JPH02293642A - 全反射蛍光ｘ線分析の板状試料保持装置 - Google Patents
全反射蛍光ｘ線分析の板状試料保持装置Info
- Publication number
- JPH02293642A JPH02293642A JP1113845A JP11384589A JPH02293642A JP H02293642 A JPH02293642 A JP H02293642A JP 1113845 A JP1113845 A JP 1113845A JP 11384589 A JP11384589 A JP 11384589A JP H02293642 A JPH02293642 A JP H02293642A
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- JP
- Japan
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- sample
- vacuum
- chamber
- base
- holes
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- Pending
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は全反射蛍光Ｘ線分析の板状試料を正確に所定の
位置へ設定すると共にその曲がり等を補正することので
きる保持装置に関する。
位置へ設定すると共にその曲がり等を補正することので
きる保持装置に関する。
鏡面状の試料面に微小の角度で一次Ｘ線を照射してその
試料面に対向させた検出器で蛍光Ｘ線を検出し、かつこ
の蛍光Ｘ線の発生に寄与しない全反射Ｘ線の検出器への
入射を防止することによって、平面状をなした試料表面
の分析を高精度で行うことができる。ごのような装置に
おいては蛍光Ｘ線の検出Ｈｇと試料面との間の距離を出
来るだけ小さくして、空気分子による散乱Ｘ線が検出器
に入射することを防止する処置がとられる。しかしその
距離を１〜２ｍｍ程度に設定しても、なお散乱Ｘ線の入
射によって測定精度が低下することが判明した。かつ全
反射蛍光Ｘ線分析装置は試料而に極めて小さい角度で一
次Ｘ線を入射させるから、試料が例えばシリコンウエー
八のように薄板状をなしている場合、あるいはこのよう
な薄板表面における付着物を検出する場合等は、試料の
僅かな屈曲によって測定精度が低下し、また晶だしい場
合はウェーハの縁で入射Ｘ線が遮断されて分析が不可能
になることもある。従って本発明は上述のような欠点を
同時に除去すると共に試料が極めて薄い場合においてら
、これを損傷するようなおそれのない保持装置を提供す
るものである。
試料面に対向させた検出器で蛍光Ｘ線を検出し、かつこ
の蛍光Ｘ線の発生に寄与しない全反射Ｘ線の検出器への
入射を防止することによって、平面状をなした試料表面
の分析を高精度で行うことができる。ごのような装置に
おいては蛍光Ｘ線の検出Ｈｇと試料面との間の距離を出
来るだけ小さくして、空気分子による散乱Ｘ線が検出器
に入射することを防止する処置がとられる。しかしその
距離を１〜２ｍｍ程度に設定しても、なお散乱Ｘ線の入
射によって測定精度が低下することが判明した。かつ全
反射蛍光Ｘ線分析装置は試料而に極めて小さい角度で一
次Ｘ線を入射させるから、試料が例えばシリコンウエー
八のように薄板状をなしている場合、あるいはこのよう
な薄板表面における付着物を検出する場合等は、試料の
僅かな屈曲によって測定精度が低下し、また晶だしい場
合はウェーハの縁で入射Ｘ線が遮断されて分析が不可能
になることもある。従って本発明は上述のような欠点を
同時に除去すると共に試料が極めて薄い場合においてら
、これを損傷するようなおそれのない保持装置を提供す
るものである。
リ゜なわら本発明は、試料保持台の表面に複数個の排気
孔を開口させて、その孔を比較的高真空の１１空ポンプ
に連結することにより板状の試料を上記表面に吸着させ
てこれを保持すると共に試料が屈曲している場合は吸着
力でその屈曲を同時に修正し、かつ上記保持台および試
料を更に真空中に収容して、その真空室を而記真空ポン
プによる真空度より低い、例えば０．１気圧程度に排気
するものである。従って試料に入射するＸ線および反射
するＸ線が気体分子を照射することによる散乱Ｘ線の発
生は、これらが大気中を通過する場合のｌＯ分の■に減
少して、この散乱Ｘ線の発生を防止する効果は充分に得
られる。しかも試料保持台上における試料には排気孔の
部分に於いて、その両面の間に１０分の１気圧の力が加
わって、この力で試料が保持台の表面に強力に押し付け
られる。
孔を開口させて、その孔を比較的高真空の１１空ポンプ
に連結することにより板状の試料を上記表面に吸着させ
てこれを保持すると共に試料が屈曲している場合は吸着
力でその屈曲を同時に修正し、かつ上記保持台および試
料を更に真空中に収容して、その真空室を而記真空ポン
プによる真空度より低い、例えば０．１気圧程度に排気
するものである。従って試料に入射するＸ線および反射
するＸ線が気体分子を照射することによる散乱Ｘ線の発
生は、これらが大気中を通過する場合のｌＯ分の■に減
少して、この散乱Ｘ線の発生を防止する効果は充分に得
られる。しかも試料保持台上における試料には排気孔の
部分に於いて、その両面の間に１０分の１気圧の力が加
わって、この力で試料が保持台の表面に強力に押し付け
られる。
このため板状の試料が屈曲している場合でも、その屈曲
が補正されて測定精度が向上する。
が補正されて測定精度が向上する。
図面は本発明の一実施例で、第１図は一郎を縦断した正
面図、第２図は第１図における試料保持台の一部をＡ−
Ａ線に沿って横断した平面図である。すなわち真空室１
ｔ，：Ｘ線の入射窓２を設けると共にその内側にスリッ
ト３を配置してある。また土壁には適宜のＸ線検出器４
を取り付けると共に側壁にはこの真空室を例えばＩＯ分
の１気圧程度まで排気ずる真空ボンブ５を連結してある
。更に真空室１の内印に水平に配置した試料保持台６に
真空室７を設けて、その真空室を多数の試料吸引孔８．
８・・・にょって上面に開口させると共に導管９をらっ
て真空ボンブ１０に連結し、この導管中に試料着脱のた
めの開閉弁ｌ１を設けてある。また保持台６の上面は完
全な水平而を形成しているから、この面に任意の板状試
料＋２を載置して弁１ｌを開くことにより、真空室７を
例えば１００分の１気圧程度以下の高真空まで排気する
と、試料１２が真空室１と７とのｔｔυの気圧差ｌこよ
って保持台６に固定される。なお、図においてＩ３はＯ
リングＩ４は保持台６の支持体である。
面図、第２図は第１図における試料保持台の一部をＡ−
Ａ線に沿って横断した平面図である。すなわち真空室１
ｔ，：Ｘ線の入射窓２を設けると共にその内側にスリッ
ト３を配置してある。また土壁には適宜のＸ線検出器４
を取り付けると共に側壁にはこの真空室を例えばＩＯ分
の１気圧程度まで排気ずる真空ボンブ５を連結してある
。更に真空室１の内印に水平に配置した試料保持台６に
真空室７を設けて、その真空室を多数の試料吸引孔８．
８・・・にょって上面に開口させると共に導管９をらっ
て真空ボンブ１０に連結し、この導管中に試料着脱のた
めの開閉弁ｌ１を設けてある。また保持台６の上面は完
全な水平而を形成しているから、この面に任意の板状試
料＋２を載置して弁１ｌを開くことにより、真空室７を
例えば１００分の１気圧程度以下の高真空まで排気する
と、試料１２が真空室１と７とのｔｔυの気圧差ｌこよ
って保持台６に固定される。なお、図においてＩ３はＯ
リングＩ４は保持台６の支持体である。
このように本発明の装置は多数の孔８．８・・・によっ
て板状試料Ｉ２を平面状の試料台６に吸着させるから、
この試料が屈曲している場合でもその屈曲が補正されて
、表面が完全な平面を形成する。従ってＸ線Ｘを試料而
に極めて小さい角度θで入射させることにより試料面で
全反射を生じさせて、これを試料の蛍光Ｘ ｌｉＡ ｙ
から分離させる場合に、上記入射角θを正確に所定の値
に保持することができると共に入射Ｘ線が試料の縁等で
遮断されるような恐れも除かれる。かつＸ線の通路は例
えばＩＯ分の１気圧程度に保持されるから、吸収による
Ｘ線の減衰はこれをほぼ完全に防止することができる。
て板状試料Ｉ２を平面状の試料台６に吸着させるから、
この試料が屈曲している場合でもその屈曲が補正されて
、表面が完全な平面を形成する。従ってＸ線Ｘを試料而
に極めて小さい角度θで入射させることにより試料面で
全反射を生じさせて、これを試料の蛍光Ｘ ｌｉＡ ｙ
から分離させる場合に、上記入射角θを正確に所定の値
に保持することができると共に入射Ｘ線が試料の縁等で
遮断されるような恐れも除かれる。かつＸ線の通路は例
えばＩＯ分の１気圧程度に保持されるから、吸収による
Ｘ線の減衰はこれをほぼ完全に防止することができる。
第１図は本発明実施例の一部を縦断した正面図、第２図
は第１図における試料保持台の一部をＡ−Δ線に沿って
横断した平面図である。なお図において、Ｉは真空室、
２はＸ線入射窓、３はスリット、４は検出器、５は真空
ポンプ、６は試料保持台、７は真空室、８は孔、９は真
空導管、１ｏは真空ボンブ、Ｉ１は弁、Ｉ２は試料、で
ある。
は第１図における試料保持台の一部をＡ−Δ線に沿って
横断した平面図である。なお図において、Ｉは真空室、
２はＸ線入射窓、３はスリット、４は検出器、５は真空
ポンプ、６は試料保持台、７は真空室、８は孔、９は真
空導管、１ｏは真空ボンブ、Ｉ１は弁、Ｉ２は試料、で
ある。
Claims (1)
- 板状試料の裏面を密着させる試料保持台に上記密着面に
開口する複数個の排気孔を設けてこの排気孔を真空ポン
プに連結すると共に上記試料の表面を真空室中に配置し
、かつ上記真空室を前記排気孔の真空度より低い真空度
に排気する手段を設けて、上記試料の表面に蛍光Ｘ線の
検出器を対向させた全反射蛍光Ｘ線分析の板状試料保持
装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113845A JPH02293642A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 全反射蛍光ｘ線分析の板状試料保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113845A JPH02293642A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 全反射蛍光ｘ線分析の板状試料保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02293642A true JPH02293642A (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=14622499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1113845A Pending JPH02293642A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 全反射蛍光ｘ線分析の板状試料保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02293642A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03255984A (ja) * | 1989-12-14 | 1991-11-14 | Abb Atom Ab | 沸騰水型原子炉の燃料集合体 |
| JPH0490946U (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-07 | ||
| JPH06123681A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Nikkiso Co Ltd | 自動サンプリング装置、ホッパー装置、受器洗浄装置、ホッパー洗浄装置及び受器搬送装置 |
-
1989
- 1989-05-08 JP JP1113845A patent/JPH02293642A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03255984A (ja) * | 1989-12-14 | 1991-11-14 | Abb Atom Ab | 沸騰水型原子炉の燃料集合体 |
| JPH0490946U (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-07 | ||
| JPH06123681A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Nikkiso Co Ltd | 自動サンプリング装置、ホッパー装置、受器洗浄装置、ホッパー洗浄装置及び受器搬送装置 |
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