JPH02302328A - 有機ルテニウム化合物、その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキ - Google Patents
有機ルテニウム化合物、その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキInfo
- Publication number
- JPH02302328A JPH02302328A JP1122171A JP12217189A JPH02302328A JP H02302328 A JPH02302328 A JP H02302328A JP 1122171 A JP1122171 A JP 1122171A JP 12217189 A JP12217189 A JP 12217189A JP H02302328 A JPH02302328 A JP H02302328A
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- JP
- Japan
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- ruthenium compound
- ink
- compound
- away
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は有機反応触媒および重合触媒、樹脂硬化促進剤
、樹脂架橋剤、樹脂安定剤、ガラスおよびセラミックス
表面への金属、酸化物皮膜形成剤２石油および油類の各
種添加剤等の用途に用いられる有機ルテニウム化合物、
その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキに
関するものである。
、樹脂架橋剤、樹脂安定剤、ガラスおよびセラミックス
表面への金属、酸化物皮膜形成剤２石油および油類の各
種添加剤等の用途に用いられる有機ルテニウム化合物、
その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキに
関するものである。
従来の技術
従来より上記金属のカルボン酸塩はルテニウム原子１個
に対し３個のカルボン酸陰イオンが結合していると考え
られており、熱分解終了温度も高い。また、その製造方
法としては水系溶媒中で金属の無機塩とカルボン酸のア
ルカリ塩との塩の交換反応が知られている。
に対し３個のカルボン酸陰イオンが結合していると考え
られており、熱分解終了温度も高い。また、その製造方
法としては水系溶媒中で金属の無機塩とカルボン酸のア
ルカリ塩との塩の交換反応が知られている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来の製造方法では、ルテニウムの無機
塩は加水分解により反応不活性な酸化ルテニウムまたは
オキシ塩化ルテニウムを生成するので、有機ルテニウム
化合物の収率が非常に悪いといった問題点を有するもの
であった。
塩は加水分解により反応不活性な酸化ルテニウムまたは
オキシ塩化ルテニウムを生成するので、有機ルテニウム
化合物の収率が非常に悪いといった問題点を有するもの
であった。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、熱分解性
の良い有機ルテニウム化合物を再現性良くかつ高収率で
製造する方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキを
提供することを目的とするものである。
の良い有機ルテニウム化合物を再現性良くかつ高収率で
製造する方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキを
提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
これらの問題を解決するために本発明の有機ルテニウム
化合物の製造方法は、ルテニウム化合物とそれに対して
３モル倍以上の２−エチルヘキサン酸とを非水溶媒中、
４０℃以下で反応させることを特徴とするものである。
化合物の製造方法は、ルテニウム化合物とそれに対して
３モル倍以上の２−エチルヘキサン酸とを非水溶媒中、
４０℃以下で反応させることを特徴とするものである。
作用
この方法によって、従来より知られている化合物に比し
て熱分解温度が低く、かつ焼結性に優れた有機ルテニウ
ム化合物を収率良く製造することができる。また本発明
の有機ルテニウム化合物を抵抗体形成用インキに使用す
ることによって低温焼成型抵抗体形成用インキが得られ
る。
て熱分解温度が低く、かつ焼結性に優れた有機ルテニウ
ム化合物を収率良く製造することができる。また本発明
の有機ルテニウム化合物を抵抗体形成用インキに使用す
ることによって低温焼成型抵抗体形成用インキが得られ
る。
実施例
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
反応容器に２−ニーチルヘキサン酸８．２０ｇ（０，５
７ｍｏｅ）、水酸化ナトリウム２４．ＯＯｇ（０，５７
ｍｏｆりとベンゼン２００ｍ１！を入れ、水浴を７０℃
−９０℃に保ちながら激しく撹はんし、水酸化ナトリウ
ムが溶解した後に水とベンゼンを留去した。水をすべて
留去させた後、水浴を取り去り反応溶液の温度が４０℃
以下になったところに、３００ｍｅのエタノールに溶解
した塩化ルテニウム水和物５．００ ｇ （０，１９ｍ
ｏｆ！ ）を加えて４０℃以下で１５分間−３０分間撹
はんした。上記の反応混合溶液中のエタノールおよびベ
ンゼンを留去し、残存物をｎ−ヘキサンで抽出し、水洗
を行った。得られた有機層に無水流酸マグネシウムを２
０ｇを加え、乾燥させ、′再びｎ−ヘキサンを留去し、
目的の有機ルテニウム化合物を得た。このとき収率９０
％であり、非常に高収率で製造することができた。熱分
析後の残存物の元素分析を行った結果、混在している炭
化物の含有量は１０ｐｐｍ以下であったので金属酸化物
、金属皮膜形成剤にも用いることができることが確認さ
れた。
７ｍｏｅ）、水酸化ナトリウム２４．ＯＯｇ（０，５７
ｍｏｆりとベンゼン２００ｍ１！を入れ、水浴を７０℃
−９０℃に保ちながら激しく撹はんし、水酸化ナトリウ
ムが溶解した後に水とベンゼンを留去した。水をすべて
留去させた後、水浴を取り去り反応溶液の温度が４０℃
以下になったところに、３００ｍｅのエタノールに溶解
した塩化ルテニウム水和物５．００ ｇ （０，１９ｍ
ｏｆ！ ）を加えて４０℃以下で１５分間−３０分間撹
はんした。上記の反応混合溶液中のエタノールおよびベ
ンゼンを留去し、残存物をｎ−ヘキサンで抽出し、水洗
を行った。得られた有機層に無水流酸マグネシウムを２
０ｇを加え、乾燥させ、′再びｎ−ヘキサンを留去し、
目的の有機ルテニウム化合物を得た。このとき収率９０
％であり、非常に高収率で製造することができた。熱分
析後の残存物の元素分析を行った結果、混在している炭
化物の含有量は１０ｐｐｍ以下であったので金属酸化物
、金属皮膜形成剤にも用いることができることが確認さ
れた。
本実施例において、塩化ルテニウム溶液の添加の際の溶
液温度を４０℃以上にて行ったところ塩化ルテニウムが
一部分解して、酸化ルテニウムまたはオキシ塩化ルテニ
ウムなどの不溶化合物が生成し、収率は５０％以下であ
った。
液温度を４０℃以上にて行ったところ塩化ルテニウムが
一部分解して、酸化ルテニウムまたはオキシ塩化ルテニ
ウムなどの不溶化合物が生成し、収率は５０％以下であ
った。
同じく、塩化ルテニウム溶液の溶媒をエタノールから水
に代えて反応させたところ同様に難溶性の無機化合物が
生成し、目的化合物は全く得られなかった。
に代えて反応させたところ同様に難溶性の無機化合物が
生成し、目的化合物は全く得られなかった。
また、塩化ルテニウムに対する２−エチルへキサン酸の
反応量は３モル倍以上であれば、同じ化合物がほぼ同収
率で得られるが、過剰分の２−エチルヘキサン酸は未反
応のまま回収されるので原料効率から見ると３モル倍が
最適量である。３モル倍以下の２−エチルヘキサン酸を
使用した場合得られた有機ルテニウム化合物１分子中の
２−エチルヘキサン酸陰イオンの含有量が少なく、塩素
量が多いため有機溶媒対する溶解性が悪く、かつ熱分解
温度も高かった。
反応量は３モル倍以上であれば、同じ化合物がほぼ同収
率で得られるが、過剰分の２−エチルヘキサン酸は未反
応のまま回収されるので原料効率から見ると３モル倍が
最適量である。３モル倍以下の２−エチルヘキサン酸を
使用した場合得られた有機ルテニウム化合物１分子中の
２−エチルヘキサン酸陰イオンの含有量が少なく、塩素
量が多いため有機溶媒対する溶解性が悪く、かつ熱分解
温度も高かった。
発明の効果
以上の実施例から分かるように本発明の有機ルテニウム
化合物の製造方法は熱分解性、焼結性良好な有機ルテニ
ウム化合物を高収率で製造することができる。また、上
記化合物を含有したインキは低温で抵抗体を形成できる
ことから、産業上利用価値は多大なものである。
化合物の製造方法は熱分解性、焼結性良好な有機ルテニ
ウム化合物を高収率で製造することができる。また、上
記化合物を含有したインキは低温で抵抗体を形成できる
ことから、産業上利用価値は多大なものである。
Claims (6)
- （１）少なくともルテニウム原子２個および２−エチル
ヘキサン酸陰イオン４個から構成されることを特徴とす
る有機ルテニウム化合物。 - （２）ルテニウム化合物と２−エチルヘキサン酸とを非
水系溶媒中で反応させて製造することを特徴とする請求
項１記載の有機ルテニウム化合物の製造方法。 - （３）ルテニウム化合物とそれに対して３モル倍以上の
２−エチルヘキサン酸とを反応させて製造することを特
徴とする請求項２記載の有機ルテニウム化合物の製造方
法。 - （４）ルテニウム化合物と２−エチルヘキサン酸とを４
０℃以下で反応させて製造することを特徴とする請求項
２記載の有機ルテニウム化合物の製造方法。 - （５）ルテニウム化合物とそれに対して３モル倍以上の
２−エチルヘキサン酸とを４０℃以下で反応させて製造
することを特徴とする請求項２記載の有機ルテニウム化
合物の製造方法。 - （６）請求項１記載の有機ルテニウム化合物を主要構成
要素として含有することを特徴とする抵抗体形成用イン
キ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1122171A JPH02302328A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 有機ルテニウム化合物、その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1122171A JPH02302328A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 有機ルテニウム化合物、その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02302328A true JPH02302328A (ja) | 1990-12-14 |
Family
ID=14829333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1122171A Pending JPH02302328A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 有機ルテニウム化合物、その製造方法およびそれを用いた抵抗体形成用インキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02302328A (ja) |
-
1989
- 1989-05-16 JP JP1122171A patent/JPH02302328A/ja active Pending
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