JPH02302165A - 画像読取装置 - Google Patents
画像読取装置Info
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- JPH02302165A JPH02302165A JP1121613A JP12161389A JPH02302165A JP H02302165 A JPH02302165 A JP H02302165A JP 1121613 A JP1121613 A JP 1121613A JP 12161389 A JP12161389 A JP 12161389A JP H02302165 A JPH02302165 A JP H02302165A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はファクシミリやイメージスキャナ等の画像読取
部に使用され、原稿幅に対して1:1の幅の受光部アレ
イを有する画像読取装置に係り、特に前記受光部アレイ
を複数のブロック毎に分割し、ブロック毎に画像の読み
取りを行なうマトリックス駆動方式の画像読取装置に関
するものである。
部に使用され、原稿幅に対して1:1の幅の受光部アレ
イを有する画像読取装置に係り、特に前記受光部アレイ
を複数のブロック毎に分割し、ブロック毎に画像の読み
取りを行なうマトリックス駆動方式の画像読取装置に関
するものである。
(従来の技術)
従来、画像読取装置としては、複数の受光素子をライン
状に配置した受光素子アレイと、これを駆動する駆動回
路から構成される。各受光素子に発生した電荷は、各受
光素子を順次選択するスイッチにより一本の出力線に時
系列的に抽出されるようになっている。そして、前記受
光素子アレイを構成する複数の受光素子を個々に駆動す
るためには、多数の駆動用ICチップを必要としていた
。
状に配置した受光素子アレイと、これを駆動する駆動回
路から構成される。各受光素子に発生した電荷は、各受
光素子を順次選択するスイッチにより一本の出力線に時
系列的に抽出されるようになっている。そして、前記受
光素子アレイを構成する複数の受光素子を個々に駆動す
るためには、多数の駆動用ICチップを必要としていた
。
そこで、近年a−3t薄膜トランジスタ(以下、T P
T )によるスイッチングを数画素分同時に行なう並
列処理により、駆動用ICチップの数を軽減して低価格
化を可能とするマトリックス駆動型画像読取装置が提案
されている。
T )によるスイッチングを数画素分同時に行なう並
列処理により、駆動用ICチップの数を軽減して低価格
化を可能とするマトリックス駆動型画像読取装置が提案
されている。
このマトリックス駆動型画像読取装置は、例えば第4図
に示すように、原稿幅と略同じ長さのライン状の受光素
子アレイ50をに個のブロックの受光素子群に分割して
いる。一つの受光素子群を形成するN個の受光素子51
は、’I’ F T 52のドレイン部にそれぞれ接続
されている。そして、TFT52のソース部は、マトリ
ックス回路53を介して受光素子群毎にN本の共通信号
線54に接続されている。各T P T” 52のゲー
ト部は、ブロック毎に導通ずるようにゲートパルス発生
回路55に接続されている。各受光素子51で発生ずる
光電荷は一定時間蓄積された後、TFT52を電荷転送
用のスイッチとして用いてブロック毎に順次共通信号線
54に導かれ、アナログマルチプレクサの00M出力に
抽出される。
に示すように、原稿幅と略同じ長さのライン状の受光素
子アレイ50をに個のブロックの受光素子群に分割して
いる。一つの受光素子群を形成するN個の受光素子51
は、’I’ F T 52のドレイン部にそれぞれ接続
されている。そして、TFT52のソース部は、マトリ
ックス回路53を介して受光素子群毎にN本の共通信号
線54に接続されている。各T P T” 52のゲー
ト部は、ブロック毎に導通ずるようにゲートパルス発生
回路55に接続されている。各受光素子51で発生ずる
光電荷は一定時間蓄積された後、TFT52を電荷転送
用のスイッチとして用いてブロック毎に順次共通信号線
54に導かれ、アナログマルチプレクサの00M出力に
抽出される。
その動作について一個の受光素子51から成る一画素分
の等価回路(第5図)を参照して説明する。初期状態と
してリセットスイッチR1,R2ともに閉じると、受光
素子51を構成するフォトダイオードPDには逆バイ−
、sスミ圧(VB )が印加され、共通信号線54電位
(■[)は0■にリセットされる。受光素子アレイ上に
配置された原稿(図示せず→に光源(図示せず)からの
光が放射されると、その反射光がフォトダイオードPD
に照射し、フォトダイオード側の容量<CD 、 CQ
d)には原稿の濃淡に応じた光の明暗信号に基づいて生
じた光電流Ipによる光電荷の供給がなされる。一定時
間光電荷を蓄積したのち、ゲートパルス発生回路からの
信号VGに基づきT F ’T” 52がオン状態とな
り、フォトダイオードPDと共通信号線541FIを接
続して電荷を転送する。マルチプレクサの信号入力は電
位検出方式によりハイインピーダンスとしているなめ、
電荷は全て回路中の容量に保存される。従って、前記電
荷転送とは、フォトダイオード側の容! (CD 、
Cod)と共通信号線側界i cct 、 CgS)と
の間での電荷の再配分を意味している。続いて、転送完
了後のV l。
の等価回路(第5図)を参照して説明する。初期状態と
してリセットスイッチR1,R2ともに閉じると、受光
素子51を構成するフォトダイオードPDには逆バイ−
、sスミ圧(VB )が印加され、共通信号線54電位
(■[)は0■にリセットされる。受光素子アレイ上に
配置された原稿(図示せず→に光源(図示せず)からの
光が放射されると、その反射光がフォトダイオードPD
に照射し、フォトダイオード側の容量<CD 、 CQ
d)には原稿の濃淡に応じた光の明暗信号に基づいて生
じた光電流Ipによる光電荷の供給がなされる。一定時
間光電荷を蓄積したのち、ゲートパルス発生回路からの
信号VGに基づきT F ’T” 52がオン状態とな
り、フォトダイオードPDと共通信号線541FIを接
続して電荷を転送する。マルチプレクサの信号入力は電
位検出方式によりハイインピーダンスとしているなめ、
電荷は全て回路中の容量に保存される。従って、前記電
荷転送とは、フォトダイオード側の容! (CD 、
Cod)と共通信号線側界i cct 、 CgS)と
の間での電荷の再配分を意味している。続いて、転送完
了後のV l。
を検知した後、次のブロックの画素信号を転送するため
に、共通信号線54はR32によりリセットされる。
に、共通信号線54はR32によりリセットされる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記マトリックス駆動型画像読取装置によ
ると、マトリックス回路53は第6図に示すように、絶
縁膜70を介して配線71.71を多層とした薄膜技術
による多層配線で形成されているので、構造的に次のよ
うな問題点が存在した。
ると、マトリックス回路53は第6図に示すように、絶
縁膜70を介して配線71.71を多層とした薄膜技術
による多層配線で形成されているので、構造的に次のよ
うな問題点が存在した。
すなわち、この多層配線はマトリックス状に配線される
ため配線間に交差部が存在し、この部分に結合容量CC
を生じさせてしまう。この交差部は、一本の共通信号線
に対して共通信号!154の数Nから1を減じた数に等
しい数だけ存在する。
ため配線間に交差部が存在し、この部分に結合容量CC
を生じさせてしまう。この交差部は、一本の共通信号線
に対して共通信号!154の数Nから1を減じた数に等
しい数だけ存在する。
また、平行信号線間においても結合容量cpが生じる。
従って、フォトダイオードPDに蓄積された電荷がT
P T 52を介して各共通信号線54の固定容量(配
線容量)CLに転送される際、各共通信号線54間の電
位差により前記結合容量Cc。
P T 52を介して各共通信号線54の固定容量(配
線容量)CLに転送される際、各共通信号線54間の電
位差により前記結合容量Cc。
cpにも電荷が蓄積される。その結果、固定容量(配線
容Ji)CLに蓄積される電荷量が変化するクロストー
ク現象が生じ、各フォトダイオードPDで生じた電荷を
アナログマルチプレクサの00M出力に正確に抽出でき
ず画像品質を劣化させるという欠点があった。
容Ji)CLに蓄積される電荷量が変化するクロストー
ク現象が生じ、各フォトダイオードPDで生じた電荷を
アナログマルチプレクサの00M出力に正確に抽出でき
ず画像品質を劣化させるという欠点があった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、マトリック
ス駆動を行ないながらクロストークの影響を排除するが
できる画像読取装置を提供することを目的とする。
ス駆動を行ないながらクロストークの影響を排除するが
できる画像読取装置を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
上記従来例の問題点を解消するなめ本発明は、受光部ア
レイを複数の受光部群に分割し、マトリックス駆動によ
って前記各受光部群からの信号を読み取る画像読取装置
において、次の構成を特徴としている。
レイを複数の受光部群に分割し、マトリックス駆動によ
って前記各受光部群からの信号を読み取る画像読取装置
において、次の構成を特徴としている。
前記受光部アレイ上に配置し、前記各受光部群に照射す
る光の通過を制御する液晶シャッターを設ける。
る光の通過を制御する液晶シャッターを設ける。
前記各受光部群の各受光部からの光を導く第1の光導路
を設ける。
を設ける。
前記受光部の個数に対応する光電変換素子を有するセン
サ部に光を導く第2の光導路を設ける。
サ部に光を導く第2の光導路を設ける。
前記第1の光導路と第2の光導路とは、マトリヴクス状
に接続されている。
に接続されている。
(作用)
本発明によれば、液晶シャッターの開閉を制御すること
により、受光部群毎に受光部の個数に対応する光電変換
素子に接続し、受光部に入射する光を電気信号として読
み取る。すなわち、受光部に入射した光は、マトリック
ス状に接続された第1の光導路及び第2の光導路を介し
て、受光部の個数に対応する光電変換素子を有するセン
サ部に導きかれ、このセンサ部で電気信号に変換される
。
により、受光部群毎に受光部の個数に対応する光電変換
素子に接続し、受光部に入射する光を電気信号として読
み取る。すなわち、受光部に入射した光は、マトリック
ス状に接続された第1の光導路及び第2の光導路を介し
て、受光部の個数に対応する光電変換素子を有するセン
サ部に導きかれ、このセンサ部で電気信号に変換される
。
従って、マトリックス構造となる光導路では光信号とし
て伝搬されるので、光導路10中においては互いに電気
的な影響を受は合うことがない。
て伝搬されるので、光導路10中においては互いに電気
的な影響を受は合うことがない。
(実施例)
本発明の一実施例について図面を参照しながら説明する
。
。
第1図は実施例に係る画像読取装置の平面説明図であり
、第2図は第1図のn−n′線断面説明図、第3図は第
1図のm−m’線断面説明図である。
、第2図は第1図のn−n′線断面説明図、第3図は第
1図のm−m’線断面説明図である。
セラミック等から成る絶縁基板1上には、画素毎に離散
的に第1の光導路2が形成されている。
的に第1の光導路2が形成されている。
この光導路2は副走査方向に長尺に設けられ、その周囲
には、外部からの光の侵入を遮断するとともに、光導路
2内を光が反射しながら伝搬するように遮光IEfi3
,4が設けられている。光導路2の材料としては、伝搬
光の損失が少ない材料、例えばガラス、Sin、、Al
2O,等の酸化物、CaF、、BaF2等のフッ化物、
AgCl、NaC1等のハロゲン化物等が適当である。
には、外部からの光の侵入を遮断するとともに、光導路
2内を光が反射しながら伝搬するように遮光IEfi3
,4が設けられている。光導路2の材料としては、伝搬
光の損失が少ない材料、例えばガラス、Sin、、Al
2O,等の酸化物、CaF、、BaF2等のフッ化物、
AgCl、NaC1等のハロゲン化物等が適当である。
また、遮光膜3.4の材料としては、入射光の波長域で
反射係数が大きい金属薄膜、例えばCr、AI、Ag、
Ti等が適している。
反射係数が大きい金属薄膜、例えばCr、AI、Ag、
Ti等が適している。
光導路2の端部上の遮光膜4には画素に対応する複数の
方形状の開口部4aが形成され、原稿(図示せず)から
の反射光を光導路2内に入射させるための受光部5を構
成している。開口部4aの形状は方形状としたが、副走
査方向に41i1長い長方形状としてもよい。また、前
記受光部5は、16個/ m mで形成する場合、日本
工業規格B4サイズの原稿を読み取り可能とするために
2048個が設けられ、全体としてライン状の受光部ア
レイを構成している。そして、64個の受光部5を1ブ
ロツクとして受光部アレイを32ブロツクに分割し、各
受光部群6を覆うようにそれぞれ液晶シャッター7が配
置されている。
方形状の開口部4aが形成され、原稿(図示せず)から
の反射光を光導路2内に入射させるための受光部5を構
成している。開口部4aの形状は方形状としたが、副走
査方向に41i1長い長方形状としてもよい。また、前
記受光部5は、16個/ m mで形成する場合、日本
工業規格B4サイズの原稿を読み取り可能とするために
2048個が設けられ、全体としてライン状の受光部ア
レイを構成している。そして、64個の受光部5を1ブ
ロツクとして受光部アレイを32ブロツクに分割し、各
受光部群6を覆うようにそれぞれ液晶シャッター7が配
置されている。
液晶シャッター7は、液晶7bを透明電極(■’T’0
)7aと1荷向フイルター7Cとで挟持して構成され、
各液晶シャッタ−7の透明電極(ITO)7aの引き出
し部7a′には制御線8が接続されている。鋼内フィル
ター7Cは、受光部5に入射する光の位相を合わせ、光
の減衰を防ぐためのものである。制御線8の端部8′か
ら外部より透明型ff1(ITO)7aに電圧が印加さ
れると、液晶7bの分子の配列方向を変化させることに
より、液晶シャッター7が光学的に開状態となる。また
、透明電極7aの引き出し部7a’と遮光膜4との間に
は両者を電気的に遮断する絶縁層9が介在されている。
)7aと1荷向フイルター7Cとで挟持して構成され、
各液晶シャッタ−7の透明電極(ITO)7aの引き出
し部7a′には制御線8が接続されている。鋼内フィル
ター7Cは、受光部5に入射する光の位相を合わせ、光
の減衰を防ぐためのものである。制御線8の端部8′か
ら外部より透明型ff1(ITO)7aに電圧が印加さ
れると、液晶7bの分子の配列方向を変化させることに
より、液晶シャッター7が光学的に開状態となる。また
、透明電極7aの引き出し部7a’と遮光膜4との間に
は両者を電気的に遮断する絶縁層9が介在されている。
各光導路2の反受光部5側の端部は、主走査方向に長尺
に形成された第2の光導路10にそれぞれ接続されてい
る。先導路10の下層には前記遮光膜3,4と同材料で
遮光膜11が形成されており、遮光[3と遮光膜11と
により光導路10内を光が反射しながら伝搬するように
構成されている。光導路2と光導路10とは、前記遮光
膜3により光学的に遮断された多層構造をなしており、
また、遮光膜3に形成された開口部3aを介して光導路
同士がマトリックス状に接続されている。
に形成された第2の光導路10にそれぞれ接続されてい
る。先導路10の下層には前記遮光膜3,4と同材料で
遮光膜11が形成されており、遮光[3と遮光膜11と
により光導路10内を光が反射しながら伝搬するように
構成されている。光導路2と光導路10とは、前記遮光
膜3により光学的に遮断された多層構造をなしており、
また、遮光膜3に形成された開口部3aを介して光導路
同士がマトリックス状に接続されている。
光導路10の端部には、光導路2及び光導路10中を伝
搬した光を電気信号に光電変換するセンサ部20が配置
されている。このセンサ部20は、前記受光部の個数に
対応する光電変換素子を有し、例えば、帯状の光な変換
層(a−3i)22を離散的に形成した64個の金属な
ff!21と帯状の透明電極23とで挟んだ薄膜サンド
イッチ構造のイメージセンサやCODイメージセンサに
より構成されている。このセンサ部20はTOチップ3
0に接続され、IC内の駆動回路により画素毎に電荷を
時系列的に抽出するようになっている。
搬した光を電気信号に光電変換するセンサ部20が配置
されている。このセンサ部20は、前記受光部の個数に
対応する光電変換素子を有し、例えば、帯状の光な変換
層(a−3i)22を離散的に形成した64個の金属な
ff!21と帯状の透明電極23とで挟んだ薄膜サンド
イッチ構造のイメージセンサやCODイメージセンサに
より構成されている。このセンサ部20はTOチップ3
0に接続され、IC内の駆動回路により画素毎に電荷を
時系列的に抽出するようになっている。
次に、センサ部20として薄膜サンドイッチ構造のイメ
ージセンサを使用した場合の画像読取装置の製造工程に
ついて説明する。
ージセンサを使用した場合の画像読取装置の製造工程に
ついて説明する。
ガラス、セラミック等の絶縁性部材から成る絶縁基板1
上にクロム(Cr)を着膜し、フィトリソ法でエツチン
グして複数の金属電極21を離散的に形成する。次いで
アモルファスシリコン(a−3t)を着膜して帯状の光
導電層22を形成する。次いで光導電層22上に酸化イ
ンジウム・スズ(1’l”O)から成る帯状の透明電極
23を形成し、個別な極21.光導電層22.透明電1
ji23が重なり合った部分が光電変換素子となるセン
サ部20を形成する。そして、光電変換素子の受光部面
積を規定すると共に、後述する遮光PIAtiとの電気
的な遮断を行なうための絶縁層24を光電変換素子の両
側に形成する。
上にクロム(Cr)を着膜し、フィトリソ法でエツチン
グして複数の金属電極21を離散的に形成する。次いで
アモルファスシリコン(a−3t)を着膜して帯状の光
導電層22を形成する。次いで光導電層22上に酸化イ
ンジウム・スズ(1’l”O)から成る帯状の透明電極
23を形成し、個別な極21.光導電層22.透明電1
ji23が重なり合った部分が光電変換素子となるセン
サ部20を形成する。そして、光電変換素子の受光部面
積を規定すると共に、後述する遮光PIAtiとの電気
的な遮断を行なうための絶縁層24を光電変換素子の両
側に形成する。
次に、絶縁基板1上のセンサ部20を除いた部分にクロ
ム(Cr)を蒸着して遮光膜11を形成し、ついで低融
点のガラス等の伝搬光の損失が少ない材料をセンサ部2
0を含んだ油分に塗布する。
ム(Cr)を蒸着して遮光膜11を形成し、ついで低融
点のガラス等の伝搬光の損失が少ない材料をセンサ部2
0を含んだ油分に塗布する。
次に、前記ガラス等をフォトリソ法によりエツチングし
てパターニングし、複数の光導路10を形成する。複数
の光導1iI810を覆うように再度クロム(Cr)を
蒸着して遮光膜3を形成し、フォトリソ法によるエツチ
ングにより遮光膜3の所望の位置(光導路2と光導路1
0とが交差する位置)に開口部3aを形成する。
てパターニングし、複数の光導路10を形成する。複数
の光導1iI810を覆うように再度クロム(Cr)を
蒸着して遮光膜3を形成し、フォトリソ法によるエツチ
ングにより遮光膜3の所望の位置(光導路2と光導路1
0とが交差する位置)に開口部3aを形成する。
次いで、ガラス等の伝搬光の損失が少ない材料を全面に
再度塗布し、フォトリソ法によりエツチングしてパター
ニングし、光導路9ど直交する複数の光導路2を形成す
る。そして、全面にクロム(Cr)を蒸着して遮光膜4
を形成し、フォ1へリン法によるエツチングにより先導
路2の端部を受光部5とするための開口部4aを形成す
る。
再度塗布し、フォトリソ法によりエツチングしてパター
ニングし、光導路9ど直交する複数の光導路2を形成す
る。そして、全面にクロム(Cr)を蒸着して遮光膜4
を形成し、フォ1へリン法によるエツチングにより先導
路2の端部を受光部5とするための開口部4aを形成す
る。
次いで遮光膜4の端部に絶縁層9を@膜し、全ての受光
部5を覆うような帯状の酸化インジウム・スズ(ITO
)をスパッタリング法により着膜し、次いで64個の受
光部5を−・つの受光部群6として、各受光部群6をそ
れぞれ覆う複数の透明を極7aをフォトリソエツチング
によるバターニングにより形成する。そして、各透明電
極7aの引き出し部7a′に接続される制御線8をクロ
ム(Crlの蒸着及びバターニングにより形成する。
部5を覆うような帯状の酸化インジウム・スズ(ITO
)をスパッタリング法により着膜し、次いで64個の受
光部5を−・つの受光部群6として、各受光部群6をそ
れぞれ覆う複数の透明を極7aをフォトリソエツチング
によるバターニングにより形成する。そして、各透明電
極7aの引き出し部7a′に接続される制御線8をクロ
ム(Crlの蒸着及びバターニングにより形成する。
全ての受光部5部分を覆うように帯状に液晶7bを塗布
し、液晶7b上に偏向フィルター7Cを配置して液晶シ
ャッター7を構成する。
し、液晶7b上に偏向フィルター7Cを配置して液晶シ
ャッター7を構成する。
ICチップ30を基板1上に実装し、ICチップ30の
バッドとセンサ部20の金属電極21の端部21′とを
ボンディングワイヤ40で接続する。
バッドとセンサ部20の金属電極21の端部21′とを
ボンディングワイヤ40で接続する。
センサ部20としてCCDイメージセンサを用いる場合
には、受光部5及び光導路2.10を形成した後、光導
路10の端部にCCDイメージセンサの受光頭載が対応
するように配置すればよい。
には、受光部5及び光導路2.10を形成した後、光導
路10の端部にCCDイメージセンサの受光頭載が対応
するように配置すればよい。
次に本実施例の動作について説明する。
制御線8に電圧を加えることにより、多数の液晶シャッ
ター7の内の一つを開状態とする。液晶シャッター7が
開状態となると、その下に位置する受光部群6に上方よ
り原稿からの反射光が照射し、受光部5を介して光導路
2へ導かれる。光導路2に入射した光は、遮光膜3,4
で反射を繰り返しながら伝搬し、開口部3a、光導路1
0を介してその端部からセンサ部20に導かれて電気信
号に変換され、ICチップ30の駆動回路により一画素
毎に時系列的に抽出される。
ター7の内の一つを開状態とする。液晶シャッター7が
開状態となると、その下に位置する受光部群6に上方よ
り原稿からの反射光が照射し、受光部5を介して光導路
2へ導かれる。光導路2に入射した光は、遮光膜3,4
で反射を繰り返しながら伝搬し、開口部3a、光導路1
0を介してその端部からセンサ部20に導かれて電気信
号に変換され、ICチップ30の駆動回路により一画素
毎に時系列的に抽出される。
64ビツトの信号の抽出が終わるのに同期して、制御線
8への電圧の供給及び遮断により当該液晶シャッター7
が開状態から閉状態となり、隣接する液晶シャッター7
が開状態となる。そして、上記同様64ビツトの信号の
抽出を行なう。この動作を繰り返して、全ビットの信号
の抽出を行なう。
8への電圧の供給及び遮断により当該液晶シャッター7
が開状態から閉状態となり、隣接する液晶シャッター7
が開状態となる。そして、上記同様64ビツトの信号の
抽出を行なう。この動作を繰り返して、全ビットの信号
の抽出を行なう。
本実施例によれば、従来マトリックス状のS 1m配線
で電気信号として伝送していた部分を、光導路2,10
で形成して光信号として伝搬させるので、光導路同士で
互いに電気的な影響を受は合うことがない、また、IC
チップ30の近1労まで光信号として伝搬させることが
できるので、センサ部20における配線(金属電極21
の引き出し部)の長さをビット間で均一に形成すること
、ができ、配線容量の差異による各ビットのバラツキを
防ぐことができる。
で電気信号として伝送していた部分を、光導路2,10
で形成して光信号として伝搬させるので、光導路同士で
互いに電気的な影響を受は合うことがない、また、IC
チップ30の近1労まで光信号として伝搬させることが
できるので、センサ部20における配線(金属電極21
の引き出し部)の長さをビット間で均一に形成すること
、ができ、配線容量の差異による各ビットのバラツキを
防ぐことができる。
(発明の効果)
本発明によれば、液晶シャッターの開閉を制御すること
により、光導路を介して光を光電変換素子に導き、この
光な変換素子で受光部に入射する光を電気信号として読
み取る。従って、マトリックス構造の光導路においては
、光信号として伝搬されるので、光導路間土間において
互いに電気的な影響を受は合うことがない。よって、マ
トリックス駆動を行ないながらクロストークの影響を排
除して雑音の発生を防止し、画像品質の向上を図ること
ができる。
により、光導路を介して光を光電変換素子に導き、この
光な変換素子で受光部に入射する光を電気信号として読
み取る。従って、マトリックス構造の光導路においては
、光信号として伝搬されるので、光導路間土間において
互いに電気的な影響を受は合うことがない。よって、マ
トリックス駆動を行ないながらクロストークの影響を排
除して雑音の発生を防止し、画像品質の向上を図ること
ができる。
第1図は本発明の画像読取装置の一実施例を示す平面説
明図、第2図は第1図のn−n’線断面説明図、第3図
は第1図のm−m’線断面説明図、第4図はマトリック
ス駆動型画像読取装置の等価回路図、第5図は同上の画
像読取装置の一画素分の等価回路図、第6図はマトリッ
クス回路の結合容量の説明図である。 1・・・・・・絶縁基板 2・・・・・・光導路 3.4・・・・・・遮光膜 5・・・・・・受光部 6・・・・・・受光部群 7・・・・・・液晶シャッター 8・・・・・・制御線 10・・・・・・光導路 11・・・・・・遮光膜 20・・・・・・センサ部
明図、第2図は第1図のn−n’線断面説明図、第3図
は第1図のm−m’線断面説明図、第4図はマトリック
ス駆動型画像読取装置の等価回路図、第5図は同上の画
像読取装置の一画素分の等価回路図、第6図はマトリッ
クス回路の結合容量の説明図である。 1・・・・・・絶縁基板 2・・・・・・光導路 3.4・・・・・・遮光膜 5・・・・・・受光部 6・・・・・・受光部群 7・・・・・・液晶シャッター 8・・・・・・制御線 10・・・・・・光導路 11・・・・・・遮光膜 20・・・・・・センサ部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 受光部アレイを複数の受光部群に分割し、マトリックス
駆動によって前記各受光部群からの信号を読み取る画像
読取装置において、 前記受光部アレイ上に配置し、前記各受光部群に照射す
る光の通過を制御する液晶シャッターと、前記各受光部
群の各受光部からの光を導く第1の光導路と、 前記受光部の個数に対応する光電変換素子を有するセン
サ部に光を導く第2の光導路とを具備し、前記第1の光
導路と第2の光導路とは、マトリックス状に接続されて
いることを特徴とする画像読取装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121613A JPH02302165A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 画像読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121613A JPH02302165A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 画像読取装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02302165A true JPH02302165A (ja) | 1990-12-14 |
Family
ID=14815589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1121613A Pending JPH02302165A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 画像読取装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02302165A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6886573B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-05-03 | Air Products And Chemicals, Inc. | Plasma cleaning gas with lower global warming potential than SF6 |
-
1989
- 1989-05-17 JP JP1121613A patent/JPH02302165A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6886573B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-05-03 | Air Products And Chemicals, Inc. | Plasma cleaning gas with lower global warming potential than SF6 |
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