JPH02298256A - 耐食用複層膜 - Google Patents
耐食用複層膜Info
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- JPH02298256A JPH02298256A JP11946289A JP11946289A JPH02298256A JP H02298256 A JPH02298256 A JP H02298256A JP 11946289 A JP11946289 A JP 11946289A JP 11946289 A JP11946289 A JP 11946289A JP H02298256 A JPH02298256 A JP H02298256A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は金属材料の耐食性向上のために蒸着形成される
耐食用薄膜に関する。
耐食用薄膜に関する。
（従来の技術）
鋼材等の母材の耐食性向上のために、母材表面に種々の
表面処理が行われており、最近では物理的蒸着法（ＰＶ
Ｄ法）や化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などの乾式めっ
きがよく沿いられている。
表面処理が行われており、最近では物理的蒸着法（ＰＶ
Ｄ法）や化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などの乾式めっ
きがよく沿いられている。
特に・ＰＶＤ法はハステロイなどの耐食合金の薄膜を形
成する上で、組成ずれを起こしにくいなどの特徴があり
、注目を集めている。
成する上で、組成ずれを起こしにくいなどの特徴があり
、注目を集めている。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、ＰＶＤ法、その中でもスパッタリング法
において特に問題となるのは、形成された薄膜の密着力
が弱いことであり、成膜条件によっては、膜の内部応力
が高くなり、熱歪と相まってＩＪの剥離が生じ易くなる
ことである。また、腐食環境下においては、熱サイクル
や圧力変動により、膜にふくれや割れが生じ易くなり、
耐食性低下の要因となる。
において特に問題となるのは、形成された薄膜の密着力
が弱いことであり、成膜条件によっては、膜の内部応力
が高くなり、熱歪と相まってＩＪの剥離が生じ易くなる
ことである。また、腐食環境下においては、熱サイクル
や圧力変動により、膜にふくれや割れが生じ易くなり、
耐食性低下の要因となる。
本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、母材との
密着力に優れ、ひいては良好な耐食性が確保される耐食
用薄膜を提供することを目的とする。
密着力に優れ、ひいては良好な耐食性が確保される耐食
用薄膜を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するためになされた本発明の耐食用薄膜
は、母材よりも耐食性が良好な活性金属で形成されかつ
母材側に配置される内層膜３と、該内層膜３よりも耐食
性が良好でかつ内層膜３の上に形成される外層膜４とか
らなる組合せ膜２を少なくとも一組備えていることを発
明の構成とするものである。
は、母材よりも耐食性が良好な活性金属で形成されかつ
母材側に配置される内層膜３と、該内層膜３よりも耐食
性が良好でかつ内層膜３の上に形成される外層膜４とか
らなる組合せ膜２を少なくとも一組備えていることを発
明の構成とするものである。
内層膜を形成する材料としては、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈｆ
およびそれらの合金、Ｎｉ等の耐食性が良好でかつ活性
なものを使用する。内層膜の厚さとしては１〜３μｍ程
度でよい。形成された内層膜の膜厚は±０．５μ−程度
変動するので、１μ−未満では局部的に相当薄い部分が
出来る。一方、３μｍを超えて形成してもボンディング
効果が向上する訳でもなく、成膜に時間がかかるだけで
ある。
およびそれらの合金、Ｎｉ等の耐食性が良好でかつ活性
なものを使用する。内層膜の厚さとしては１〜３μｍ程
度でよい。形成された内層膜の膜厚は±０．５μ−程度
変動するので、１μ−未満では局部的に相当薄い部分が
出来る。一方、３μｍを超えて形成してもボンディング
効果が向上する訳でもなく、成膜に時間がかかるだけで
ある。
前記内ｒｆ１膜の上に形成される外層膜は、母材との密
着性を考慮しなくてもよいため、耐食性に優れた任意の
材料で形成することができる０例えば、ハステロイは厳
しい腐食環境でも使用されることができ、しかも内層膜
よりも優れた耐食性を有するものであり、母材の寿命向
上には好適である。
着性を考慮しなくてもよいため、耐食性に優れた任意の
材料で形成することができる０例えば、ハステロイは厳
しい腐食環境でも使用されることができ、しかも内層膜
よりも優れた耐食性を有するものであり、母材の寿命向
上には好適である。
このほか、ＴｉＮ 、 Ｔｉ０１、Ｎ寞Ｏｓ 、５ｉＯ
ｔＳＳｉＣＳＴｉｃ、 Ｚｒ０＝、インコネル６２５な
どもハステロイと同様優れた耐食性を示し、外層膜材と
して好適である。
ｔＳＳｉＣＳＴｉｃ、 Ｚｒ０＝、インコネル６２５な
どもハステロイと同様優れた耐食性を示し、外層膜材と
して好適である。
本発明の耐食性多層膜は、ＰＶＤ法により母材に内層膜
を成膜した後、その上に外層膜を成膜することにより形
成される。第１図および第２図に示すように内層膜３と
外層膜４とからなる組合せ膜２は一組でもよく、あるい
は複数組設けてもよい。−組の場合は、外層膜の厚さは
５〜２０μｍ形成するのがよい０組合せ膜２を複層形成
する場合は、外層膜厚は２〜５μｌ程度として、全層厚
さを１０〜３０Ｄ１１程度とすればよい。尚、ＴｉＮの
ように厚く成膜するのが困難なものについては、外層膜
を１μ−以下とし、組合せ膜を複層にするのがよい、尚
、組合せ膜は多層に形成した方が、母材に到達するピン
ホールの発生確率を低下させることができ好適である。
を成膜した後、その上に外層膜を成膜することにより形
成される。第１図および第２図に示すように内層膜３と
外層膜４とからなる組合せ膜２は一組でもよく、あるい
は複数組設けてもよい。−組の場合は、外層膜の厚さは
５〜２０μｍ形成するのがよい０組合せ膜２を複層形成
する場合は、外層膜厚は２〜５μｌ程度として、全層厚
さを１０〜３０Ｄ１１程度とすればよい。尚、ＴｉＮの
ように厚く成膜するのが困難なものについては、外層膜
を１μ−以下とし、組合せ膜を複層にするのがよい、尚
、組合せ膜は多層に形成した方が、母材に到達するピン
ホールの発生確率を低下させることができ好適である。
（作 用）
本発明に係る組合せ膜２の内層膜３は耐食性の良好な活
性金属で形成されているので、母材ｌおよび外層ｌｌ１
４との密着性が良好であり、また腐食性ガス等が浸透し
てきた場合、母材ｌよりも耐食性に優れる内層膜３を腐
食させることにより、腐食性ガス等が母材ｌまで到達す
る時間を遅延させることができ、その結果母材ｌの寿命
を延ばすことができる。
性金属で形成されているので、母材ｌおよび外層ｌｌ１
４との密着性が良好であり、また腐食性ガス等が浸透し
てきた場合、母材ｌよりも耐食性に優れる内層膜３を腐
食させることにより、腐食性ガス等が母材ｌまで到達す
る時間を遅延させることができ、その結果母材ｌの寿命
を延ばすことができる。
（実施例）
（１）第１図および第２図に示すように、実施例１およ
び２として、鋼板母材１の表面に１組および２組の組合
せ膜２をスパッタリングによって形成した。尚、従来例
として、第３図のように、鋼板母材１の表面に耐食合金
膜５のみを形成した０組合せ膜２における内Ｊｉｌ！３
は膜厚２μ■であり、純Ｔｉで形成した。外層膜４は膜
厚５μ欄であり、ハステロイＣで形成した。従来例の耐
食合金膜５は膜厚７μ−で前記外層膜４と同一材質であ
る。成膜条件は各膜ともアルゴンガス圧力３Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒ、 ＲＦ （高周波）電力１５００Ｗとした
。
び２として、鋼板母材１の表面に１組および２組の組合
せ膜２をスパッタリングによって形成した。尚、従来例
として、第３図のように、鋼板母材１の表面に耐食合金
膜５のみを形成した０組合せ膜２における内Ｊｉｌ！３
は膜厚２μ■であり、純Ｔｉで形成した。外層膜４は膜
厚５μ欄であり、ハステロイＣで形成した。従来例の耐
食合金膜５は膜厚７μ−で前記外層膜４と同一材質であ
る。成膜条件は各膜ともアルゴンガス圧力３Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒ、 ＲＦ （高周波）電力１５００Ｗとした
。
（２）実施例１および２、従来例の各試料を０．５％沸
騰塩酸に１２０時間浸漬して腐食試験を行った。
騰塩酸に１２０時間浸漬して腐食試験を行った。
その結果を下記第１表に示す。
第１表
（３）第１表より、組合せ膜が１組の実施例１は、従来
例に比して腐食減量が４２％減少し、また薄膜に形態の
変化も生じなかった。更に、組合せ膜を２組形成した実
施例２では、減少率が７６％に及んだ。
例に比して腐食減量が４２％減少し、また薄膜に形態の
変化も生じなかった。更に、組合せ膜を２組形成した実
施例２では、減少率が７６％に及んだ。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明の耐食用複層膜は、母材より
も耐食性が良好な活性金属で形成されかつ母材側に配置
される内層膜と、該内層膜よりも耐食性が良好でかつ内
層膜の上に形成される外層膜とからなる組合せ膜を少な
くとも一組備えているので、耐食機能の主体となる外層
膜が内層膜を介して母材に強固に形成され、外層膜の剥
離やふくれ変形の発生を防止することができる。更に、
外部より外層膜を介して腐食ガス等が浸透してきても、
内層膜を腐食させることによって、母材への到達を阻止
し、母材の健全性確保、長寿命化を図ることができる。
も耐食性が良好な活性金属で形成されかつ母材側に配置
される内層膜と、該内層膜よりも耐食性が良好でかつ内
層膜の上に形成される外層膜とからなる組合せ膜を少な
くとも一組備えているので、耐食機能の主体となる外層
膜が内層膜を介して母材に強固に形成され、外層膜の剥
離やふくれ変形の発生を防止することができる。更に、
外部より外層膜を介して腐食ガス等が浸透してきても、
内層膜を腐食させることによって、母材への到達を阻止
し、母材の健全性確保、長寿命化を図ることができる。
第１図は実施例１に係る耐食用複層膜の形成状態を示す
断面図、第２図は実施例２に係る同断面図、第３図は従
来例に係る耐食用薄膜の同断面図を示す。 ２ ・組合せ膜、３・−内層膜、４・・・外層膜。
断面図、第２図は実施例２に係る同断面図、第３図は従
来例に係る耐食用薄膜の同断面図を示す。 ２ ・組合せ膜、３・−内層膜、４・・・外層膜。
Claims (1)
- （１）母材表面に蒸着により形成する耐食用薄膜であっ
て、母材よりも耐食性が良好な活性金属で形成されかつ
母材側に配置される内層膜３と、該内層膜３よりも耐食
性が良好でかつ内層膜３の上に形成される外層膜４とか
らなる組合せ膜２を少なくとも一組備えていることを特
徴とする耐食用複層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11946289A JPH02298256A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | 耐食用複層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11946289A JPH02298256A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | 耐食用複層膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02298256A true JPH02298256A (ja) | 1990-12-10 |
Family
ID=14761951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11946289A Pending JPH02298256A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | 耐食用複層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02298256A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864380A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
| JPS5896869A (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
| JPS61257466A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 蒸気タービンブレード |
| JPS63213655A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-06 | Nippon Dento Kogyo Kk | 装身具 |
-
1989
- 1989-05-11 JP JP11946289A patent/JPH02298256A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864380A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
| JPS5896869A (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
| JPS61257466A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 蒸気タービンブレード |
| JPS63213655A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-06 | Nippon Dento Kogyo Kk | 装身具 |
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