JPH0229329A - 低反射透明成形体 - Google Patents

低反射透明成形体

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JPH0229329A
JPH0229329A JP17810688A JP17810688A JPH0229329A JP H0229329 A JPH0229329 A JP H0229329A JP 17810688 A JP17810688 A JP 17810688A JP 17810688 A JP17810688 A JP 17810688A JP H0229329 A JPH0229329 A JP H0229329A
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JP
Japan
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component
coating
coating composition
formula
coating film
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JP17810688A
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Kie Yoneda
貴重 米田
Tsuneo Wakabayashi
若林 常生
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] 本発明は、その表面反射を防止し、防眩性が高められる
とともに、可視光線透過率の低下がなく、その視認性の
向上された透明プラスデック基材よりなる低反射透明成
形体に関するものである。
[従来の技術] 一般に、プラスチック材料、特に透明プラスチック材料
は透明性に加えて、自身の有する軽量、耐衝撃性および
易加工性などの特性を利用して、建築物の窓・ドアー・
間仕切り、ショーウィンド・ショーケース、車輌の窓・
照明灯レンズ・計器類の保護板・2輪車の風防・OA機
器のハウジング、光学レンズ・メガネレンズなどの広い
分野に応用されている。
しかしながら、それらプラスチック材料の表面は太陽光
、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、あるいは周囲
の景観が映り透明性や透視性が阻害されたり、光の反射
により光線透過率が低下してプラスチックを通してみる
と明るさが損なわれるという問題がある。かかる問題は
、例えば近年省エネルギー政策の面から進められている
太陽光の集光機において集光部に用いられる透明材料の
表面での反射損失の増大を招いたり、また、自動車に装
備される指示計器類の損傷を防止するための透明保護板
における反射像の映りによるメーター、文字板等の視認
性の低下を招くことになる。
また、プラスチック材料は耐擦傷性、耐熱性等に問題の
あることは従来より知られているところである。
したがって、プラスチック材料表面での低反射化、さら
に耐擦傷性の向上に関し、その表面に反射防止膜やハー
ドコート膜、あるいはそれらの多層膜について多くの提
案がなされている。低反射化としてはプラスチック材料
と屈折率の異なる主として無機物、例えばStow。
Al2O5,Zr0a、 TiOxなどの金属酸化物の
低屈折率の薄膜と高屈折率の薄膜とを交互に真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンビーム法などで形成するこ
とがよく知られている。また、高分子物質からなる低反
射処理剤をプラスチック材料の表面に塗布、吹き付け、
あるいは処理剤中に浸漬することによって低反射性の塗
膜を形成する処理方法や低反射処理剤も実用化されてい
る。さらに、プラスチック材料表面に緻密な凹凸状の加
工を施こし、低反射化を計るという試みもなされている
而して、上記の種々なる低反射化の方法において、無機
物の薄膜を形成する方法は装置が高価であるため反射防
止されたプラスチックが高価となる、適用材料が制約さ
れる、薄膜の密着性が低い、耐衝撃性の低下を招く、薄
膜形成工程における熱履歴により変形、光学歪を生ずる
などの問題点がある。また、高分子物質からなる低反射
処理剤の塗膜は有機材料の屈折率の自由度が小さいため
に反射防止能を充分に高めることが困難であり、しかも
耐久性に劣るという問題を有している。さらに、プラス
チック材料の表面を緻密な凹凸状に加工する方法は低反
射化という点で効果を示すとしても光線透過率の低下を
招き両者の特性のバランスの維持が困難であった。特に
いずれの方法、によっても、表面へのほこりの付着など
による反射防止能の低下を防ぐことはなし得なかった。
[発明の解決しようとする課題] 本発明は、プラスチック材料の低反射化における前記の
如き問題点を解消するためになされたものであり、した
がって、その目的とするところは比較的安価に、反射防
止能が付加され得て、しかも光線透過率とのバランスが
適度に保たれる低反射透明成形体を新規に提供すること
にある。さらに本発明の他の目的はプラスチック基材の
表面に形成される低反射塗膜が基材に密に、かつ強固に
接着されてなり、耐擦傷性、耐久性に優れた低反射塗膜
が形成された低反射透明成形体を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 即ち、本発明は透明プラスチック基材の表面に下記(A
1)成分または該(A1)成分と(A2)成分とよりな
るコーティング組成物の塗膜の少なくとも1層および下
記(B1)成分または該(B1)成分と(B2)成分と
よりなるコーティング組成物の塗膜の少なくとも1層と
が多層に設けられてなることを特徴とする低反射透明成
形体に関するものである。
(A1)一般式 で表わされる繰返し単位を有する化合物の少なくとも1
種。
(但し式中 Xl、 Xilはそれぞれフッ素を除くハ
ロゲン、メチル基、エチル基、メトキシ基を示し、同一
または異なっていてもよい、a、bはそれぞれO〜4の
整数を示す。) (A2) −一般式 %式% で表わされる有機ケイ素化合物またはその部分加水分解
物の少なくとも1種。
(但し式中、11.R1はそれぞれ炭素数1〜16の有
機基を示し、同一または異なっていてもよい、Ylは加
水分解可能な官能性有機基、c、dはそれぞれO〜3の
整数を示し、0≦c+d≦3を満たす。) (旧)一般式 で表わされる含フツ素化合物またはその部分加水分解物
の少なくとも1種。
(但し式中、R”、 R’は水素または炭素数1〜6の
有機基を示し、同一または異なっていてもよい、x3は
加水分解可能性基を示し。
e、fは1〜3の整数を示す。) (B2)一般式 %式% で表わされる有機ケイ素化合物またはその部分加水分解
物の少なくとも1種。
(但し式中、p、6.16はそれぞれ炭素数1〜16の
有機基を示し、同一または異 なっていてもよい ygは加水分解可能な官能性有機基
、i、jはそれぞれ0〜3の整数を示し、0≦1+j≦
3を満 たす。) 本発明における透明プラスチック基材としては、例えば
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹
脂、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)
(以下、PPG社商品名“CR−39”という)重合体
、CR−39とスチレンとの共重合体、Cト39とジア
リルフタレートとの共重合体、(ハロゲン化)ビスフェ
ノールAのジアリルカーボネート重合体およびその共重
合体、(ハロゲン化)ビスフェノールAのジ(メタ)ア
クリレート重合体およびその共重合体、(ハロゲン化)
ビスフェノールAのウレタン変性(メタ)アクリレート
重合体およびその共重合体などが挙げられる。
上記の透明プラスチック基材の表面に設けられる(A1
)成分または該(A1)成分と(A2)成分とよりなる
コーティング組成物(以下、コーティング組成物(A)
 という)において、(A1)成分の化合物としては、
例えば、 +S@5−CI1.cn、−@)−CIl、all、→
などの繰返し単位を有する化合物が挙げられ、それらの
少なくとも1種を用いる。これら例示の化合物よりなる
ポリマーは、例えばジビニルベンゼンとp−ペン七ンチ
オールとを紫外線照射下、またはラジカル重合開始剤の
存在下で反応させることによって得られる(特開昭62
=270627号公報参照)。
(A1)成分は高屈折率塗膜を得るのに必須な成分であ
り、しかも基材への密着性を向上させるのに有用な成分
でもある。
コーティング組成物(A)には(A1)成分に(A2)
成分として前記一般式で表わされる有機ケイ素化合物を
含有さゼることによって塗膜の耐擦傷性、可撓性、耐薬
品性などを向上し得るが、(All成分にに比して屈折
率が低いため目的とする屈折率とのバランスを考慮する
ことが必要である。(A2)成分としての化合物の具体
的なとしては、メヂルシリケート、エチルシリケート、
ロープロピルシリケート、i−プロピルシリケート、ロ
ーブチルシリケート、5ec−ブチルシリケートおよび
し一ブチルシリケートなどのテトラアルコキシシラン類
、およびその加水分解物さらにはメチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシ
エトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチル
トリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン
、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3.3.3−
トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−
β−(アミノエチル)−丁−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリフエノキシシラン、クロロメチルトリメトキシシ
ラン5クロロメチルトリエトキシシラン、グリシドキシ
メチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエ
トキシシラン、a−グリ・シトキシエチルトリメトキシ
シラン、a−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルトリエトキシシラン、a−グリシドキシ
プロビルトリメトキシシラン、a−グリシドキシプロビ
ルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン、β−グリシドキシプロビルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシブロビルトリブロボキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシブロビルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロビルトリフエノキシシラン、α−グリシドキ
シブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチル
トリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメト
キシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3
,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリプロポキンシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、
β−(34−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリフエノキシシラン、γ−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン
、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルト
リエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)プチルトリメトキシシラン、δ−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシランなどの
トリアルコキシシラン、トリアジルオキシシランまたは
トリフエノキシシラン類またはその加水分解物およびジ
メチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチルジェ
トキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラン。
ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシ
プロピルメチルジェトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
メチルジェトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジェトキシ
シラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニル
ジェトキシシラン、グリシドキシエチルメチルジメトキ
シシラン、グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン
、a−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α
−グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン、β−グ
リシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシ
ドキシエチルメチルジェトキシシラン、a−グリシドキ
シプロビルメチルジメトキシシラン、a−グリシドキシ
プロビルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシプ
ロビルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロ
ビルメチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
メチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシブロビルメ
ヂルジブロボキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメ
チルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチ
ルジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシブロビ
ルエヂルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
エチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシブロビルエ
チルジブロボキシシラン、γ−グリシドキシプロビルビ
ニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルビニ
ルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルフエニ
ルジメトキシシラン、γグリシドキシプロビルフエニル
ジエトキシシラン、などジアルコキシシランまたはジア
シルオキシシランなどが挙げられ、かかる有機ケイ素化
合物またはその部分加水分解物の少なくとも1種が用い
られる。コーティング組成物 (A)において(All
成分と(A2)成分との比率を変えることによって幅広
い範囲の屈折率値のコーティング組成物を得ることが可
能となる。
コーティング組成物(A)は(A1)成分単独または(
A1)成分と(A2)成分とを単に混合する、あるいは
必要によって添加される後記のような添加剤とともに混
合するのみでよい。また、(A2)成分の部分加水分解
物を得てから混合してもよく、部分加水分解は塩酸、酢
酸、硫酸などの酸性水溶液または純水を添加することに
よって達成される。
コーティング組成物(A)の調製に際して、(A1)成
分と(A2)成分とを併用の場合、部分加水分解を同時
に行なうことも可能であり、かかる際の水などの添加は
一度に加えてもよいが、好ましくは加水分解速度を制御
するために液温、添加速度を調節しながら行う。
加水分解に際してはアルコール、アルコキシアルコール
等が生成するがこれらと水等を加熱及び減圧下にて適当
量除去することによって、固形分濃度を比較的任意に調
節することができる。また、完全に除去後、適当な溶媒
を加えることで、実質的に任意な溶媒を選択できる。
溶媒としては、アルコール、エステル、エーテル、ケト
ン、ハロゲン化炭化水素、芳香族系溶媒が目的に応じて
使用可能で、必要なら、混合溶媒系も使用可能である。
さらに、この組成物に種々の添加剤を目的に応じて加え
ることは問題がない。このコーティング組成物によって
得られる塗膜の平滑性を向上させるために種々の界面活
性剤を使うことが可能である。また、各種の金属酸化物
ゾル、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂等の各種の添加剤
を添加することもできる。その他、黄変防止のためベン
ゾフェノン系、トリアゾール系、サルデル酸系などの紫
外線吸収剤が添加できる。これらの各種添加剤はコーテ
ィング組成物との相溶性を考慮して選択される。
本発明における(B11成分または(B1)成分と(B
2)成分とよりなるコーティング組成物(以下、コーテ
ィング組成物(Bl という)において、(旧)成分お
よび(B2)成分は前記一般式にて表わされる化合物ま
たはその部分加水分解物が用いられる。而して(B1)
成分の化合物はポリフルオロアルキレン基含有ビスシラ
ン化合物であってF原子の分極率が小さく、シたがって
屈折率も低く低反射性、高透過性を発現するための成分
である。また、この成分は得られる塗膜の耐擦傷性を向
上させるに有用な成分でもある。
(B1)成分の化合物の代表例を示すとX5SiCxl
14(CFa)nCJ4SiXs(但し式中、XはCI
、 0CIIs、 0Czlls、nは4〜16の整数
を示す。) などの含フツ素化合物またはその部分加水分解物が挙げ
られ、それらの少なくとも1種が用いられる。
コーティング組成物(B)には(B1)成分に、さらに
(B2)成分として前記一般式で表わされる有機ケイ素
化合物を併用して含有させて塗膜の特性を向上させるこ
とができる。かかる(B2)成分は(A2)成分の有機
ケイ素化合物と同様の化合物を例示し得て、 (B2)
成分と(A2)成分の化合物は同種であってもよい。而
して、コーティング組成物(B)は低屈折率の塗膜の形
成を目的とするところから含フツ素化合物であるのが好
ましい。かかる化合物を例示すると RfCxl14SiX’ 5 RfCzl14SiX’ * AH。
(IlfCd14) asiX’ ffRf CON 
II Cx II a S i X ′。
RfC口N It C* It 、 N II Cs 
It 、 S i X ”。
RI’SO,N (CL) C,11,C0N11 (
CH,) SiX’ 。
RfCsllJCO(CIlz) ts (CL) S
iX’ 5RfC!I1.OC口N)lcsllasi
X′5RfCzLNllCitLSiX’ s(但し式
中、Rfは炭素数4から16のポリフルオロアルキル基
%x′はCI、OCL、口C、11、、nは4から16
の整数、mは1以上の整数を示す。)などのポリフルオ
ロアルキル基含有のシラン化合物、またはその部分加水
分解物が挙げられ、それらの少なくとも1種が用いられ
る。
コーティング組成物(B)の調製はコーティング組成物
(A)の場合と同様に行ない、また、加水分解、さらに
溶媒の選択なども同様でよい。
而して、塗膜の形成に際して、加熱温度を低くし、加熱
時間を短縮して硬化を促進するためにシラノール縮合用
硬化触媒の添加が必要である。かかる硬化触媒は従来公
知の例えば、エタノールアミン、ジェタノールアミン、
エチレンジアミンなどの有機アミン、酸化鉛、炭酸鉛、
ステアリン酸鉛のような各種鉛化合物、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドのような第4級アンモニ
ウム化合物、アルミニウムアセチルアセトン、コバルト
アセチルアセトンのような金属キレート化合物などを用
いることができる。
さらにコーティング組成物(81には種々の添加剤を目
的に応じて加えることは問題がなく、この組成物によっ
て得られる塗膜の平滑性を向上させるために種々の界面
活性剤を用いることが可能である。即ち、目的に応じて
例えば下記のような含フツ素化合物、 ポリフルオロアルキレン基含有ジェポキシ化合物、 ポリフルオロアルキル基含有メタクリレートとメタクリ
ル酸誘導体との共重合体、例えばとの共重合体、 ポリフルオロアルキル基含有アルコールとメラミン誘導
体との反応物、例えば Rf(C11□)20H との反応物。
など、さらには金属酸化物ゾル、エポキシ樹脂、ブチラ
ール樹脂等の各種の添加剤、黄変防止のためベンゾフェ
ノン系、トリアゾール系、サルチル酸系などの紫外線吸
収剤が添加できる。紫外線吸収剤は組成物との相溶性を
考慮して選択する。
コーティング組成物(A)およびコーティング組成物(
B)の塗膜を設けるには、浸漬塗布、回転塗布、スプレ
ー塗布、流し塗り、ローラー塗布など従来公知の方法が
採用可能である。塗布後は、70〜160℃の温度で3
0〜120分間加熱処理することにより実用に耐え得る
硬化塗膜が形成される。而して、コーティング組成物(
B)の塗膜は低屈折率塗膜としてコーティング組成物(
A)の塗膜を介して設けることによって低反射性を発現
する。また、コーティング組成物(B)の塗膜はコーテ
ィング組成物(A)の塗膜を介して最上層(空気側)に
位置して設ける。したがって基材とコーティング組成物
(B)の塗膜との間には少なくとも1層のコーティング
組成物(A)の塗膜が介在する。コーティング組成物(
A)の塗膜は、例えば(A1)成分と(A2)成分との
混合比率を変化させることで種々の屈折率の塗膜が設計
可能である。また、種々なる屈折率の塗膜を組合せて複
数層に設けて目的とする特性の塗膜とすることが=r能
である。コーティング組成物(A)およびコーティング
組成物(B)の塗膜形成において、多層に形成する層数
に限度はないが層数が多くなると塗膜の均一性を保つの
が技術的に困難になり、実用的にはコーティングコスト
の問題もあり、2〜3層とするのが適当である。塗膜の
多層化は個々の塗膜を完全に硬化させた後、塗り重ねて
もよく、また、ある程度の時間風乾させた後、あるいは
不完全な硬化状態において塗り重ねてもよく、方法はコ
スト、後工程を加味して適宜選択することができる。
[実施例] 以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例にのみ限定されるものでないことは
勿論である。
実施例1〜3  比較例1 ■コーティング組成物(^)の調製 (A1)成分の調製 下記式(a1) (重量平均分子量859口00) で表わされる繰返し単位を有する化合物5.0gを N
−メチル−2−ピロリドン 100gに加えて75℃に
加温して溶解した。引続いて75℃、5時間維持した後
、室温に放置した。(以下、この溶液を)IA−(11
と略記する。) (^2)成分の調製 γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン5gをN
−メチル−2−ピロリドン65.8gに溶解し、これに
、5℃以下に冷却した1%塩酸水溶液2.5gを徐々に
滴下した。滴下終了後2時間は5℃の状態を維持しその
後室温に戻し、さらに、過塩素酸マグネシウム0.1g
を加え、室温にて1週間熟成した。(以下、この溶液を
IIA−02と略記する。) 上記の如く調製したHA−01とIIA−02とを第1
表に示す割合で混合してコーティング組成物(Al を
調製した。
■コーティング組成物(B)の調製 下記式 (b1) で表わされるポリフルオロアルキレン基含有とスジラン
化合物を(B1)成分とし、その20gおよびγ−グリ
シドキシプロビルトリメトキシシランを(B2)成分と
してその6.2gとをジアセトンアルコール520gに
溶解し、液温を10℃以下に保ち1%塩塩酸酸水溶液3
.4を徐々に滴下した。滴下終了後も液温を10℃以下
に1時間保ち、その後室温に戻し5日間放置した。さら
に、これにアルミニウムアセチルアセトネート!、1g
を加えてコーティング組成物(B)を調製した。
■基材への塗膜の形成 ジエチレングリコールビスアリルカーボネート(以下、
C1+−39と略記する)よりなる1OcrnX IO
cmX 2mmの板体な1−記の如く調製したコーティ
ング組成物(A)に浸漬し、引上げ速度15cn+/分
の条件で引上げた後、140℃にて30分間加熱処理し
て硬化させ塗膜を形成した。続いて、これを上記のコー
ティング組成物(B)に浸漬し、引上げ速度6cm/分
の条件で引上げた後、100℃にて 120分間加熱処
理して硬化させ塗膜を形成した。
このようにして、コーティング組成物(A)およびコー
ティング組成物(B)よりなる塗膜の設けられた低反射
透明成形体の特性を次のように評価した。その結果を表
1に示す。
1 耐性試験 ’ooooスチールウール(商品名“ボンスター”日本
ボンスター■製品)で摩擦し傷のつきにくさを調べ次の
ように判定した。
A:強く摩擦しても全(傷がつかない B:強く摩擦すると少し傷がつく C:強く摩擦すると傷が多くつく 2 反射率測定 自記分光光度計性反射光測定付属装置(日立製作所型:
323型)を使用し波長4000μ〜7000μの入射
角5°における平均反射率を測定。
3 付着性試験 クロスカットテープテストで塗膜表面にナイフで1mm
間隔で縦横に11本の平行線を入れて 100個のマス
目をクロスカットし、その上にセロファン粘着テープを
付着させた後テープを剥離して 100個のマス目の中
で剥離しないマス目の数を調べた。
4 耐久性試験 煮沸水中にIhr浸漬後の塗膜の付着性及び耐擦傷性を
調べた。
表1 尚、比較例1のコーティング組成物(B)の(旧)成分
は、式(b1)の化合物に代えて下記式(b4)の化合
物19gとした他は実施例1〜3と同様に調製した組成
物を使用した。
CsF I 1c21+4sI (OCIlsl 、l
    (b4)実施例4〜!1  比較例2 実・流側1〜3の■コーティング組成物(B)の調製に
おいて(旧)成分としてのポリフルオロアルキレン基含
有ビスシラン化合物を(b1)および(B2)成分とし
てのγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランを前
記式(b1)、 (b4) とともに下記式(b2) 
、 (b3) 、 [b5) 、 (b6)(Ctls
O) 5SiC*ll4(CFa) 5czl14Si
 (OCIIs) s  (b2)膜を形成した。
このようにしてコーティング組成物(A)およびコーテ
ィング組成物(B)よりなる塗膜の設けられた低反射透
明成形体の特性を実施例1〜3と同様にして評価した。
その結果を表3に示す。
表2 C1l、Si (OCII3) −(b61の化合物を
併用し、溶媒、酢酸水溶液、触媒などともにそれらの量
を表2に示す通りとして実施例1〜3と同様にして調製
した。
別に、実施例2と同様にして基材としてCR−39の板
体にコーティング組成物(A)の塗膜を形成し、続いて
これを上記のコーティング組成物(Bl に浸漬して、
実施例2と同様にして塗$)ジアセトンアルコール *本)アルミニウムアセチルアセトネート表3 実施例12〜17   比較例3〜6 ■高屈折率基材の調製 2.2−ビス[4−(2−アリルオキシカルボニルオキ
シ)エトキシ−3−5−ジブロモフェニル】プロパン7
0重1部、ジアリルイソフタレート 30重量部及びベ
ンジルアリルカーボネート 5重量部の混合組成物にラ
ジカル重合開始剤としてジイソプロピルパーオキシジカ
ーボネート 1゜5重量部を添加し混合した。
次いで、この混合液をガスケットを用いてキャスト重合
を行った。重合は40℃から昇温を開始し90℃にした
のち、90℃を2時間保った。
重合終了後、取り出した基板を110℃、2時間アニー
リングを行った。
かくして、屈折率1.585の透明基材を得た。
■コーティング組成物(A)の調製 実施例1〜3と同じ。
■コーティング組成物+8)の調製 実施例1〜3における(B2)成分としてのγ−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシランに代えて表4に示す
化合物と量とし、さらに1%酢酸水溶液またジアセトン
アルコールの量を表7に示す通りとした他は実施例1〜
3と同様にして調製した。
■基材への塗膜の形成 上記■にて得られた透明基材のIOcmX lOcmX
 2mmの板体な実施例1〜3と同様にして、表5に示
す割合に調製したコーティング組成物(^)に浸漬し、
加熱処理して硬化塗膜を形成し、続いて上記■にて調製
したコーティング組成物(B)に浸漬し、加熱処理して
硬化塗膜を形成した。
このようにして、コーティング組成物(A)およびコー
ティング組成物tB)よりなる塗膜の設けられた低反射
透明成形体の特性を実施例1〜3と同様にして評価した
。その結果を表5に示す。
表4 表5 \/ 実施例18〜19 実施例2における■コーティング組成物用(A)の調製
において(A1)成分の(at)化合物を下記式(a2
) 、 (a31 表6 (重量平均分子量4.000) (重量平均分子量35,000 ) で表わされる繰返し単位を有する化合物に代えた他は、
実施例2と同様にして基材としてのCR−39の板体に
コーティング組成物(A)の塗膜を形成し続いてこれに
実施例2と同様にしてコーティング組成物(B)の塗膜
を形成した。
このようにして、コーティング組成物(A)およびコー
ティング組成物(B) 、:りなる塗膜の設けられた低
反射透明成形体の特性を実施例1〜3と同様にして評価
した。その結果を表6に示す。
実施例20〜25    比較例7〜9実施例2におけ
る■コーティング組成物(A)の調製において(A2)
成分のγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランに
代えて表7に示す化合物と量とし、さらに1%酢酸水溶
液に代えて水をまたジアセトンアルコールの量を表7に
示す通りとした他は実施例2と同様にしてコーティング
組成物(A)を調製し、さらに実施例2と同様にしてC
R−39板体にコーティング組成物(Alの塗膜を形成
し、続いてこれに実施例2と同様にしてコーティング組
成物(B)の塗膜を形成した。
このようにして、コーティング組成物(A)およびコー
ティング組成物(B)より′なる塗膜の設けられた低反
射透明成形体の特性を実施例I〜3と同様にして評価し
た。その結果を表8に示す。
表7 表 ネネネ) ジアセトンアルコール 尚、比較例7〜9のコーティング組成物(B)の(旧)
成分は実施例2における(b1)化合物に代えて、下記
式(b5)化合物を25gとした他は実施例2と同様で
ある。
CIl、ClCl1.DC,11,si (OCIIs
) 、     +b5)\。/ 実施例26〜29 実施例1〜3におけるコーティング組成物(A)の(A
1)成分である11^−旧および同(A2)成分である
HA−02との混合割合を表9のように変化させたコー
ティング組成物(A)の8種を調製した。これらの1種
に基材としてのCR−39板体を浸漬し、引を速度30
cm/分まで引上げた後、80℃にて30分間加熱処理
して第1の塗膜を形成し、続いてこれをコーティング組
成物(A)の他の1種に浸漬し、引上速度6cm/分で
引上げた後、80℃にて30分間加熱処理して第2の塗
膜を形成した。
さらに、このコーティング組成物(A)の塗膜の形成さ
れたCR−39板体を実施例1〜3にて調製したコーテ
ィング組成物(B)に浸漬し引上速度6cm/分で引上
げた後、120℃にて 120分間加熱処理して塗膜を
形成した。
このようにしてコーティング組成物(Al の2層およ
びコーティング組成物(B)よりなる塗膜の設けられた
4種の低反射透明成形体の特性を実施例1〜3と同様に
評価した。その結果を表IOに示す。
表9 表 実施例30〜34 実施例1〜3において調製したコーティング組成物(A
)の(^1)成分であるIIA−01および同(A2)
成分である11A−02とを表11に示す割合で混合し
た組成物またはIIA−02単独、さらにコーティング
組成物(B)に表11に示す順序でCR−39板体を浸
漬、加熱処理を繰返して3層の塗膜を形成した。この際
の浸漬に伴なう引上速度はいずれも 6cm/分とし、
また加熱処理は 120℃にて60分とした。
かくして得られた低反射透明成形体の特性を実施例1〜
3と同様に評価した。その結果を表12に示す。
表11 表12 [発明の効果] 本発明の低反射透明成形体は光線反射防止性能および透
過率のバランスが保持されるという優れた効果を有し、
しかも付着性、耐擦傷性に優れ、特に耐久性試験後にお
いてもその特性は全く変わらないという優れた特性を有
している。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明プラスチック基材の表面に下記(A)成分ま
    たは該(A1)成分と(A2)成分とよりなるコーティ
    ング組成物の塗膜の少なくとも1層および下記(B1)
    成分または該(B1)成分と(B2)成分とよりなるコ
    ーティング組成物の塗膜の少なくとも1層とが設けられ
    てなることを特徴とする低反射透明成形体。 (A1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる繰返し単位を有する化合物の少なくとも1
    種。 (但し式中、X^1、X^2はそれぞれフッ素を除くハ
    ロゲン、メチル基、エチル基、メトキシ基を示し、同一
    または異なっていてもよい、a、bはそれぞれ0〜4の
    整数を示す。) (A2)一般式 R^1_cR^2_dSiY^1_4_−_c_−dで
    表わされる有機ケイ素化合物またはその部分加水分解物
    の少なくとも1種。 (但し式中、R^1、R^2はそれぞれ炭素数1〜16
    の有機基を示し、同一または異なっていてもよい、Y^
    1は加水分解可能な官能性有機基、c、dはそれぞれ0
    〜3の整数を示し、0≦c+d≦3を満たす。) (B1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる含フッ素化合物またはその部分加水分解物
    の少なくとも1種。 (但し式中、R^3、R^4は水素または炭素数1〜6
    の有機基を示し、同一または異なっていてもよい、X^
    3は加水分解可能性基、Rfはパーフルオロ基含有の有
    機基を示し、e、fは1〜3の整数を示す。) (B2)一般式 R^5_iR^6_jS_iY^2_4_−_i_−_
    jで表わされる有機ケイ素化合物またはその部分加水分
    解物の少なくとも1種。 (但し式中、R^5、R^6はそれぞれ炭素数1〜16
    の有機基を示し、同一または異なっていてもよい、Y^
    2は加水分解可能な官能性有機基、i、jはそれぞれ0
    〜3の整数を示し、0≦i+j≦3を満たす。)
  2. (2)(B1)成分または該(B1)成分と(B2)成
    分とよりなるコーティング組成物の塗膜の少なくとも1
    層が(A1)成分または該(A1)成分と(A2)成分
    とよりなるコーティング組成物の塗膜を介して設けられ
    てなることを特徴とする請求項1記載の低反射透明成形
    体。
  3. (3)(B1)成分または該(B1)成分と(B2)成
    分とよりなるコーティング組成物の塗膜が(A1)成分
    または該(A1)成分と(A2)成分とよりなるコーテ
    ィング組成物の塗膜を介して最外層に位置して設けられ
    てなることを特徴とする請求項1記載の低反射透明成形
    体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5640018A (en) * 1995-02-09 1997-06-17 J. Morita Manufacturing Corporation Image detecting device and medical X-ray imaging apparatus
US5784429A (en) * 1995-11-22 1998-07-21 J. Morita Manufacturing Corporation Dental panoramic X-ray imaging apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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