JPH0230216Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0230216Y2 JPH0230216Y2 JP1986031255U JP3125586U JPH0230216Y2 JP H0230216 Y2 JPH0230216 Y2 JP H0230216Y2 JP 1986031255 U JP1986031255 U JP 1986031255U JP 3125586 U JP3125586 U JP 3125586U JP H0230216 Y2 JPH0230216 Y2 JP H0230216Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- concentration
- storage tank
- hopper
- magnetic valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Underground Or Underwater Handling Of Building Materials (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
［考案の目的］
（産業上の利用分野）
この考案はスラリー濃度を自動制御できる湿式
ブラスト加工装置におけるスラリー測定装置に関
するものである。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Field of industrial application) This invention relates to a slurry measuring device in a wet blasting apparatus that can automatically control the slurry concentration.
（従来の技術）
湿式ブラスト加工法が進歩し、自動化されるの
に従い、加工の反覆同一性が要求されて来てお
り、それにはブラストする研削材と水との割合、
即ちスラリー濃度を常に或る範囲に保つことが必
要であり、このため、本実用新案登録出願人は既
に第４図（特公昭55−8311号公報参照）に示すよ
うに、スラリー供給用ホツパーa1からスラリー噴
射ガンa2に至るまでのスラリーの管路Ｉにスラリ
ー濃度検検出装置Ｄを設け、この測定結果に応
じ、前記スラリー供給用ホツパーa1の排出口a4
に、別に配置してあるスラリー処理槽Ｅの上澄液
を供給する管Ｆに設けた流量調整弁Ｇを自動的に
作動し、常にスラリー濃度を適正に維持させ、且
つ湿式ブラスト装置の始動を容易にするようにし
た湿式ブラスト装置を提案した。(Prior Art) As wet blasting methods progress and become automated, repeatability of the process is required, which requires the ratio of the abrasive material to be blasted and water,
In other words, it is necessary to always maintain the slurry concentration within a certain range, and for this reason, the applicant of this utility model registration has already developed a slurry supply hopper a as shown in Figure 4 (see Japanese Patent Publication No. 8311/1983). A slurry concentration detection device D is installed in the slurry conduit I from 1 to the slurry injection gun A2 , and depending on the measurement result, the discharge port A4 of the slurry supply hopper A1 is
Then, the flow rate adjustment valve G installed in the pipe F that supplies the supernatant liquid of the slurry processing tank E, which is located separately, is automatically activated to maintain the slurry concentration at an appropriate level and to start the wet blasting equipment. We have proposed a wet blasting device that facilitates this process.
なお、第４図中P1，P2，P3はポンプ、a3はサ
イクロンを夫々示す。 In addition, in FIG. 4, P 1 , P 2 , and P 3 indicate the pump, and a 3 indicates the cyclone, respectively.
然し、スラリー濃度の検出は研削材が研削性を
有するため、スラリーの流れ中に測定器を挿入す
ることは出来ず、又スラリーの流量が一定であれ
ば、流体の粘性が１又は１に極めて近い場合は、
スラリーの動圧はスラリーの研削材の割合に比例
すると言う経験に基いてスラリーの動圧を測定す
れば良いが、上述の、スラリーが研削性を有する
ことと、湿式ブラスト加工法においては、噴射ガ
ンa2の稼動時と非稼動時とでは、管路中の流量
が変動し一定でないので、スラリーの動圧を測定
する方法に拠ることは困難であり、然らば管路外
からスラリー濃度を測定する方法と言うと、既に
本実用新案登録出願人が提案した電磁流量計を使
用するもの、或は超音波を利用するものもある
が、機能としては安定していても、測定装置自体
が複雑になり、従つて高価になると言う欠点があ
つた。 However, since the abrasive material has abrasive properties, it is not possible to detect the slurry concentration by inserting a measuring device into the flow of the slurry.Also, if the flow rate of the slurry is constant, the viscosity of the fluid is 1 or 1. If it is close,
The dynamic pressure of the slurry can be measured based on the experience that the dynamic pressure of the slurry is proportional to the proportion of the abrasive in the slurry. Since the flow rate in the pipe fluctuates and is not constant when Gun A2 is in operation and when it is not in operation, it is difficult to rely on a method that measures the dynamic pressure of the slurry. There are methods for measuring this, such as using an electromagnetic flowmeter proposed by the applicant for this utility model registration, or using ultrasonic waves, but even though the function is stable, the measuring device itself is The drawback was that it was complicated and therefore expensive.
そこで、本実用新案登録出願人は先に、特願昭
59−135164号（特開昭61−14862号公報）として、
スラリーの流量及び研削性に影響されず、構成簡
単で作動確実なスラリー濃度測定手段を組込むこ
とにより、スラリー濃度を自動制御できる湿式ブ
ラスト加工装置を提案した。 Therefore, the applicant for utility model registration first filed a patent application
As No. 59-135164 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-14862),
We have proposed a wet blasting device that can automatically control slurry concentration by incorporating a slurry concentration measuring means that is simple in structure and reliable in operation and is not affected by slurry flow rate and grindability.
（考案が解決しようとする問題点）
前記装置においては、十分に目的を達成するこ
とができるものではあるが、スラリー濃度測定手
段に改良を加えることにより濃度測定をより正確
に行うことができる装置を提供するのをその目的
とする。(Problems to be solved by the invention) Although the above device can sufficiently achieve the purpose, there is a device that can measure the concentration more accurately by improving the slurry concentration measuring means. Its purpose is to provide.
［考案の構成］
（問題点を解決するための手段）
本考案におけるスラリー濃度を自動制御できる
湿式ブラスト加工装置におけるスラリー測定装置
は、スラリー供給用ポツパーa1からスラリー噴射
ガンａにスラリーを送る管路と、スラリー濃度
により昇降する一定量のスラリーを湛える貯槽４
と貯槽４のスラリー濃度を測定して比較回路部
C3に信号を送る貯槽４の下方に設置したロード
セル２１と、管路から分岐したマグネツトバル
ブV3を有し、先端部２０を貯槽４の底近傍に開
口した分岐管路と、基準値を比較回路部C3に
信号として送るスラリー濃度設定部C4と、比較
回路部C3からの信号で開くマグネツトバルブV2
を有する排出部３をスラリー供給用ホツパーa1に
開口した研削材を貯蔵するスラリータンク２とか
ら成るものである。[Structure of the invention] (Means for solving the problems) The slurry measuring device in the wet blasting apparatus in which the slurry concentration can be automatically controlled in the present invention is a pipe that sends slurry from slurry supply potper A1 to slurry injection gun A. and a storage tank 4 filled with a certain amount of slurry that rises and falls depending on the slurry concentration.
and a comparison circuit that measures the slurry concentration in storage tank 4.
A load cell 21 installed below the storage tank 4 that sends a signal to C 3 , a branched pipe line with a magnetic valve V 3 branched from the pipe line and whose tip 20 opens near the bottom of the storage tank 4 , and a reference value a slurry concentration setting section C4 which sends the signal to the comparison circuit section C3 , and a magnetic valve V2 which is opened by the signal from the comparison circuit section C3 .
A slurry tank 2 for storing abrasive material has a discharge part 3 having a discharge part 3 opened to a hopper a1 for supplying slurry.
（作用）
本考案においては、常時マグネツトバルブV3
を開口してスラリー噴射ガンa2に送るスラリーを
分岐して貯槽４に送る。この際分岐管路の先端
部２０を貯槽４の底部近傍に開口して、スラリー
を撹拌させて砥粒等を均一した状態で滞溜させ、
測定時にマグネツトバルブV3を用い、ロードセ
ル２１でスラリー濃度を測定する。(Function) In this invention, the permanent magnetic valve V 3
is opened to send the slurry to the slurry injection gun A2 , which is then branched and sent to the storage tank 4. At this time, the tip 20 of the branch pipe is opened near the bottom of the storage tank 4, and the slurry is stirred so that the abrasive grains and the like stay in a uniform state.
At the time of measurement, the slurry concentration is measured with the load cell 21 using the magnetic valve V3.
（実施例）
第１図に示す一実施例に基づき、その構成を詳
細に説明すると、このスラリー濃度を自動制御で
きる湿式ブラスト加工装置は、湿式ブラスト加工
装置Ａと、スラリー調整装置部Ｂと、スラリー濃
度制御装置部Ｃとで構成されている。(Example) To explain the configuration in detail based on an example shown in FIG. 1, this wet blasting device that can automatically control the slurry concentration includes a wet blasting device A, a slurry adjustment device part B, It consists of a slurry concentration control device section C.
湿式ブラスト加工装置部Ａはスラリーホツパー
a1よりポンプP1を有する管路により噴射ガンa2
にスラリーが供給され、スラリーホツパーa1に向
つて噴射され、該スラリーホツパーa1のスラリー
は別にポンプP2によりサイクロンa3に送られ、正
常な研削材のみ該スラリーホツパーa1に戻される
ようになつている。 Wet blasting equipment section A is a slurry hopper.
Injection gun A 2 by line with pump P 1 from A 1
Slurry is supplied to the slurry hopper a 1 and is injected toward the slurry hopper a 1. The slurry in the slurry hopper a 1 is separately sent to the cyclone a 3 by a pump P 2 , and only normal abrasive material is sent to the slurry hopper a 1 . It's starting to come back.
又、スラリー調整装置部Ｂは、撹拌装置２′を
内部に有するスラリータンク２に研削材ホツパー
１内の研削材をモーターＭの駆動により供給でき
るようになつている研削材供給装置b1と、前記湿
式ブラスト加工装置部Ａのスラリーホツパーa1中
のスラリーを前記ポンプP2によりマグネツトバ
ルブV1を介して該スラリータンク２に供給でき
るようになつているスラリー供給装置b2とにより
なり、該スラリータンク２の排出口３は常時閉じ
ているマグネツトバルブV2を介して前記スラリ
ーホツパーa1に開口させている。 Further, the slurry adjustment device section B includes an abrasive material supply device b 1 which is capable of supplying the abrasive material in the abrasive material hopper 1 to the slurry tank 2 having a stirring device 2' therein by driving the motor M; A slurry supply device b 2 is configured to supply the slurry in the slurry hopper a 1 of the wet blasting device section A to the slurry tank 2 by the pump P 2 via the magnetic valve V 1 . The discharge port 3 of the slurry tank 2 is opened to the slurry hopper a1 via a magnet valve V2 which is always closed.
又、スラリー濃度制御装置部Ｃは、前記湿式ブ
ラスト加工装置部Ａの前記管路より分岐管路
により、タイマーＴによつて閉じるようになつて
いるマグネツトバルブV3を介してスラリーの供
給を受け、常に一定量のスラリーを湛えるように
なつている貯槽４と、一定量のスラリーを湛えた
該貯槽４の重量を測定して電気量として表す手段
c1と、別に設定したスラリー濃度を電気量として
表す手段c2とを有し、前記両電気量は比較回路部
C3の作動時に比較され、該比較回路部c3の発する
信号により、前記スラリー調整装置部Ｂの前記マ
グネツトバルブV1が作動され、又遅延リレーＲ
を介してマグネツトバルブV2が作動されるよう
になつている。 Further, the slurry concentration control device section C controls the supply of slurry through a branch pipe from the pipe of the wet blasting device section A through a magnetic valve V3 which is closed by a timer T. a storage tank 4 which is always filled with a certain amount of slurry, and means for measuring the weight of the storage tank 4 filled with a certain amount of slurry and expressing it as an electrical quantity.
c 1 and a means c 2 for representing a separately set slurry concentration as an electrical quantity, and both electrical quantities are transmitted to a comparison circuit section.
C3 is operated, and the signal generated by the comparator circuit section c3 operates the magnetic valve V1 of the slurry adjusting device section B, and also activates the delay relay R.
Magnetic valve V 2 is actuated via.
前記タイマーＴは前記比較回路部c3を作動さ
せ、少くとも設定スラリー濃度より測定スラリー
濃度の薄い時は、前記マグネツトバルブV1，V2
を開き、該モーターＭを稼動させるようにしたも
のであり、前記サイクロンa3より分離された破砕
研削材、研削滓は液を一部伴なつて管路を通つ
てスラリー処理槽（図示省略）に送り、そこで上
澄液と破砕研削材及び研削滓とに分離するように
なつている。 The timer T operates the comparison circuit section c3 , and when the measured slurry concentration is at least lower than the set slurry concentration, the magnetic valves V1 and V2 are activated.
The crushed abrasive material and grinding slag separated from the cyclone A3 are passed through a pipe line along with some liquid to a slurry processing tank (not shown). The supernatant liquid is separated into the crushed abrasive material and the grinding slag.
研削材ホツパー１内の研削材はモーターＭによ
つてスクリユーコンベアー１′によりスラリータ
ンク２へ送られ、マグネツトバルブV1を経て送
られてくるスラリーと混和され、マグネツトバル
ブV2を経てスラリーホツパーa1に供給されるよ
うになつている。 The abrasive material in the abrasive material hopper 1 is sent to the slurry tank 2 by the screw conveyor 1' by the motor M, mixed with the slurry sent through the magnetic valve V1 , and then passed through the magnetic valve V2 . The slurry is supplied to hopper A1 .
前記貯槽４は、第２，３図に示すように、下側
外周にリニアベアリング内套５を設け、このリニ
アベアリング内套５の底部６中央に接触突起７を
突設している。そして、貯槽４の外側にリニアベ
アリング外套８を設置し、この外套８の対向する
内面２個所にリニアベアリング９，９を設けて貯
槽４をスラリーの濃度に応じて昇降できるように
形成している。尚、図中１０，１０…はベアリン
グシール材である。 As shown in FIGS. 2 and 3, the storage tank 4 is provided with a linear bearing inner mantle 5 on its lower outer periphery, and a contact protrusion 7 is provided in the center of the bottom part 6 of the linear bearing inner mantle 5. A linear bearing mantle 8 is installed on the outside of the storage tank 4, and linear bearings 9, 9 are provided on two opposing inner surfaces of the mantle 8, so that the storage tank 4 can be moved up and down according to the concentration of the slurry. . In the figure, numerals 10, 10, . . . indicate bearing sealing materials.
又、リニアベアリング外套８の外周にスラリー
受槽１１を設ける。このスラリー受槽１１は、内
周にリニアベアリング外套８をカバーするカバー
部１２を筒状に設け、カバー部１２と外壁１３と
を傾斜した排出案内板１４で連結し、排出案内板
１４の下端に排出口１５を開口して管路に上る
前記スラリーホツパーa1に戻すようになつてい
る。尚、図中１６はスラリー受槽１１の蓋であ
る。 Further, a slurry receiving tank 11 is provided on the outer periphery of the linear bearing mantle 8. This slurry receiving tank 11 has a cylindrical cover part 12 that covers the linear bearing mantle 8 on the inner periphery, and connects the cover part 12 and the outer wall 13 with an inclined discharge guide plate 14. A discharge port 15 is opened to return the slurry to the hopper a1 which goes up the pipe line. In addition, 16 in the figure is a lid of the slurry receiving tank 11.
又、貯槽４は、上端にオーバーフローするスラ
リーを流出させる笠状の案内部材１７を固定して
いる。この案内部材１７は上端から下側に向つて
傾斜した案内面１８を設け、この案内面１８の下
端にスラリー受槽１１のカバー部１２と外壁１３
との間に位置する垂直流下部１９を設けている。
そして、前記マグネツトバルブV3を有する分岐
管路の先端部２０を貯槽４の底部に開口して砥
粒を常時撹拌して均一のスラリーを保持できるよ
うに形成している。 Further, the storage tank 4 has a cap-shaped guide member 17 fixed at the upper end thereof to allow overflowing slurry to flow out. This guide member 17 is provided with a guide surface 18 that slopes downward from the upper end, and the cover part 12 of the slurry receiving tank 11 and the outer wall 13 are connected to the lower end of this guide surface 18.
A vertical flow section 19 is provided between the two.
The tip end 20 of the branch pipe having the magnetic valve V3 is opened at the bottom of the storage tank 4 so that the abrasive grains can be constantly stirred and a uniform slurry can be maintained.
一方、貯槽４の下方にはロードセル２１を設置
し、このロードセル２１に設けた測定子２２にボ
ール２３を設け、このボール２３に前記貯槽４に
設けた接触突起７を点接触させてスラリーの濃度
に応じた荷重を測定し、ロードセル２１の測定電
圧を増巾器２４を介して比較回路部c3に送るよう
にし、スラリー濃度設定部c4に設定した基準値を
アナログデジタル変換器２５を介して前記比較回
路部c3に送つて来たものをタイマーＴが作動した
時、比較回路c3を作動して比較し、測定スラリー
濃度の方が薄い場合は、スラリータンク２のマグ
ネツトバルブV2に遅延リレーＲを介して信号を
送つてこれを開いてスラリーホツパーa1へスラリ
ータンク２中の濃いスラリーの供給をおこなうよ
うにし、測定スラリー濃度の濃い場合は前記マグ
ネツトバルブV2を閉じたままにしておくように
なつているものである。 On the other hand, a load cell 21 is installed below the storage tank 4, a ball 23 is installed on a measuring element 22 provided on the load cell 21, and a contact protrusion 7 provided on the storage tank 4 is brought into point contact with the ball 23 to increase the concentration of the slurry. The measured voltage of the load cell 21 is sent to the comparison circuit section c3 via the amplifier 24, and the reference value set in the slurry concentration setting section c4 is sent via the analog-to-digital converter 25. When the timer T is activated, the comparison circuit c3 is activated to compare the slurry sent to the comparison circuit section c3 , and if the measured slurry concentration is lower, the magnetic valve V of the slurry tank 2 is A signal is sent to delay relay R 2 to open it to supply the thick slurry in slurry tank 2 to slurry hopper a 1 , and when the measured slurry concentration is high, the magnetic valve V 2 is opened. It is designed to remain closed.
この実施例は、叙上のような構成を有するか
ら、今、スラリーホツパーa1及びスラリータンク
２内には所定濃度のスラリーが貯溜されているも
のとし、ブラスト加工を行おうとする場合は、先
づポンプP1，P2を稼動すると、先づ噴射ガンa2
にはスラリーホツパーa1の所定濃度のスラリーが
送られ、ブラスト加工を可能にし、一方ポンプ
P2によりスラリーホツパーa1内のスラリー（ブラ
スト加工が進むにつれ、破砕研削材、研削滓が含
まれてくる）をサイクロンa3に供給し、正常な研
削材は大部分の水と共にスラリーホツパーa1に戻
し、スラリーホツパー内を、常に極力、破砕研削
材、研削滓の混在されないものにし、上記破砕研
削材、研削滓は一部水を伴つて管路によりスラ
リー処理槽に送られる。 Since this embodiment has the above-described configuration, it is assumed that slurry of a predetermined concentration is stored in the slurry hopper a 1 and the slurry tank 2, and when blasting is to be performed, When pumps P 1 and P 2 are operated first, injection gun a 2
A slurry of a predetermined concentration is sent to the slurry hopper A 1 to enable blasting, while the pump
P 2 supplies the slurry in slurry hopper A 1 (as the blasting progresses, crushed abrasive material and grinding slag are included) to cyclone A 3 , and the normal abrasive material is emptied into the slurry hopper A 3 along with most of the water. Par A 1 is returned to the slurry hopper, and the inside of the slurry hopper is always kept as free as possible from crushed abrasives and grinding slag, and the crushed abrasives and grinding slag are sent to the slurry processing tank through a pipe with some water. .
そこで、スラリー濃度を一定に自動制御した湿
式ブラスト加工が行いたい場合は、先づスラリー
濃度設定部c4に所定濃度を設定しておく。通常は
マグネツトバルブV3を開いており、管路のス
ラリーは分岐管路を通つて貯槽４に供給され、
スラリーは貯槽４内で撹拌され、オーバーフロー
して案内部材１７からスラリー受槽１１に溢流
し、スラリーはスラリーホツパーa1に戻る。した
がつて、貯槽４には、噴射ガンa2で使用されてい
るスラリーと同じスラリーが一定量貯溜されるこ
とになる。そこで、タイマーＴを作動すると一定
時間マグネツトバルブV3を閉じ貯槽４へのスラ
リー供給を停止させ、安定した状態のスラリーの
重量をロードセル２１、増巾器２４を介して電圧
として比較回路部c3に送られ、又スラリー濃度設
定部c4に設定したスラリー濃度の基準値は、デジ
タル、アナログ変換器２５を通り、電圧として前
記比較回路部c3に送られる。 Therefore, if it is desired to perform wet blasting in which the slurry concentration is automatically controlled to be constant, a predetermined concentration is first set in the slurry concentration setting section c4 . Normally, the magnetic valve V3 is open, and the slurry in the pipe is supplied to the storage tank 4 through the branch pipe.
The slurry is stirred in the storage tank 4, overflows from the guide member 17 into the slurry receiving tank 11, and returns to the slurry hopper a1 . Therefore, a certain amount of the same slurry as the slurry used in the injection gun a2 is stored in the storage tank 4. Therefore, when the timer T is activated, the magnetic valve V 3 is closed for a certain period of time to stop the slurry supply to the storage tank 4, and the weight of the slurry in a stable state is converted into a voltage via the load cell 21 and the amplifier 24 in the comparator circuit section c. The reference value of the slurry concentration set in the slurry concentration setting section c4 passes through the digital/analog converter 25 and is sent as a voltage to the comparison circuit section c3 .
ところで、貯槽４に導入しているスラリーは、
ポンプP1を噴射ガンa2に送られるスラリーを分岐
したものであるから、スラリーホツパーa1中のス
ラリーより破砕研削材、研削滓を除去し、大体正
常な研削材のみが混在されているようにしてある
スラリーを導入するので、ロードセル２１に現れ
る測定値の変化は一定量のスラリー中に混在する
研削材の量の変化によるものであるので、測定値
はスラリー濃度に他ならない。 By the way, the slurry introduced into storage tank 4 is
Pump P1 is a branch of the slurry sent to injection gun A2 , so crushed abrasives and grinding slag are removed from the slurry in slurry hopper A1 , and only normal abrasives are mixed in. Since a certain slurry is introduced in this way, the change in the measured value appearing on the load cell 21 is due to the change in the amount of abrasive mixed in a certain amount of slurry, so the measured value is nothing but the slurry concentration.
一方前記タイマーＴが稼動されると、比較回路
部c3が作動されるので、夫々電圧となつている測
定スラリー濃度と設定スラリー濃度とが比較さ
れ、設定スラリー濃度より測定スラリー濃度が薄
いと、比較回路部c3よりモーターＭ、マグネツト
バルブV1、遅延リレーＲを有するマグネツトバ
ルブV2に信号が送られるので、モーターは一定
時間働いて新しい研削材をスラリータンク２に供
給し、マグネツトバルブV1の「開」によりスラ
リータンク２中にスラリーホツパーa1中のスラリ
ーを送るので、スラリーに更に新しい研削粒が加
えられて撹拌され、濃いスラリーが形成される。 On the other hand, when the timer T is activated, the comparison circuit c3 is activated, so that the measured slurry concentration and the set slurry concentration, each of which is a voltage, are compared, and if the measured slurry concentration is lower than the set slurry concentration, A signal is sent from the comparison circuit c3 to the motor M, the magnetic valve V1 , and the magnetic valve V2 having the delay relay R, so the motor works for a certain period of time to supply new abrasive material to the slurry tank 2, and The "opening" of the net valve V1 sends the slurry in the slurry hopper a1 into the slurry tank 2, so new abrasive grains are added to the slurry and stirred to form a thick slurry.
ところで、マグネツトバルブV2には遅延リレ
ーＲがついているので、マグネツトバルブV1と
同時には開かず、スラリータンク２中に濃いスラ
リーが用意されるのに充分な時間を置いてマグネ
ツトバルブV2が開き、そこで濃いスラリーがス
ラリーホツパーa1に供給され、スラリーホツパー
a1中のスラリーの研削材の混在量は次第に増加し
て行く。更に一定時間後再びタイマーＴが稼動
し、該比較回路部c3が作動され、依然として測定
スラリー濃度が薄い場合は該比較回路部c3よりモ
ーターＭ、マグネツトバルブV1及びV2に信号が
送られ上述の濃いスラリー濃度を有するスラリー
の製造が行われ、濃いスラリーがスラリーホツパ
ーa1中に供給される。そして測定スラリー濃度が
設定スラリー濃度に対し許容スラリー濃度（スラ
リー濃度は設定スラリー濃度より幾分濃い分には
ブラスト加工上支障はない）の範囲にはいれば、
該比較回路部c3よりの「正常」の信号によりモー
ターＭは停止し、マグネツトバルブV1，V2は閉
じられる。そして研削材はブラスト加工が続けら
れると破砕或は摩耗し、スラリー濃度は低下して
行く。 By the way, magnetic valve V 2 is equipped with a delay relay R, so it does not open at the same time as magnetic valve V 1 , and the magnetic valve does not open at the same time as magnetic valve V 1. V 2 opens, where the thick slurry is fed to the slurry hopper a 1 and the slurry hopper
The amount of abrasive mixed in the slurry in a 1 gradually increases. Furthermore, after a certain period of time, the timer T operates again, and the comparison circuit section c3 is operated. If the measured slurry concentration is still low, the comparison circuit section c3 sends a signal to the motor M and the magnetic valves V1 and V2 . The slurry having the above-mentioned thick slurry concentration is produced, and the thick slurry is fed into the slurry hopper a1 . If the measured slurry concentration is within the allowable slurry concentration range (as long as the slurry concentration is somewhat thicker than the set slurry concentration, there is no problem in blasting),
The motor M is stopped by the "normal" signal from the comparison circuit c3 , and the magnetic valves V1 and V2 are closed. As the blasting process continues, the abrasive material is crushed or worn, and the slurry concentration decreases.
［考案の効果］
本考案においては、貯槽４内に導入するスラリ
ーを、貯槽４の底近傍に開口した分岐管路で供
給しているので、貯槽４内においてスラリーは常
時撹拌された状態となり、砥粒等が沈澱するよう
なことがないので、正確なスラリー濃度を測定で
きる。[Effects of the invention] In the present invention, the slurry introduced into the storage tank 4 is supplied through a branch pipe opening near the bottom of the storage tank 4, so that the slurry is constantly stirred in the storage tank 4. Since there is no precipitation of abrasive grains, etc., accurate slurry concentration can be measured.
第１図はこの考案に係るスラリー濃度を自動制
御できる湿式ブラスト加工装置におけるスラリー
測定装置の一実施例の系統図、第２図はスラリー
測定装置の一部を切欠いた正面図、第３図はその
縦断面図、第４図は従来のスラリー濃度測定装置
を有する湿式ブラスト加工装置の系統図を夫々示
し、Ａは湿式ブラスト加工装置部、Ｂはスラリー
調整装置部、Ｃはスラリー濃度制御装置部、a1は
スラリーホツパー、a2は噴射ガン、a3はサイクロ
ン、b1は研削材供給装置、b2はスラリー供給装
置、c1は一定量のスラリーを湛えた貯槽４の重量
を電気量として表す手段、c2は設定したスラリー
濃度を電気量として表す手段、c3は比較回路部、
V1，V2，V3はマグネツトバルブ、Ｍはモータ
ー、Ｔはタイマー、Ｒは遅延リレー、，，
は管路、１は研削材ホツパー、２はスラリータン
ク、４は貯槽、１１はスラリー受槽、２０は分岐
管路の先端部、２１はロードセルを夫々示す。
Fig. 1 is a system diagram of an embodiment of the slurry measuring device in a wet blasting device that can automatically control the slurry concentration according to this invention, Fig. 2 is a partially cutaway front view of the slurry measuring device, and Fig. 3 is Its vertical cross-sectional view and FIG. 4 show a system diagram of a wet blasting device having a conventional slurry concentration measuring device, where A is a wet blasting device section, B is a slurry adjustment device section, and C is a slurry concentration control device section. , a 1 is the slurry hopper, a 2 is the injection gun, a 3 is the cyclone, b 1 is the abrasive supply device, b 2 is the slurry supply device, and c 1 is the weight of the storage tank 4 filled with a certain amount of slurry. c 2 is a means for expressing the set slurry concentration as an electrical quantity; c 3 is a comparison circuit;
V 1 , V 2 , V 3 are magnetic valves, M is a motor, T is a timer, R is a delay relay,...
1 is a pipe, 1 is an abrasive material hopper, 2 is a slurry tank, 4 is a storage tank, 11 is a slurry receiving tank, 20 is a tip of a branch pipe, and 21 is a load cell.
Claims (1)
ンａにスラリーを送る管路と、スラリー濃度に
より昇降する一定量のスラリーを湛える貯槽４と
貯槽４のスラリー濃度を測定して比較回路部C3
に信号を送る貯槽４の下方に設置したロードセル
２１と、管路から分岐したマグネツトバルブ
V3を有し、先端部２０を貯槽４の底近傍に開口
した分岐管路と、基準値を比較回路部C3に信
号として送るスラリー濃度設定部C4と、比較回
路部C3からの信号で開くマグネツトバルブV2を
有する排出部３をスラリー供給用ホツパーa1に開
口した研削材を貯蔵するスラリータンク２とから
成るスラリー濃度を自動制御できる湿式ブラスト
加工装置におけるスラリー測定装置。 A pipe line that sends slurry from the slurry supply potper A 1 to the slurry injection gun A, a storage tank 4 containing a certain amount of slurry that rises and falls depending on the slurry concentration, and a comparison circuit section C 3 that measures the slurry concentration in the storage tank 4.
A load cell 21 installed below the storage tank 4 and a magnetic valve branched from the pipeline
A branch pipe line having a tip end 20 opened near the bottom of the storage tank 4, a slurry concentration setting part C4 that sends the reference value as a signal to the comparison circuit part C3 , and a A slurry measuring device in a wet blasting machine capable of automatically controlling the slurry concentration, comprising a slurry tank 2 for storing abrasive material having a discharge part 3 having a magnetic valve V2 that opens with a signal and opened to a slurry supply hopper a1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986031255U JPH0230216Y2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986031255U JPH0230216Y2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62144161U JPS62144161U (en) | 1987-09-11 |
| JPH0230216Y2 true JPH0230216Y2 (en) | 1990-08-14 |
Family
ID=30836821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986031255U Expired JPH0230216Y2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0230216Y2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021507817A (en) * | 2019-01-02 | 2021-02-25 | 中国▲鉱▼▲業▼大学 | Intelligent continuous supply system for ultra-high pressure premix abrasive jet |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2501300Y2 (en) * | 1989-12-13 | 1996-06-12 | マツダ株式会社 | Water polishing abrasive grain reclaiming device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5947164A (en) * | 1982-09-10 | 1984-03-16 | Nippon Steel Corp | Control of concentration of slurry supplied from classifying tank |
| JPS6114862A (en) * | 1984-07-02 | 1986-01-23 | Fuji Seiki Seizosho:Kk | Wet blast-machining device capable of automatically controlling slurry concentration |
-
1986
- 1986-03-06 JP JP1986031255U patent/JPH0230216Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021507817A (en) * | 2019-01-02 | 2021-02-25 | 中国▲鉱▼▲業▼大学 | Intelligent continuous supply system for ultra-high pressure premix abrasive jet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62144161U (en) | 1987-09-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4669230A (en) | Wet blasting machine with automatic control system for slurry concentration | |
| RU2054047C1 (en) | Method and apparatus for dosed introduction of fine-grained solid substances into commercial furnace | |
| JPS62502422A (en) | Device for automatic measurement of fluid material passing amount using continuous balance | |
| CA2205212C (en) | Quick-charge and-discharge dispensing system for liquid indirectly weighed in a dispenser | |
| US4490044A (en) | Automatic slurry concentration control system | |
| RU2046691C1 (en) | Apparatus for controlling application of layer of powder-like or pelletized material on surface of liquid metal in continuous casting mold and method of controlling of application of layer of powder-like or pelletized material on surface of liquid metal in continuous casting mold | |
| CA1230625A (en) | Apparatus for the reclamation of slurry from the bottom of a storage silo | |
| JPH0230216Y2 (en) | ||
| US6955764B2 (en) | Method and apparatus for preparing slurry for CMP apparatus | |
| JPS649143B2 (en) | ||
| EP0864684A1 (en) | System, method and control device for dosing detergent | |
| US5967654A (en) | Core sand preparation apparatus | |
| US5368166A (en) | Device for automatically controlling the process of separating froth concentrate from gangue in a floatation machine | |
| US5578198A (en) | Device for automatic regulation of the process of separating froth concentrate from gangue in a floatation machine | |
| JPH0232672Y2 (en) | ||
| GB2171326A (en) | Controlling mixing of slurries by power consumption | |
| ES8402951A1 (en) | Method and device for regulating the delivery capacity of an inductive delivery pump for liquid metals. | |
| AU640411B2 (en) | Device for automatic regulation of the process of separating froth concentrate from gangue in a floatation machine | |
| US4753533A (en) | Fly ash batcher and mixer | |
| SU1585056A1 (en) | Automatic installation for producing suspensions from lump material | |
| US3117640A (en) | Apparatus for mixing concrete | |
| KR100313427B1 (en) | A Discharger of Powder Material | |
| SU388790A1 (en) | DEVICE FOR AUTOMATIC CONTROL | |
| JPH05261720A (en) | Automatic mixing plant | |
| US1729602A (en) | Charging device for concrete mixers |