).5.02(IH,s),5.
15(IH,d, J=4Hz),5.58IH,dd
,J・4&9Hz).6.30(IH,d,J=9Hz
).6.48(IH,s)6.90(l}1,s).7
.2〜7.4(15H,m)元素分析値: C s l
H x v N s O a Sとして計算値(%)
:C,67.25; H.4.92; N.7.59実
測値(%) : C,67.58; H.5.22;
N.7.34参考例6 ジメチルスルホンl.92gをTHF60mQに溶かし
、−78℃でn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶
液)12onを加え、同温度で2時間かき混ぜた。この
溶液を、ジフェニルメチル 3−ホルミル−7β−7ェ
ニルアセトアミド−2セフェム−4−カルポキシレート
1.97gのTHF(18m<2)溶液に−78℃で滴
下し、同温度で10分間かき混ぜた。2N塩酸11−を
加え、かき混ぜた後、氷水150−に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲノレ
力ラムクロマトグラフィー(シリカゲルl O O g
.溶出液 酢酸エチル:ジクロ口メタン−1:1)で精
製するとジフエニルメチル 3(1−ヒドロキシ−2−
メチルスルホニルエチル)−7β−7エニルアセトアミ
ド−2−セフェム−4−カルポキシレートのジアステレ
オマー混合物(約1:l)が淡黄色固体として1.41
g得られた。融点63〜67℃ I R (KBr) cm−’: 3440.3060
.3030.2930.l775.1745.1665
. 1535. N M R (CDCIs)δ: 2.82(3H,s
).2−8−3.3(2H,m).3.63(2H,s
).4.7−4.8(IH,m).5.08(0.5H
,d,J=4Hz).5.09(0.5H,s).5.
12(0.5H,d,J=4Hz),5−20(0.5
H,s).5.56(LH,dd,J=4&9Hz).
6.37(IH,d,J=9Hz).6.37(0.5
H.s).6.41(0.5H.s).6.87(0.
5H,s).6.88(0.5H,s).7.2=7.
5(15H,m)元素分析値.’CssHsoNxOt
S*・l.5H.0計算値(%): C,5B.75;
H.5.25i N.4.42実測値(%): C,
58.45; H,5.1B. N.4.12参考例7 (9R.l OR)−10−アミノー4−オキサ−3.
11−ジオキソー5−(2−オキソプ口ピル)−8−チ
アー■−アザトリシクロ[7.2,0.08・6]ウン
デカ−2(6)一エン塩酸塩HC7 五塩化リン4.5gをジクロロメタン40m(lに懸濁
し、水冷下かき混ぜながらピリジン1.8m<2を加え
た。水冷下で60分間かき混ぜた後、(9R.IOR)
−4−オキサー3.11−ジオキソ−5−(2−オキソ
プロビル)一lO−フエニルアセトアミドー8−チアー
1−アザトリシクロ[7.2.0.0’・6J ウンデ
カ−2(6)一エン2.7gを加え、同温度で更に2時
間かき混ぜた。
−50℃でメタノール26−を加え、−10℃で75分
間かき混ぜた後、水0.7mQを加えて水冷下で30分
間かき混ぜた。エーテル300ml2を加え−40℃に
冷却し、析出したアメ状物をデカンテーションによって
採取し、次いでメタノール10ml2に溶かした。クロ
ロホルム400mffと工一テルlO−を加えてかき混
ぜた。析出物をろ取し、工一テルで洗浄すると標記化合
物が淡黄色粉末として1.30g得られた。
間かき混ぜた後、水0.7mQを加えて水冷下で30分
間かき混ぜた。エーテル300ml2を加え−40℃に
冷却し、析出したアメ状物をデカンテーションによって
採取し、次いでメタノール10ml2に溶かした。クロ
ロホルム400mffと工一テルlO−を加えてかき混
ぜた。析出物をろ取し、工一テルで洗浄すると標記化合
物が淡黄色粉末として1.30g得られた。
融点150〜164゜0(分解)
I R (KBr) cm−’: 3430,2900
.l795.l715.l675,l630 N M R (d,−DMSO)δ: 2.17(3H
,s),2.79(0.5H,dd,J=9&18Hz
).2.83(0.5H,dd, J=9&l8Hz)
.3.15(0.5H,dd,J=4&l8Hz),
3.30(0.5H,dd,J=4&18Hz). 3
.87(IH,s). 3.90(1B,s). 5.
16(0.5H,J=5Hz). 5.21(0.5H
,d,J=5Hz). 5.31(IH,d,J=5H
z). 5.56(0.5H,dd, J=4&9Hz
). 5.60(0.5H,dd,J=4&9Hz)元
素分析値: C,,Hl3N,0,S−HCQ−1.4
H,0として 計算値(%): C,40.04i H.4.83;
N.8.49実測値(%): C.40.24; H.
4.78; N,8.42参考例8 参考例5と同様にしてジフエニルメチル 3一[2−(
N,N−ジエチル力ルバモイル)−1−ヒドロキシエチ
ル]一7β−フエニルアセトアミドー2−セフェム−4
−カルポキシレート(ジアステレオマー混合物、7:3
)が得られた。
.l795.l715.l675,l630 N M R (d,−DMSO)δ: 2.17(3H
,s),2.79(0.5H,dd,J=9&18Hz
).2.83(0.5H,dd, J=9&l8Hz)
.3.15(0.5H,dd,J=4&l8Hz),
3.30(0.5H,dd,J=4&18Hz). 3
.87(IH,s). 3.90(1B,s). 5.
16(0.5H,J=5Hz). 5.21(0.5H
,d,J=5Hz). 5.31(IH,d,J=5H
z). 5.56(0.5H,dd, J=4&9Hz
). 5.60(0.5H,dd,J=4&9Hz)元
素分析値: C,,Hl3N,0,S−HCQ−1.4
H,0として 計算値(%): C,40.04i H.4.83;
N.8.49実測値(%): C.40.24; H.
4.78; N,8.42参考例8 参考例5と同様にしてジフエニルメチル 3一[2−(
N,N−ジエチル力ルバモイル)−1−ヒドロキシエチ
ル]一7β−フエニルアセトアミドー2−セフェム−4
−カルポキシレート(ジアステレオマー混合物、7:3
)が得られた。
融点60〜65℃
I R (KBr) cm−’: 3200.1780
.l745.l680.l620.l540 主異性体のN M R (d,−CDCQ3)δ: 1
.03(3H,t,J=7Hz).1.09(3H,t
,J=7Hz).2.33(2H,d,J・6Hz).
3.04(2H, q,J=7Hz). 3.29(2
H.q,J=7Hz). 3.63(2H,s). 4
.!r4.6(IH,m). 4.75(IH,d,
J=3Hz),5−10(lH.d,J=4Hz).
5.16(IH,s). 5.53(IH,dd,J=
4&9Hz). 6.33(lH.s). 6.37(
18, d, J=9Hz).6.85(IH, s)
. 7.2=7.4(15H, m)元素分析値:C3
*HsrNsO*S ・0.3H!Oとして計算値(%
): C.66.39; H.5.98; N.6.6
3実測値(%) : C,66.44; H,6.22
; N,6.64[実施例] 実施例l (9R.1 0R)−4−オキサー3.11−ジオキソ
ー5−(2−才キソプ口ピル)一lO−7ェニルアセト
アミド−8−チア:l−アザトリシクロ[7,2.O,
O”・1]ウンデカ−2(6)エン 4−メトキシベンジル 3−(3−オキソー!−ブテニ
ル)−7β−7エニルアセトアミド−3=セフェム−4
−カルボキシレー}4.2gをジクロ口メタン12ml
2に溶解し、水冷下にアニソール1.2−とトリフル才
口酢酸12dを加えて1時間かき混ぜた。水冷下にエー
テル120mffを加えて5分間かき混ぜた。析出物を
ろ取し、エーテルで洗浄すると、標記化合物のジアステ
レオマー混合物(約1:l)が淡黄色粉末として2。8
7g得られた。融点190〜195℃(分解)? R
(KBr) cm−’: 3270.3030.29
20.l795.l715.l665 N M R (CDCls) a : 2.24(1.
5H.s).2.26(1.5H,s).2.81(0
.5H,dd, J■7&l8Hz).2.82(0.
5}1,dd, J=6&l8Hz).3.03(0.
5H,dd,J=6&l8Hz).3.05(0.5H
,dd,J=6&l8Hz).3.30(0.5H,d
,J=19Hz).3−53(IH,s).3.66(
2H,ABq, J=16Hz) , 3.67(0.
5H . dd, J =2&l 9Hz).4.96
(0.5H,d,J■5Hz),4.99(0.5H,
d,J■5Hz),5.42(0.5H,dd,J=6
&7Hz).5.47(0.5H,dt,J=2&6H
z).5.93(LH,dd,J=5&9Hz).6.
31(IH,d,J=9Hz).7.4−7.8(5H
.■) 実施例2 (9R.l OR)−10− [2− (2−アミノチ
アゾールー4−イル)− (Z)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド]−4−オキサー3.11ージオキソ−
5−(2−オキソプ口ビル)−8ーチアーl−アザトリ
シクロ[7.2.O.O”・′]ウンデカ−2(6)一
エン a)2− (2−トリチルアミノチアゾールー4イル)
−(Z)−2−トリチルオキシイミノ酢酸6.88gを
ジクロ口メタン50IIl12に懸濁し、水冷下にトリ
エチルアミン!.7mffと五塩化リン2.27gを加
えて60分間かき混ぜた。
.l745.l680.l620.l540 主異性体のN M R (d,−CDCQ3)δ: 1
.03(3H,t,J=7Hz).1.09(3H,t
,J=7Hz).2.33(2H,d,J・6Hz).
3.04(2H, q,J=7Hz). 3.29(2
H.q,J=7Hz). 3.63(2H,s). 4
.!r4.6(IH,m). 4.75(IH,d,
J=3Hz),5−10(lH.d,J=4Hz).
5.16(IH,s). 5.53(IH,dd,J=
4&9Hz). 6.33(lH.s). 6.37(
18, d, J=9Hz).6.85(IH, s)
. 7.2=7.4(15H, m)元素分析値:C3
*HsrNsO*S ・0.3H!Oとして計算値(%
): C.66.39; H.5.98; N.6.6
3実測値(%) : C,66.44; H,6.22
; N,6.64[実施例] 実施例l (9R.1 0R)−4−オキサー3.11−ジオキソ
ー5−(2−才キソプ口ピル)一lO−7ェニルアセト
アミド−8−チア:l−アザトリシクロ[7,2.O,
O”・1]ウンデカ−2(6)エン 4−メトキシベンジル 3−(3−オキソー!−ブテニ
ル)−7β−7エニルアセトアミド−3=セフェム−4
−カルボキシレー}4.2gをジクロ口メタン12ml
2に溶解し、水冷下にアニソール1.2−とトリフル才
口酢酸12dを加えて1時間かき混ぜた。水冷下にエー
テル120mffを加えて5分間かき混ぜた。析出物を
ろ取し、エーテルで洗浄すると、標記化合物のジアステ
レオマー混合物(約1:l)が淡黄色粉末として2。8
7g得られた。融点190〜195℃(分解)? R
(KBr) cm−’: 3270.3030.29
20.l795.l715.l665 N M R (CDCls) a : 2.24(1.
5H.s).2.26(1.5H,s).2.81(0
.5H,dd, J■7&l8Hz).2.82(0.
5}1,dd, J=6&l8Hz).3.03(0.
5H,dd,J=6&l8Hz).3.05(0.5H
,dd,J=6&l8Hz).3.30(0.5H,d
,J=19Hz).3−53(IH,s).3.66(
2H,ABq, J=16Hz) , 3.67(0.
5H . dd, J =2&l 9Hz).4.96
(0.5H,d,J■5Hz),4.99(0.5H,
d,J■5Hz),5.42(0.5H,dd,J=6
&7Hz).5.47(0.5H,dt,J=2&6H
z).5.93(LH,dd,J=5&9Hz).6.
31(IH,d,J=9Hz).7.4−7.8(5H
.■) 実施例2 (9R.l OR)−10− [2− (2−アミノチ
アゾールー4−イル)− (Z)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド]−4−オキサー3.11ージオキソ−
5−(2−オキソプ口ビル)−8ーチアーl−アザトリ
シクロ[7.2.O.O”・′]ウンデカ−2(6)一
エン a)2− (2−トリチルアミノチアゾールー4イル)
−(Z)−2−トリチルオキシイミノ酢酸6.88gを
ジクロ口メタン50IIl12に懸濁し、水冷下にトリ
エチルアミン!.7mffと五塩化リン2.27gを加
えて60分間かき混ぜた。
一方、(9R.IOR)−10−アミノー4一オキサー
3.11−ジオキソー5−(2−オキソプ口ビル)−8
−チアー1−アザトリシクロ〔7,2.0.0’・6]
ウンデカ−2(6)一エン塩酸塩2.60gをジクロ口
メタン50llffに懸濁し、室温でかき混ぜながら、
N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド6.3
1III2を加えた。得られた溶液を−15℃に冷却し
、かき混ぜながら先に調製した酸クロリド溶液を滴下し
た。反応液は?20〜−5°Cで1時間かき混ぜた後、
水、食塩水で順次洗浄した。乾燥後減圧下に溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル(30g)カラムクロマトグラ
フィーに付し、酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1
:2)で溶出すると(9R,l OR)−4−オキサー
3.11−ジオキソー5−(2−才キソプロビル)−8
−チアー10− [2− (2−トリチルアミノチアゾ
ールー4−イル)− (Z)−2−トリチルオキシイミ
ノアセトアミド]−1=アザトリシクロ[7.2.0.
0”・@]ウンデカ−2(6)一エンのジアステレオマ
ー混合物(約tel)が橙色固体として3.89g得ら
れた。
3.11−ジオキソー5−(2−オキソプ口ビル)−8
−チアー1−アザトリシクロ〔7,2.0.0’・6]
ウンデカ−2(6)一エン塩酸塩2.60gをジクロ口
メタン50llffに懸濁し、室温でかき混ぜながら、
N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド6.3
1III2を加えた。得られた溶液を−15℃に冷却し
、かき混ぜながら先に調製した酸クロリド溶液を滴下し
た。反応液は?20〜−5°Cで1時間かき混ぜた後、
水、食塩水で順次洗浄した。乾燥後減圧下に溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル(30g)カラムクロマトグラ
フィーに付し、酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1
:2)で溶出すると(9R,l OR)−4−オキサー
3.11−ジオキソー5−(2−才キソプロビル)−8
−チアー10− [2− (2−トリチルアミノチアゾ
ールー4−イル)− (Z)−2−トリチルオキシイミ
ノアセトアミド]−1=アザトリシクロ[7.2.0.
0”・@]ウンデカ−2(6)一エンのジアステレオマ
ー混合物(約tel)が橙色固体として3.89g得ら
れた。
J R (KBr) cm−’: 3380,3050
.3020.l800.l690.1600.l520
.l495 N M R (CDCI 3)δ: 2.23(3H,
s),2.7−3.2(2H,m).3.4〜3.7(
2H,m),5.06(0.5H,d,J=5Hz).
5.08(0.5H,d,J=5Hz).5.3−5.
5(IH,o+).6.16(IH,dd,J■5&9
Hz). 6.45(0.5H,s). 6.46(0
.5H,s). 6.86(LH,br.s). 7.
1=7.4(30H,m)b)上記a)の生成物3.6
9gをギ酸40m(1?溶かし、室温で1時間かき混ぜ
た。減圧下にギ酸を留去し、残留物にエーテルl00m
ffを加えて室温で1時間かき混ぜた。析出物をろ取し
、工一テルで洗浄すると標記化合物のギ酸塩が茶色固体
として1.93g得られた。このうち244mgをメタ
ノールとTHFの混合溶媒IQm(2に加え、不溶物を
ろ去し、ろ液にエーテル40−を加えて撹拌した。析出
物をろ取し、エーテルで洗浄すると標記化合物のジアス
テレオマー混合物(約l:l)が茶色固体として127
mg得られた。融点2lO〜220゜C(分解) I R (KBr) cm−’: 3420.2920
.1?90.l670.l620.l530 N M R (ds−DMSO)δ: 2.16(3H
,s).2.7〜3−3(2H,m),3.5−3.9
(2H,m).5. 10(0.5H,d, J■5H
z),5.15(0.5H,d,J−5Hz),5.5
〜5.6(IH,m).5.94(0.5H,dd,J
=5&8}1z).5.97(0.5H,dd,J=5
&8Hz).6.66CIH,s).7.14(2H,
br.s).9.55(LH,d,J=8Hz).11
.34(lH.s)実施例3 (9R.IOR)−4−オキサー3.11−ジオキソー
5−7エナシル−10−7ェニルアセトアミドー8−チ
アーl−アザトリシクロ[7,2.0.02・6]ウン
デカ−2(6)一エン4−メトキシベンジル 3−(2
−ベンゾイルビニル)−7β−7ェニルアセトアミド−
3−セ7エムー4−カルポキシレート569mgをジク
ロロメタン1.5+ol2に懸濁し、氷冷下かき混ぜな
がらアニソール0−15m(lとトリフルオロ酢酸1.
5−を加えた。水冷下で40分間かき混ぜた後、減圧下
に濃縮し、残留物をエーテルで処理した。
.3020.l800.l690.1600.l520
.l495 N M R (CDCI 3)δ: 2.23(3H,
s),2.7−3.2(2H,m).3.4〜3.7(
2H,m),5.06(0.5H,d,J=5Hz).
5.08(0.5H,d,J=5Hz).5.3−5.
5(IH,o+).6.16(IH,dd,J■5&9
Hz). 6.45(0.5H,s). 6.46(0
.5H,s). 6.86(LH,br.s). 7.
1=7.4(30H,m)b)上記a)の生成物3.6
9gをギ酸40m(1?溶かし、室温で1時間かき混ぜ
た。減圧下にギ酸を留去し、残留物にエーテルl00m
ffを加えて室温で1時間かき混ぜた。析出物をろ取し
、工一テルで洗浄すると標記化合物のギ酸塩が茶色固体
として1.93g得られた。このうち244mgをメタ
ノールとTHFの混合溶媒IQm(2に加え、不溶物を
ろ去し、ろ液にエーテル40−を加えて撹拌した。析出
物をろ取し、エーテルで洗浄すると標記化合物のジアス
テレオマー混合物(約l:l)が茶色固体として127
mg得られた。融点2lO〜220゜C(分解) I R (KBr) cm−’: 3420.2920
.1?90.l670.l620.l530 N M R (ds−DMSO)δ: 2.16(3H
,s).2.7〜3−3(2H,m),3.5−3.9
(2H,m).5. 10(0.5H,d, J■5H
z),5.15(0.5H,d,J−5Hz),5.5
〜5.6(IH,m).5.94(0.5H,dd,J
=5&8}1z).5.97(0.5H,dd,J=5
&8Hz).6.66CIH,s).7.14(2H,
br.s).9.55(LH,d,J=8Hz).11
.34(lH.s)実施例3 (9R.IOR)−4−オキサー3.11−ジオキソー
5−7エナシル−10−7ェニルアセトアミドー8−チ
アーl−アザトリシクロ[7,2.0.02・6]ウン
デカ−2(6)一エン4−メトキシベンジル 3−(2
−ベンゾイルビニル)−7β−7ェニルアセトアミド−
3−セ7エムー4−カルポキシレート569mgをジク
ロロメタン1.5+ol2に懸濁し、氷冷下かき混ぜな
がらアニソール0−15m(lとトリフルオロ酢酸1.
5−を加えた。水冷下で40分間かき混ぜた後、減圧下
に濃縮し、残留物をエーテルで処理した。
析出物をろ取し、エーテルで洗浄すると、標記化合物の
ジアステレオマー混合物(約1:l)が淡黄色固体とし
て404IIlg得られた。融点200〜204℃(分
解) I R (KBr) am−’: 1795.1680
,1600.1530N M R (CDCI3+d1
DMSO)δ:3.4〜3.9(6H , m) .
5.02?0.5H,d,J■5Hz). 5.05(
0.5H,d,J■5Hz), 5.7〜5.8(LH
,m). 5.87(LH,dd,J=5&8Hz).
7.2−8.1(IOH,m), 8.95(Q.5
H,d,J=8Hz),9.00(0.5H,d,J=
8Hz)元素分析値: C!aH*−NzOsS・0.
5H,0計算値(%):C.63.01; H.4.6
3. N,6.12実測値(%) : C.63.29
. H.4.34. N.5.72実施例4 (9R.IOR)−5− [ビス(エトキシカルポニル
)メチル]−4−オキサー3.11−ジオキソーlO−
7エニルアセトアミド−8−チアー1−アザトリシクロ
[7,2.0.0”・月ウンデカ−2(6)一エン 4−メトキシベンジノレ 3− [2.2−ビス(エト
キシ力ルボニル)ヒニル]−7β−7エニルアセトアミ
ド−3−セフェム−4−カルポキシレ−ト1.22gを
ジクロロメタン3−に溶解し、?冷下にアニソール0.
3mQとトリ7ルオロ酢酸3ml2を加えて同温度で1
時間かき混ぜた。減圧濃縮し、残留物をエーテルで洗浄
した後、ジクロロメタンに溶かし、減圧下に溶媒を留去
すると標記化合物のジアステレオマー混合物(約1 :
l)が淡黄色固体として627mg得られた。
ジアステレオマー混合物(約1:l)が淡黄色固体とし
て404IIlg得られた。融点200〜204℃(分
解) I R (KBr) am−’: 1795.1680
,1600.1530N M R (CDCI3+d1
DMSO)δ:3.4〜3.9(6H , m) .
5.02?0.5H,d,J■5Hz). 5.05(
0.5H,d,J■5Hz), 5.7〜5.8(LH
,m). 5.87(LH,dd,J=5&8Hz).
7.2−8.1(IOH,m), 8.95(Q.5
H,d,J=8Hz),9.00(0.5H,d,J=
8Hz)元素分析値: C!aH*−NzOsS・0.
5H,0計算値(%):C.63.01; H.4.6
3. N,6.12実測値(%) : C.63.29
. H.4.34. N.5.72実施例4 (9R.IOR)−5− [ビス(エトキシカルポニル
)メチル]−4−オキサー3.11−ジオキソーlO−
7エニルアセトアミド−8−チアー1−アザトリシクロ
[7,2.0.0”・月ウンデカ−2(6)一エン 4−メトキシベンジノレ 3− [2.2−ビス(エト
キシ力ルボニル)ヒニル]−7β−7エニルアセトアミ
ド−3−セフェム−4−カルポキシレ−ト1.22gを
ジクロロメタン3−に溶解し、?冷下にアニソール0.
3mQとトリ7ルオロ酢酸3ml2を加えて同温度で1
時間かき混ぜた。減圧濃縮し、残留物をエーテルで洗浄
した後、ジクロロメタンに溶かし、減圧下に溶媒を留去
すると標記化合物のジアステレオマー混合物(約1 :
l)が淡黄色固体として627mg得られた。
I R (KBr) cm−’: 3426.2930
.l800.l735.1670.N M R (CD
C l s )δ: 1.21(1.5H,t,J=7
Hz).1.25(1.5H,J=7Hz).1.28
(1.5H,t,J=7Hz).1.29(1.5H,
t,J=7Hz).3.60(2H.ABq,J=19
Hz).3.61(IH.s).3.64(LH,s)
.3.96(0.5H,d, J=5Hz).3.99
(0.5H,d, J=5Hz).4.17(lLq.
J=7Hz>.4−19CIH.q,J=7Hz).
4.22CIH,q. J■7Hz). 4.26(l
H.q, J=7Hz) .4.96(18. d,
J=5Hz) ,5.58(0.5H,d,J=5Hz
).5.61(0.5H,d,J=5Hz).5.93
(0.5H,dd,J=5&9Hz).5.95(0.
5H,dd,J=5&9Hz),6.33(0.5H,
d,J■9Hz).6.46(0.5H,d,J=9H
z).7.2〜7.4(58,+a) 実施例5 (9R.1 0R)−10− [2− (2−アミノチ
アゾール−4−イル)− (Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド1−4−オキサー3.11−ジオキソ−5
−(2−オキソプ口ピル)−8−チアーl−アザトリシ
クロ[7.2.0.0”・1]ウンデカ−2(6)一エ
ン (9R.IOR)−10−アミノー4−オキサ−3.1
1−ジオキソー5−(2−才キソプ口ピル)−8−チア
ーl−アザトリシクロ[7.2.0,02・@]ウンデ
カ−2(6)一工冫塩酸塩1.22gを水とTHFの混
液(1 : l)50−に溶解し、水冷下かき混ぜなが
ら炭酸水素ナトリウム2.0g.次いで2−(2−クロ
ロアセタミドチアゾール−4−イル)− (Z)−2−
メトキシイミノアセチルクロライド塩酸塩1.33gを
加えた。反応液を水冷下で30分間かき混ぜた後、lN
塩酸でpH3〜4に調整し、ついで食塩で飽和した。反
応液を酢酸エチルとTHFの混液(5:l)で抽出し、
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去した。残留物を水とTHFの混
液(1 : l) 50m4に溶かし、N−メチルジチ
オカルバミン酸ナトリウム1.04gを加え、室温で1
.5時間かき混ぜた。 IN塩酸でpH4に調整後、食
塩で飽和した。有機層を分取し、水層をTHFで抽出し
た。
.l800.l735.1670.N M R (CD
C l s )δ: 1.21(1.5H,t,J=7
Hz).1.25(1.5H,J=7Hz).1.28
(1.5H,t,J=7Hz).1.29(1.5H,
t,J=7Hz).3.60(2H.ABq,J=19
Hz).3.61(IH.s).3.64(LH,s)
.3.96(0.5H,d, J=5Hz).3.99
(0.5H,d, J=5Hz).4.17(lLq.
J=7Hz>.4−19CIH.q,J=7Hz).
4.22CIH,q. J■7Hz). 4.26(l
H.q, J=7Hz) .4.96(18. d,
J=5Hz) ,5.58(0.5H,d,J=5Hz
).5.61(0.5H,d,J=5Hz).5.93
(0.5H,dd,J=5&9Hz).5.95(0.
5H,dd,J=5&9Hz),6.33(0.5H,
d,J■9Hz).6.46(0.5H,d,J=9H
z).7.2〜7.4(58,+a) 実施例5 (9R.1 0R)−10− [2− (2−アミノチ
アゾール−4−イル)− (Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド1−4−オキサー3.11−ジオキソ−5
−(2−オキソプ口ピル)−8−チアーl−アザトリシ
クロ[7.2.0.0”・1]ウンデカ−2(6)一エ
ン (9R.IOR)−10−アミノー4−オキサ−3.1
1−ジオキソー5−(2−才キソプ口ピル)−8−チア
ーl−アザトリシクロ[7.2.0,02・@]ウンデ
カ−2(6)一工冫塩酸塩1.22gを水とTHFの混
液(1 : l)50−に溶解し、水冷下かき混ぜなが
ら炭酸水素ナトリウム2.0g.次いで2−(2−クロ
ロアセタミドチアゾール−4−イル)− (Z)−2−
メトキシイミノアセチルクロライド塩酸塩1.33gを
加えた。反応液を水冷下で30分間かき混ぜた後、lN
塩酸でpH3〜4に調整し、ついで食塩で飽和した。反
応液を酢酸エチルとTHFの混液(5:l)で抽出し、
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去した。残留物を水とTHFの混
液(1 : l) 50m4に溶かし、N−メチルジチ
オカルバミン酸ナトリウム1.04gを加え、室温で1
.5時間かき混ぜた。 IN塩酸でpH4に調整後、食
塩で飽和した。有機層を分取し、水層をTHFで抽出し
た。
有機層を集めて減圧下に濃縮した。残留物を水とTHF
の混液に溶カシ、XAD − II (3 0 0mf
f)カラムクロマトグラフィーに付し、40容量%エタ
ノール水溶液で溶出した。溶出液を減圧濃縮し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末が0.5g得られた。
の混液に溶カシ、XAD − II (3 0 0mf
f)カラムクロマトグラフィーに付し、40容量%エタ
ノール水溶液で溶出した。溶出液を減圧濃縮し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末が0.5g得られた。
この粉末をTHF50m(2とメタノールIO−の混液
に溶かし、塩化水素のメタノール溶液0.1m(1を加
えてかき混ぜた。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー(シリカゲル
2 0 0 gs溶出液:アセトニトリル:酢酸エチル
−1:10)で精製すると標記化合物のジアステレオマ
ー混合物(約4:l)が黄色固体として60mg得られ
た。
に溶かし、塩化水素のメタノール溶液0.1m(1を加
えてかき混ぜた。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー(シリカゲル
2 0 0 gs溶出液:アセトニトリル:酢酸エチル
−1:10)で精製すると標記化合物のジアステレオマ
ー混合物(約4:l)が黄色固体として60mg得られ
た。
I R (KBr) cm”’: 3430.2940
.1?90.l670.l620.l535 主異性体のN M R (d,−DMSO)δ: 2.
16(3H.s).3.36(2H,ABq,J=16
Hz),3.7−4.0(2H,m).3.85(3H
,s).5.11(In,d,J=5Hz).5.5−
5.6(lH.m).5.95(18,dd,J=5&
8Hz),6.74(lH.s).7.27(2H,b
r.s).9.70(IH,d,J=8Hz) 実施例6 (9R.IOR) −5−エトキシ力ルポニルメチル−
4−オキサー3.11−ジオキソ−10’−7ェニルア
セトアミド−8−チアー1−アザトリシクロ[7.2.
O,O”−’lウンデカ−2(6)ーエン 8−オキシ
ド ジフエニルメチル 3−(2−エトキシ力ルポニル−l
−ヒドロキシエチル)−7β−7エニルアセトアミド−
2−セ7エム−4−カルポキシレ−ト2.40gを酢酸
エチル8ml2に溶かし、水冷下m−クロロ過安息香酸
863mgの酢酸エチル(4 +n(2)溶液を加え、
同温度で1時間かき混ぜた。
.1?90.l670.l620.l535 主異性体のN M R (d,−DMSO)δ: 2.
16(3H.s).3.36(2H,ABq,J=16
Hz),3.7−4.0(2H,m).3.85(3H
,s).5.11(In,d,J=5Hz).5.5−
5.6(lH.m).5.95(18,dd,J=5&
8Hz),6.74(lH.s).7.27(2H,b
r.s).9.70(IH,d,J=8Hz) 実施例6 (9R.IOR) −5−エトキシ力ルポニルメチル−
4−オキサー3.11−ジオキソ−10’−7ェニルア
セトアミド−8−チアー1−アザトリシクロ[7.2.
O,O”−’lウンデカ−2(6)ーエン 8−オキシ
ド ジフエニルメチル 3−(2−エトキシ力ルポニル−l
−ヒドロキシエチル)−7β−7エニルアセトアミド−
2−セ7エム−4−カルポキシレ−ト2.40gを酢酸
エチル8ml2に溶かし、水冷下m−クロロ過安息香酸
863mgの酢酸エチル(4 +n(2)溶液を加え、
同温度で1時間かき混ぜた。
水50mρを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7
に調整した後、ジクロ口メタンで抽出した。
に調整した後、ジクロ口メタンで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後減圧濃縮した。
残留物をジクロ口メタン6m+2に溶かし、水冷下にア
ニソール0.6mIlとトリフルオロ酢酸6−を加え、
同温度で1時間かき混ぜた。減圧下に濃縮し、残留物に
エーテルを加えて撹拌し、析出物をろ取し、エーテルで
洗浄すると標記化合物が黄色固体として1.52g得ら
れた。
ニソール0.6mIlとトリフルオロ酢酸6−を加え、
同温度で1時間かき混ぜた。減圧下に濃縮し、残留物に
エーテルを加えて撹拌し、析出物をろ取し、エーテルで
洗浄すると標記化合物が黄色固体として1.52g得ら
れた。
J R (KBr)c+m−’: 3430,2
930,1805.l735.l675,N M R
(CDCIs)δ: 1.26(1.5H,t,J=7
Hz). 1.28(1.5H,t,J=7Hz).2
.7=2.9(2H,m).3.3=4.0( 4H,
01). 4.16(lH.q.J=7Hz).4.
18(IH,q.J=7Hz).4.5?(0.5H,
d,J=5Hz). 4.60(0.5H,d,J■5
Hz), 5−4−5.5(IH,+w) .6. 1
2(lH.dd, J■5&lOHz) .6.89(
0.5H,d,J=lOHz). 6.94(0.5H
.d,J■10Hz),7.2=7.4(5H,m)実
施例7 (9R,IOR)−5−エトキシ力ルポニルメチル−4
−オキサー3.11−ジオキソ−lO−7エニルアセト
アミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0.
0”・61ウンデカ−2(6)実施例6で得られた化合
物1.52gをDMF3.5+aQに溶かし、−30℃
で三塩化りん0.7mmを加え、同温度で30分間かき
混ぜた。水150ml2で希釈した後、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗後水300mQを加え、炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH6に調整した。有機層を分取し
、?塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
930,1805.l735.l675,N M R
(CDCIs)δ: 1.26(1.5H,t,J=7
Hz). 1.28(1.5H,t,J=7Hz).2
.7=2.9(2H,m).3.3=4.0( 4H,
01). 4.16(lH.q.J=7Hz).4.
18(IH,q.J=7Hz).4.5?(0.5H,
d,J=5Hz). 4.60(0.5H,d,J■5
Hz), 5−4−5.5(IH,+w) .6. 1
2(lH.dd, J■5&lOHz) .6.89(
0.5H,d,J=lOHz). 6.94(0.5H
.d,J■10Hz),7.2=7.4(5H,m)実
施例7 (9R,IOR)−5−エトキシ力ルポニルメチル−4
−オキサー3.11−ジオキソ−lO−7エニルアセト
アミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0.
0”・61ウンデカ−2(6)実施例6で得られた化合
物1.52gをDMF3.5+aQに溶かし、−30℃
で三塩化りん0.7mmを加え、同温度で30分間かき
混ぜた。水150ml2で希釈した後、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗後水300mQを加え、炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH6に調整した。有機層を分取し
、?塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲル(15g)
カラムクaマトグラ7イーに付し、酢酸エチルで溶出し
た。溶出液を減圧下に濃縮乾固し、残留物をジクロ口メ
タンに溶かし、lO倍量の工一テルを加えて析出した沈
澱をろ取し、エーテルで洗浄すると標記化合物のジアス
テレオマー混合物(約3:2)が淡黄色固体として0.
68g得られた。融点85〜87°C E R (KBr) am−’: 3420,1795
.l735.l675,1525.主異性体のN M
R (CDCII)δ: 1.27(3H,t,J=7
Hz),2.79(l}f,d,J=8Hz),3.3
9(IH,d,J=19Hz).3.66(2H,s)
.3.67(IH,d.J=19Hz).4.20(2
H.q,J■7Hz).4.99(IH,d,J=5H
z),5.42(IH,t,J=8Hz).5.95(
IH,dd,J=5&9Hz).6.29(IH,d,
J=9Hz).7.2−7.4(5H,m)元素分析値
:C2。H!。N!O,S・o.sH,oとして計算値
(%) : C,56.46; H.4.97; N.
6.58計算値(%) : C.56.64; H.4
.59; N,6.77実施例8 (9R,IOR)−5−シアノメチル−4−オキサー3
.11−ジオキソ−IO−7ェニルアセトアミド−8−
チアーl−アザトリシクロ[7,2.O,O”・6]ウ
ンデカ−2(6)一エン 8一オキシド 元素分析値: C+sH+iNxOsS−0.6HzO
として計算値(%) : C.54.57; H.4.
l2. N,10.61実測値(%) : C.54.
69;■.3.86i N,10.32実施例9 (9R.1 0R)−5−シアノメチル−4−オキサー
3.11−ジオキソ−10−−yエニルアセトアミド−
8−チアーl−アザトリシクロ[7.2,0,O”#●
]ウンデカ−2(6)一エン?施例6と同様に反応させ
ると標記化合物のジアステレオマー混合物(約l:t)
が淡黄色固体として得られた。融点134〜144℃I
R (KBr) cm−’: 3430.2930,
2260.1805,1675.N M R (d,−
DMSO)δ:3.θ〜4.4(6H,m).4.88
(0.5H,d,J=5Hz).4.90(0.5H,
d,J=5Hz).5.53(0.5H,t,J=5H
z).5.59(0.5H,t,J−5Hz).5.9
7(0.5H,dd,J=5&8Hz).6.02(0
.5H,dd,J■5&8Hz).7.2−7.4(5
H,+m).8.58(0.5H,d,J=8Hz).
8.66(0.5H,d,J=8Hz)実施例7と同様
に反応させると標記化合物のジアステレオマー混合物(
約1:1)が淡黄色固体として得られた。融点212〜
213℃(分解)I R (KBr) Cal−’:
3440.3360.2970.2940.2250
,1800.1765,1680.1520N M R
(CDCI s)δ: 3.15(0.5H,dd,
J=6&l7Hz),3.31(0.5H,dd,J=
4&l8Hz).3.43(0.5H,dd,J=6&
l7Hz).3.53(0.5H,dd.J=4&18
Hz).3.54(2H,ABq.J=14Hz).3
.77(lH.s).3.84(IH,ABq,J=1
9Hz).5.09(0.5H.d,J=5Hz).5
.ll(0.5H,d,J=5Hz).5.55(0.
5H,t,J=4Hz).5.59(0.5H,t,J
=6Hz).5.90(IH,dd,J=5&8Hz)
.7.2=7.4(5H,m).9.20(0.5H,
d,J=8Hz),9.33(0.5H,d,J=8H
z) 元素分析値: C.aH,,N.04s−0.38,O
として計算値(%) : C.57.68. H.4.
20; N,11.21実測値(%) : C,57.
57; H.4.20; N,11.09実施例lO (9R,IOR)−5−メチルスルホニルメチル−4−
オキサー3,l1−ジオキソ−lO−7ェニルアセトア
ミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0,O
”=@l ウンデカ−2(6)ーエン 8−オキシド 実施例6と同様に反応させると標記化合物のジアステレ
オマー混合物(約1:1)が淡黄色固体として得られた
。融点143〜148°C(分解)夏 R (KBr
) am−’: 3430.2930.l805.
l675.l515N M R (di−DMSO)δ
: 3.08(3H,s).3.4〜4 .5(6H
,m) ,4.86(0.5H,d,J=5Hz).4
−89(0.5H.d,J=5Hz).5.58(0.
5H,d,J=8Hz).5.68(0.5H.d,J
=16Hz).5.99(0.5H,dd,J=4&8
Hz),6.01(0.5H,dd,J=4&8Hz)
.7.2=7.4(5H,+a).8.48(0.5H
,d,J=8Hz).8.57(0.5H,d,J=8
Hz) 元素分析値: C+sH+sN*ChSt・0−IHz
oとして 計算値(%):C.49.lO; H.4.17; N
,6.36実測値(%) : C.49.06; H,
4.16; N,6.06実施例l1 (9R,IOR)−5−メチルスルホニルメチル−4−
オキサー3.11−ジオキソーIO−7ェニルアセトア
ミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0.0
”−’lウンデカ−2(6)一エン 実施例lOで得られた化合物614mgをDMFl4I
Tl12に溶かし、−30°Cで三塩化りん0.28m
l2を加えて、同温度で30分間かき混ぜた。水70m
Qを加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水
で順次洗浄し、乾燥後減圧下に約501まで濃縮した。
カラムクaマトグラ7イーに付し、酢酸エチルで溶出し
た。溶出液を減圧下に濃縮乾固し、残留物をジクロ口メ
タンに溶かし、lO倍量の工一テルを加えて析出した沈
澱をろ取し、エーテルで洗浄すると標記化合物のジアス
テレオマー混合物(約3:2)が淡黄色固体として0.
68g得られた。融点85〜87°C E R (KBr) am−’: 3420,1795
.l735.l675,1525.主異性体のN M
R (CDCII)δ: 1.27(3H,t,J=7
Hz),2.79(l}f,d,J=8Hz),3.3
9(IH,d,J=19Hz).3.66(2H,s)
.3.67(IH,d.J=19Hz).4.20(2
H.q,J■7Hz).4.99(IH,d,J=5H
z),5.42(IH,t,J=8Hz).5.95(
IH,dd,J=5&9Hz).6.29(IH,d,
J=9Hz).7.2−7.4(5H,m)元素分析値
:C2。H!。N!O,S・o.sH,oとして計算値
(%) : C,56.46; H.4.97; N.
6.58計算値(%) : C.56.64; H.4
.59; N,6.77実施例8 (9R,IOR)−5−シアノメチル−4−オキサー3
.11−ジオキソ−IO−7ェニルアセトアミド−8−
チアーl−アザトリシクロ[7,2.O,O”・6]ウ
ンデカ−2(6)一エン 8一オキシド 元素分析値: C+sH+iNxOsS−0.6HzO
として計算値(%) : C.54.57; H.4.
l2. N,10.61実測値(%) : C.54.
69;■.3.86i N,10.32実施例9 (9R.1 0R)−5−シアノメチル−4−オキサー
3.11−ジオキソ−10−−yエニルアセトアミド−
8−チアーl−アザトリシクロ[7.2,0,O”#●
]ウンデカ−2(6)一エン?施例6と同様に反応させ
ると標記化合物のジアステレオマー混合物(約l:t)
が淡黄色固体として得られた。融点134〜144℃I
R (KBr) cm−’: 3430.2930,
2260.1805,1675.N M R (d,−
DMSO)δ:3.θ〜4.4(6H,m).4.88
(0.5H,d,J=5Hz).4.90(0.5H,
d,J=5Hz).5.53(0.5H,t,J=5H
z).5.59(0.5H,t,J−5Hz).5.9
7(0.5H,dd,J=5&8Hz).6.02(0
.5H,dd,J■5&8Hz).7.2−7.4(5
H,+m).8.58(0.5H,d,J=8Hz).
8.66(0.5H,d,J=8Hz)実施例7と同様
に反応させると標記化合物のジアステレオマー混合物(
約1:1)が淡黄色固体として得られた。融点212〜
213℃(分解)I R (KBr) Cal−’:
3440.3360.2970.2940.2250
,1800.1765,1680.1520N M R
(CDCI s)δ: 3.15(0.5H,dd,
J=6&l7Hz),3.31(0.5H,dd,J=
4&l8Hz).3.43(0.5H,dd,J=6&
l7Hz).3.53(0.5H,dd.J=4&18
Hz).3.54(2H,ABq.J=14Hz).3
.77(lH.s).3.84(IH,ABq,J=1
9Hz).5.09(0.5H.d,J=5Hz).5
.ll(0.5H,d,J=5Hz).5.55(0.
5H,t,J=4Hz).5.59(0.5H,t,J
=6Hz).5.90(IH,dd,J=5&8Hz)
.7.2=7.4(5H,m).9.20(0.5H,
d,J=8Hz),9.33(0.5H,d,J=8H
z) 元素分析値: C.aH,,N.04s−0.38,O
として計算値(%) : C.57.68. H.4.
20; N,11.21実測値(%) : C,57.
57; H.4.20; N,11.09実施例lO (9R,IOR)−5−メチルスルホニルメチル−4−
オキサー3,l1−ジオキソ−lO−7ェニルアセトア
ミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0,O
”=@l ウンデカ−2(6)ーエン 8−オキシド 実施例6と同様に反応させると標記化合物のジアステレ
オマー混合物(約1:1)が淡黄色固体として得られた
。融点143〜148°C(分解)夏 R (KBr
) am−’: 3430.2930.l805.
l675.l515N M R (di−DMSO)δ
: 3.08(3H,s).3.4〜4 .5(6H
,m) ,4.86(0.5H,d,J=5Hz).4
−89(0.5H.d,J=5Hz).5.58(0.
5H,d,J=8Hz).5.68(0.5H.d,J
=16Hz).5.99(0.5H,dd,J=4&8
Hz),6.01(0.5H,dd,J=4&8Hz)
.7.2=7.4(5H,+a).8.48(0.5H
,d,J=8Hz).8.57(0.5H,d,J=8
Hz) 元素分析値: C+sH+sN*ChSt・0−IHz
oとして 計算値(%):C.49.lO; H.4.17; N
,6.36実測値(%) : C.49.06; H,
4.16; N,6.06実施例l1 (9R,IOR)−5−メチルスルホニルメチル−4−
オキサー3.11−ジオキソーIO−7ェニルアセトア
ミド−8−チアーl−アザトリシクロ[7.2.0.0
”−’lウンデカ−2(6)一エン 実施例lOで得られた化合物614mgをDMFl4I
Tl12に溶かし、−30°Cで三塩化りん0.28m
l2を加えて、同温度で30分間かき混ぜた。水70m
Qを加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水
で順次洗浄し、乾燥後減圧下に約501まで濃縮した。
析出結晶をろ取し、酢酸エチルで洗浄すると標記化合物
が無色結晶としてll7n+g得られた。融点234〜
236゜C(分解)I R (KBr) cm−’:
3270,1800.l655.l530N M R
(d,−DMSO)δ: 3.08(3B,s).3.
54(2H,ABq.J=14Hz).3.61(IH
,ad,J=9&l5Hz).3.79(2H.s),
3.87(IH,dd,J=2&l5Hz).5.05
(IH,d,J=5Hz).5.68(IH,dd ,
J =2&9Hz) . 5.88(IH , dd
, J =5&8Hz) . 7.2−7.4(5H
,m).9.21(IH,d,J=8Hz)元素分析
値: C’+aH+aN*OsS*として計算値(%)
: C,51.17i H.4.29. N,6.6
3実測値(%) : C.51.38; H.4.28
; N,6.61実施例l2 (9R.IOR)−5−ペンジル−4−オキサ−3.1
1−ジオキソーIO−7ェニルアセトアミド−8−チア
ー■−アザトリシクCI [7. 2.0,02・“]
ウンデカ−2(6)一エン(9R.l OR)−5−ヒ
ドロキシ−4−オキサー3.11−ジオキソ−10−フ
ェニルアセトアミドー8−チアーl−アザトリシク口[
7.2.0.0!・6】ウンデカ−2(6)一エン34
6mgをTHF5l7+とへキサメチルホスホリックト
リアミドl一の混液に溶解し、−78℃で塩化ベンジル
マグネシウム(2.0M THF溶液、2−)を加え
、同温度で5分間かき混ぜた。2N塩酸4一と水50m
を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水で
順次洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去した。残留物を
シリカゲル(10g)カラムクロマトグラ7イーに付し
酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1:4)で溶出す
ると標記化合物が無色固形物として104mg得られた
。
が無色結晶としてll7n+g得られた。融点234〜
236゜C(分解)I R (KBr) cm−’:
3270,1800.l655.l530N M R
(d,−DMSO)δ: 3.08(3B,s).3.
54(2H,ABq.J=14Hz).3.61(IH
,ad,J=9&l5Hz).3.79(2H.s),
3.87(IH,dd,J=2&l5Hz).5.05
(IH,d,J=5Hz).5.68(IH,dd ,
J =2&9Hz) . 5.88(IH , dd
, J =5&8Hz) . 7.2−7.4(5H
,m).9.21(IH,d,J=8Hz)元素分析
値: C’+aH+aN*OsS*として計算値(%)
: C,51.17i H.4.29. N,6.6
3実測値(%) : C.51.38; H.4.28
; N,6.61実施例l2 (9R.IOR)−5−ペンジル−4−オキサ−3.1
1−ジオキソーIO−7ェニルアセトアミド−8−チア
ー■−アザトリシクCI [7. 2.0,02・“]
ウンデカ−2(6)一エン(9R.l OR)−5−ヒ
ドロキシ−4−オキサー3.11−ジオキソ−10−フ
ェニルアセトアミドー8−チアーl−アザトリシク口[
7.2.0.0!・6】ウンデカ−2(6)一エン34
6mgをTHF5l7+とへキサメチルホスホリックト
リアミドl一の混液に溶解し、−78℃で塩化ベンジル
マグネシウム(2.0M THF溶液、2−)を加え
、同温度で5分間かき混ぜた。2N塩酸4一と水50m
を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水で
順次洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去した。残留物を
シリカゲル(10g)カラムクロマトグラ7イーに付し
酢酸エチルとジクロ口メタンの混液(1:4)で溶出す
ると標記化合物が無色固形物として104mg得られた
。
融点96〜104゜C
r R (KBr) cm−’: 1790.1665
,1525.1495N M R (CDC123)δ
: 3.02(IH,dd, J’7&l5Hz).
3.12(18, dd, J−5&l5Hz). 3
.27(IH,d,J=18Hz).3.55(IH.
dd, J=2&18Hz).3.65(2H, AB
q.J=16Hz).4.94(IH,d,J=5Hz
).5.23(lH.ddd, J=2.5&7Hz)
. 5.90(IH,aa,J=5&9Hz). 6.
12(IH, d, J=9Hz),7.2−7.5(
IOH, m)元素分析値:CzsHz。NxO*S−
0.2HxOとして計算値(%): C.65.l4;
H.4.85. N.6.60実測値(%) : C
.65.08; H.5.l2; N.6.39実施例
13〜l7 実施例2または実施例6.7と同様にして以下の化合物
が得られた。
,1525.1495N M R (CDC123)δ
: 3.02(IH,dd, J’7&l5Hz).
3.12(18, dd, J−5&l5Hz). 3
.27(IH,d,J=18Hz).3.55(IH.
dd, J=2&18Hz).3.65(2H, AB
q.J=16Hz).4.94(IH,d,J=5Hz
).5.23(lH.ddd, J=2.5&7Hz)
. 5.90(IH,aa,J=5&9Hz). 6.
12(IH, d, J=9Hz),7.2−7.5(
IOH, m)元素分析値:CzsHz。NxO*S−
0.2HxOとして計算値(%): C.65.l4;
H.4.85. N.6.60実測値(%) : C
.65.08; H.5.l2; N.6.39実施例
13〜l7 実施例2または実施例6.7と同様にして以下の化合物
が得られた。
本ジアスデレ万マー諷臼flJ(’ノ礪δ、土共社捧り
T−クリノウτ晶C緊しlこ。
T−クリノウτ晶C緊しlこ。
試験例
実施例2および5で得られた化合物の大腸菌エシュリヒ
ア・コリ(Escherichia coli) O
− 111に対するMIC(試験管内抗菌試験における
最小阻止濃度)値を下記に示す。
ア・コリ(Escherichia coli) O
− 111に対するMIC(試験管内抗菌試験における
最小阻止濃度)値を下記に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアシル基を、R^2は電子吸引基で置
換されたメチル基を、nは0または1を示す]で表わさ
れるセファロスポリンラクトン化合物またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324190A JPH02289584A (ja) | 1989-02-17 | 1990-02-14 | セファロスポリンγ―ラクトン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3900089 | 1989-02-17 | ||
| JP1-39000 | 1989-03-31 | ||
| JP3324190A JPH02289584A (ja) | 1989-02-17 | 1990-02-14 | セファロスポリンγ―ラクトン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02289584A true JPH02289584A (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=26371916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3324190A Pending JPH02289584A (ja) | 1989-02-17 | 1990-02-14 | セファロスポリンγ―ラクトン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02289584A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012502097A (ja) * | 2008-09-10 | 2012-01-26 | セルジーン コーポレイション | アミノスルホン化合物を調製するためのプロセス |
| WO2017002903A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | 塩野義製薬株式会社 | スルフィニルまたはスルホニルを有する三環性化合物 |
| WO2018123920A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 塩野義製薬株式会社 | スルフィニルを有する三環性化合物およびそれを含有する医薬組成物 |
-
1990
- 1990-02-14 JP JP3324190A patent/JPH02289584A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012502097A (ja) * | 2008-09-10 | 2012-01-26 | セルジーン コーポレイション | アミノスルホン化合物を調製するためのプロセス |
| WO2017002903A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | 塩野義製薬株式会社 | スルフィニルまたはスルホニルを有する三環性化合物 |
| CN107922436A (zh) * | 2015-06-30 | 2018-04-17 | 盐野义制药株式会社 | 具有亚磺酰基或磺酰基的三环性化合物 |
| WO2018123920A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 塩野義製薬株式会社 | スルフィニルを有する三環性化合物およびそれを含有する医薬組成物 |
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