JPH0230219Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は遠心投射装置のインペラブレードに関
する。

（従来技術） 帯状製品を長手方向に移動させつつ遠心投射装
置で研掃する場合、通常は研掃材を遠心投射する
ための回転体（以下、インペラと言う）の回転方
向を製品の長手方向に直交させるが、製品の巾が
狭い場合は投射効率（全投射量の製品に当る割
合）が悪く、エネルギーの浪費となる。投射効率
を上げるにはインペラの回転方向を製品の長手方
向に平行にするとよいが、この方向におけるイン
ペラの投射域は極めて狭く、製品の巾寸法の変化
に対応できないことが多い。

従来、インペラの回転方向における投射域を拡
大する方法として、インペラブレードの基端巾を
狭く、先端巾を広くすると共に、断面をＶ字状な
いし円弧状にすることが提案されている（例えば
特公昭52−46754号公報）。しかしこのようなイン
ペラブレードは通常の遠心投射装置のインペラ側
板には取り付け不可能であり、装置が特別仕様に
なり高価になる欠点がある。

（考案の目的） 本考案は上記のような事情に鑑みてなされたも
のであり、インペラの回転方向における投射域を
拡大可能であると共に、通常の遠心投射装置のイ
ンペラ側板に取り付け可能なインペラブレードを
提供せんとするものである。

（考案の構成） 以下、本考案を実施例に基づき詳細に説明する
と、第４図は遠心投射装置を示し、離間して対向
配置され、かつ各々同径の中心孔を有する２枚の
円盤１，１から成るインペラ側板２が回転フラン
ジ３に締結されており、該回転フランジ３のボス
部は回転軸４に固着している。前記インペラ側板
２の図面の向かつて左側の中心孔にはデイストリ
ビユータ５を保持するセンタリングプレート６が
嵌合され、かつ前記回転軸４の一端に固着されて
いる。なお７は回り止めのピンである。前記回転
軸４の一端中心には前記デイストリビユータ５及
びセンタリングプレート６の各々の中心を貫通す
るセンタリングボルト（図示せず）の基部が固定
されており、該ボルトの先端部にセンタリングナ
ツト８を螺合して緊締することにより該デイスト
リビユータ５が該センタリングプレート６に固定
される。なお９は図示しないシヨツト導入筒の側
に基部を装着して、前記インペラ側板２の中心孔
と前記デイストリビユータ５の外周との隙間に介
入されたコントロールケージである。

前記インペラ側板２における円盤１，１の対向
内面には、放射状の嵌入凹溝１１，１１が複数
個、対を成して刻設されている。

前記嵌入凹溝１１，１１の１つには、本考案に
係るインペラブレードの１つ（以下、第１偏向ブ
レードと言う）１２がブレード主体１３の両側端
に形成されたリブ１４，１５を介して挿嵌されて
いる。前記第１偏向ブレード１２の構成を第１図
ないし第３図に基づいて説明すると、前記リブ１
４，１５のうち第１図の向かつて左側のリブ（以
下、ストレートリブと言う）１５の内縁は該ブレ
ード１２の基端及び先端に対してストレートを成
しており、右側のリブ（以下、テーパリブと言
う）１４の内縁は該ブレード１２の基端から先端
に向かつて拡大するテーパを成している。

なお前記テーパリブ１４内縁のテーパ角αは２
〜15゜の範囲で任意に決定される。前記ブレード
主体１３の表面は前記ストレートリブ１５側から
テーパリブ１４側へ下降傾斜している。すなわ
ち、前記インペラ側板２の回転方向に対して所定
角度外方へ偏向している（第５図参照）。なお前
記ブレード主体１３表面の傾斜角βも２〜15゜の
範囲で任意に決定される。前記第１偏向ブレード
１２の裏面における前記両リブ１４，１５の各々
のほぼ中央部には半円状の切込み凹溝１６，１６
が相対向して刻設されており、止めバネ１７の両
側部を該切込み凹溝１６，１６を介して、前記イ
ンペラ側板２の嵌入凹溝１１，１１の両側対称位
置に穿設された穴１８，１８へ嵌入することによ
り、該第１偏向ブレード１２は該インペラ側板２
に固定される（第５図参照）。前記インペラ側板
２の前記第１偏向ブレード１２に隣接する嵌入凹
溝１１，１１にはブレード主体１９の両側端にそ
の内縁がストレートを成すリブ２１，２１を形成
したインペラブレード（以下、ストレートブレー
ドと言う）２２が、該リブ２１，２１を介して挿
嵌されている。前記ストレートブレード２２にお
けるブレード主体１９の表面は前記インペラ側板
２の回転方向に正対している（第６図参照）。前
記ストレートブレード２２も、止めバネ１７によ
り前記第１偏向ブレード１２の場合と同様の方法
でインペラ側板２に固定されている。

前記インペラ側板２の前記ストレートブレード
２２に隣接する嵌入凹溝１１，１１には、本考案
に係るインペラブレードの他の１つ（以下、第２
偏向ブレードと言う）２３が、ブレード主体２４
の両側端に形成されたリブ２５，２６を介して挿
嵌されている。該第２偏向ブレード２３は第７図
に示す如く、前記第１偏向ブレード１２とは左右
対称形状を成している。すなわち前記リブ２５，
２６のうち第７図の向かつて左側のリブ（以下、
ストレートリブと言う）２５の内縁はストレート
を成しており、右側のリブ（以下、テーパリブと
言う）２６の内縁は該ブレード２３の基端から先
端に向かつて拡大するテーパを成している。前記
ブレード主体２４の表面は前記ストレートリブ２
５側からテーパリブ２６側へ下降傾斜している。
すなわち、前記インペラ側板２の回転方向に対し
て所定角度内方へ偏向している。

なお、該第２偏向ブレード２３におけるテーパ
リブ２６内縁のテーパ角及びブレード主体２４表
面の傾斜角も、前記第１偏向ブレード１２の場合
と同様、それぞれ２〜15゜の範囲で任意に決定さ
れる。該第２偏向ブレード２３も、止めバネ１７
により前記第１偏向ブレード１２及びストレート
ブレード２２と同様にしてインペラ側板２に固定
されている。

前記インペラ側板２の前記第２偏向ブレード２
３に隣接する嵌入凹溝１１，１１には、前記と同
じストレートブレード２２が挿嵌、固定されてい
る。すなわち第１偏向ブレード１２と第２偏向ブ
レード２３とが、ストレートブレード２２をはさ
んで交互に配列されている。

なお、前記３種類のインペラブレードは同数ず
つインペラ側板２に取り付けられており、また該
インペラ側板２の回転のバランスを崩さないよ
う、すべて同質量にされている。

（作用） 上記のように構成された遠心投射装置におい
て、回転軸４を介してインペラ側板２、センタリ
ングプレート６及びデイストリビユータ５を回転
させた上、該デイストリビユータ５内へ図示しな
いシヨツト導入筒を介してシヨツトを供給する
と、該シヨツトはデイストリビユータ５の開口及
びコントロールケージ９の開口を経てインペラブ
レードへ供給され、該ブレードの回転遠心力によ
り被処理対象物へ投射される。この時、第１偏向
ブレード１２へ供給されたシヨツトは、該ブレー
ド１２の偏向表面及びテーパリブ１４に案内さ
れ、インペラ側板２の回転方向に対して外方へ拡
散して投射され、所定間隔離れた被処理対象物の
表面を第８図のＡ線のような密度分布で研掃す
る。

またストレートブレード２２へ供給されたシヨ
ツトは、インペラ側板２の回転方向に沿つて投射
され、前記被処理対象物の表面を第８図のＢ線の
ような密度分布で研掃する。更に、第２偏向ブレ
ード２３へ供給されたシヨツトは、該ブレード２
３の偏向表面及びテーパリブ２６に案内され、イ
ンペラ側板２の回転方向に対して内方へ拡散して
投射され、前記被処理対象物の表面を第８図のＣ
線のような密度分布で研掃する。そしてこれら３
つの密度分布の合成により、第８図のＤ線の如
く、巾が広く、かつほぼ均一な密度分布の投射域
が得られる。

なお実施例では３種類のブレードの組合せによ
り投射域を拡大しているが、組合せ方法はこれに
限られるものではない。また実施例では第１偏向
ブレード１２と第２偏向ブレード２３における表
面傾斜角度及びテーパリブのテーパ角度はそれぞ
れ同じにされているが、所望巾の投射域を得るた
め、２〜15゜の範囲内で別個に設定してもよい。

（考案の効果） 以上の説明から明らかなように、本考案は遠心
投射装置のインペラブレードにおいて、ブレード
主体の両側端に形成されるリブの一方をその内縁
が該ブレード主体の基端及び先端に対してストレ
ートを成すストレートリブに形成すると共に、他
方をその内縁がブレードの基端から先端に向かつ
て拡大するテーパリブに形成し、ブレード本体の
表面をストレートリブ側からテーパリブ側へ下降
傾斜させたものである。

このようなインペラブレードを左右対称に、か
つ交互にインペラ側板へ取り付けた後、インペラ
を回転させてシヨツトを投射すると、該インペラ
から所定間隔離れた地点において、インペラの回
転方向に平行して巾広でかつ均一密度の投射域が
得られる。その結果、帯状製品を長手方向に移動
させると共にインペラの回転方向を該製品の長手
方向に平行させて研掃する場合に、該製品の巾寸
法に多少の変動があつても対応することが可能に
なり、投射効率が大巾に向上してエネルギーの浪
費を防げる。

また本考案のインペラブレードは通常のインペ
ラ側板に取り付け可能にされているから、遠心投
射装置を特別仕様のものにする必要がなく、低コ
ストで実施が可能である。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示し、第１図は第１
偏向ブレードの平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ
線における断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ矢視
図、第４図は遠心投射装置の縦断正面図、第５図
〜第７図は第４図のＣ−Ｃ矢視図で、そのうち第
５図は第１偏向ブレード、第６図はストレートブ
レード、第７図は第２偏向ブレードの各取付状態
を示す。第８図はインペラから投射されたシヨツ
トの被処理表面における密度分布を示す。 ２：インペラ側板、１２：第１偏向ブレード、
１３，１９，２４：ブレード主体、１４，２６：
テーパリブ、１５，２１，２５：ストレートリ
ブ、１７：止めバネ、２２：ストレートブレー
ド、２３：第２偏向ブレード、２：インペラ側
板、１，１：円盤、１１，１１：嵌入凹部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ブレード主体１３，２４の一方の側端部に、外
   縁がインペラ側板２における一方の円盤１内面の
   嵌入凹部１１に挿嵌可能にされていると共に内縁
   が該ブレード主体１３，２４の基端及び先端に対
   してストレートを成すストレートリブ１５，２５
   を形成すると共に、他方の側端部に、外縁が前記
   インペラ側板２における他方の円盤１内面の嵌入
   凹部１１に挿嵌可能にされていると共に内縁が前
   記ブレード主体１３，２４の基端から先端に向か
   つてテーパ状に拡大するテーパリブ１４，２６を
   形成し、前記ブレード主体１３，２４の表面を前
   記ストレートリブ１５，２５側からテーパリブ１
   ４，２６側へ下降傾斜させたことを特徴とする遠
   心投射装置のインペラブレード。