JPH02302587A - 熱間静水圧加圧装置の冷却装置 - Google Patents
熱間静水圧加圧装置の冷却装置Info
- Publication number
- JPH02302587A JPH02302587A JP1121486A JP12148689A JPH02302587A JP H02302587 A JPH02302587 A JP H02302587A JP 1121486 A JP1121486 A JP 1121486A JP 12148689 A JP12148689 A JP 12148689A JP H02302587 A JPH02302587 A JP H02302587A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- nozzle
- furnace
- insulating layer
- heat insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/001—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
- B30B11/002—Isostatic press chambers; Press stands therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属粉末、セラミックス等を高圧高温のガス
雰囲気下で焼結するための熱間静水圧加圧装置（以下器
Ｐという）に関し、特に上記装置の高温炉内の冷却装置
に関する。
雰囲気下で焼結するための熱間静水圧加圧装置（以下器
Ｐという）に関し、特に上記装置の高温炉内の冷却装置
に関する。
近年、高温高圧下で種々の材料の処理を行なう要求が高
まり、処理装置としてのＨＩＰが注目されている。ＨＩ
Ｐは圧力容器の温度を所定の設計温度以下に維持しつつ
２０００℃におよぶ高温処理を可能にしかつ炉内での良
好な温度分布を得るために倒立コツプ状の断熱層を具備
しているが、一方で上記断熱層は加熱後の冷却時間がか
かる原因となっている。特に近年、装置の大型化が進む
につれ生産性向上、処理コスト低減の観点から冷却速度
の向上に対する要求が強まってきている。
まり、処理装置としてのＨＩＰが注目されている。ＨＩ
Ｐは圧力容器の温度を所定の設計温度以下に維持しつつ
２０００℃におよぶ高温処理を可能にしかつ炉内での良
好な温度分布を得るために倒立コツプ状の断熱層を具備
しているが、一方で上記断熱層は加熱後の冷却時間がか
かる原因となっている。特に近年、装置の大型化が進む
につれ生産性向上、処理コスト低減の観点から冷却速度
の向上に対する要求が強まってきている。
高圧のガスは、高密度、低粘度であることから、ガスを
流動させることにより、冷却速度を上げられることが知
られており第５図に示すように圧力容器２の下部にファ
ン１６を置き、断熱層４内で圧媒ガスの強制対流を発生
させ、冷却速度を向上させることが試みられている（特
公昭５９−１４７１２号公報）。
流動させることにより、冷却速度を上げられることが知
られており第５図に示すように圧力容器２の下部にファ
ン１６を置き、断熱層４内で圧媒ガスの強制対流を発生
させ、冷却速度を向上させることが試みられている（特
公昭５９−１４７１２号公報）。
第５図の圧力容器内にファンを設置する方法によっても
相応の効果を上げることは可能であるが、以下のような
欠点がある。
相応の効果を上げることは可能であるが、以下のような
欠点がある。
（１）ファンは、可動部品が多く、信頼性に欠ける。
（２）ファン方式は冷却能力が比較的小さく、生産設備
として使用される中・大型ＨＩＰの冷却装置としては不
十分である。
として使用される中・大型ＨＩＰの冷却装置としては不
十分である。
そこで、冷却能力を大きくする方法として、大ガス量用
のファンを使用することが考えられるが、ファンが大型
となり、多くのスペースを犠牲にするといった問題があ
る。
のファンを使用することが考えられるが、ファンが大型
となり、多くのスペースを犠牲にするといった問題があ
る。
本発明は、上記の問題点を解決するものである。
すなわち、本発明の特徴は次の通りである。
（１）高圧ガスを封入する圧力容器内に倒立コツプ状の
断熱層を配置し、該断熱層内側に加熱装置および処理物
を収設してなる熱間静水圧加圧装置に於て、圧力容器内
下部に少なくとも１つの圧媒ガス噴出用ノズルを設け、
該ノズルに圧力容器の下蓋の流通孔を接続し、該流通孔
にガス圧縮機を連通ずるとともに、該ノズル噴出口より
断熱層空間内上部に連通ずる噴出ガス誘導管を設ける。
断熱層を配置し、該断熱層内側に加熱装置および処理物
を収設してなる熱間静水圧加圧装置に於て、圧力容器内
下部に少なくとも１つの圧媒ガス噴出用ノズルを設け、
該ノズルに圧力容器の下蓋の流通孔を接続し、該流通孔
にガス圧縮機を連通ずるとともに、該ノズル噴出口より
断熱層空間内上部に連通ずる噴出ガス誘導管を設ける。
（２）更に望ましくは、圧力容器下部空間と断熱層下部
との間に、前記噴出ガス誘導管を避けて遮蔽板を設け、
圧力容器下部に低温圧媒ガス滞留空間を設ける。
との間に、前記噴出ガス誘導管を避けて遮蔽板を設け、
圧力容器下部に低温圧媒ガス滞留空間を設ける。
（３）また更に、前記ノズルの噴出側でかつ前記低温圧
媒ガス滞留空間内に、適切な間隔を置いて少なくとも１
つのインジェクターを配設すｇｏ（４）その上、冷却能
力を長時間維持するためには、前記断熱層下部と前記遮
蔽板との間に流路を形成しかつ断熱層と圧力容器内面と
の間にガス冷却流路を設ける。
媒ガス滞留空間内に、適切な間隔を置いて少なくとも１
つのインジェクターを配設すｇｏ（４）その上、冷却能
力を長時間維持するためには、前記断熱層下部と前記遮
蔽板との間に流路を形成しかつ断熱層と圧力容器内面と
の間にガス冷却流路を設ける。
以下ノズルのみを装備した実施例を第１図に従って説明
する。ガスボンベ１１のガスは、ガス圧縮機１０で加圧
され、圧力容器２の下蓋３を貫通する流通孔１７を通っ
てノズル９に到達する。ノズル９０口径は、小さく絞ら
れており、ガスは高速で勢いよくノズル９から吹き出す
。ノズル９から吹き出たガスは、噴出ガス誘導管７を通
り、断熱層４内面上部まで達した後炉内に拡散する。こ
のため炉内上部に密度の高い低温ガスが広がることにな
り、直ちに密度の低い炉内高温ガスとの激しい対流が起
こる。この結果炉内の対流熱伝達率が上昇するとともに
、炉内がよく混合され炉内温度が均一化する。
する。ガスボンベ１１のガスは、ガス圧縮機１０で加圧
され、圧力容器２の下蓋３を貫通する流通孔１７を通っ
てノズル９に到達する。ノズル９０口径は、小さく絞ら
れており、ガスは高速で勢いよくノズル９から吹き出す
。ノズル９から吹き出たガスは、噴出ガス誘導管７を通
り、断熱層４内面上部まで達した後炉内に拡散する。こ
のため炉内上部に密度の高い低温ガスが広がることにな
り、直ちに密度の低い炉内高温ガスとの激しい対流が起
こる。この結果炉内の対流熱伝達率が上昇するとともに
、炉内がよく混合され炉内温度が均一化する。
尚、第１図ではノズル９および噴出ガス誘導管７を炉内
中央部に一式設置した例を示したが、上記装置一式また
は複数式を、炉内中央部または周辺部に設置しても同様
の効果が得られる。
中央部に一式設置した例を示したが、上記装置一式また
は複数式を、炉内中央部または周辺部に設置しても同様
の効果が得られる。
以上の方法により発生したガス対流により、圧力容器２
下部の雰囲気温度が上がり、圧力容器２下部に設置した
電気品等に悪影響を及ぼす恐れがある場合には、第２図
に示すように、断熱層４の下部に前記噴出ガス誘導管７
以外の直通のガス流路を遮断する遮蔽板１２を設けると
ともに圧力容器２の下部に低温圧媒ガス滞留空間１５を
設けることにより、断熱層４内から吹き出るガス量を極
力抑える。尚この際、断熱層４内に吹き込まれた低温の
ガスが膨張し、断熱層４内の圧力が上がる場合は、断熱
層４下部と遮蔽板１２との間より、圧力容器２内面と断
熱層４外面との間に向けて圧媒ガスを吹き出させる。
下部の雰囲気温度が上がり、圧力容器２下部に設置した
電気品等に悪影響を及ぼす恐れがある場合には、第２図
に示すように、断熱層４の下部に前記噴出ガス誘導管７
以外の直通のガス流路を遮断する遮蔽板１２を設けると
ともに圧力容器２の下部に低温圧媒ガス滞留空間１５を
設けることにより、断熱層４内から吹き出るガス量を極
力抑える。尚この際、断熱層４内に吹き込まれた低温の
ガスが膨張し、断熱層４内の圧力が上がる場合は、断熱
層４下部と遮蔽板１２との間より、圧力容器２内面と断
熱層４外面との間に向けて圧媒ガスを吹き出させる。
上記方法でも装置内の冷却速度がかなり改善されるが、
更に冷却速度の改善が可能な実施例を第３図に従って説
明する。この実施例は、ノズル９の噴出側で且つ低温圧
媒ガス滞留空間１５内に、適切な間隔を置いて２段のイ
ンジェクター１３−１゜１３−２を配設したものである
。ガスボンベ１１のガスは、ガス圧縮機１０で加圧され
、圧力容器２の下蓋３を貫通する流通孔１７を通ってノ
ズル９に到達する（第２図参照）。ノズル９の口径は小
さく絞られており、ガスは高速で勢いよくノズル９から
吹き出す。ノズル９から吹き出たガスは、圧力容器２下
部の低温圧媒ガス滞留空間１５内の、低温かつ高密度の
ガスを巻き込んでインジェクター（１段目”）１３−１
に入る。この時インジェクター（１段目）１３−１を通
るガス流量は、ガス圧縮機１０で加圧されたガス量に比
べ大幅に増加している。このガスは、更に多量の低温ガ
スを巻き込みながらインジェクター（２段目）１３−２
へと導かれる。こうして流量を大幅に増したガスはイン
ジェクター（２段目）１３−２から噴出ガス誘導管７を
通り、断熱層４内面上部に勢いよく吹き出されることに
なる。このため炉内上部に密度の高い低温ガスが広がる
ことになり、直ちに密度の低い炉内高温ガスとの激しい
対流が起こる。この結果炉内の対流熱伝達率が上昇する
とともに、炉内がよく混合され炉内温度が均一化する。
更に冷却速度の改善が可能な実施例を第３図に従って説
明する。この実施例は、ノズル９の噴出側で且つ低温圧
媒ガス滞留空間１５内に、適切な間隔を置いて２段のイ
ンジェクター１３−１゜１３−２を配設したものである
。ガスボンベ１１のガスは、ガス圧縮機１０で加圧され
、圧力容器２の下蓋３を貫通する流通孔１７を通ってノ
ズル９に到達する（第２図参照）。ノズル９の口径は小
さく絞られており、ガスは高速で勢いよくノズル９から
吹き出す。ノズル９から吹き出たガスは、圧力容器２下
部の低温圧媒ガス滞留空間１５内の、低温かつ高密度の
ガスを巻き込んでインジェクター（１段目”）１３−１
に入る。この時インジェクター（１段目）１３−１を通
るガス流量は、ガス圧縮機１０で加圧されたガス量に比
べ大幅に増加している。このガスは、更に多量の低温ガ
スを巻き込みながらインジェクター（２段目）１３−２
へと導かれる。こうして流量を大幅に増したガスはイン
ジェクター（２段目）１３−２から噴出ガス誘導管７を
通り、断熱層４内面上部に勢いよく吹き出されることに
なる。このため炉内上部に密度の高い低温ガスが広がる
ことになり、直ちに密度の低い炉内高温ガスとの激しい
対流が起こる。この結果炉内の対流熱伝達率が上昇する
とともに、炉内がよく混合され炉内温度が均一化する。
尚、上記冷却能力を長時間維持するためには、第４図に
示したように断熱層４下部と遮蔽板１２との間に流路７
−１を設は断熱層４下部より積極的にガスを吹き出させ
る。更に該流路７−１より吹きでるガスが圧力容器２内
面および圧力容器２内面と断熱層４外側面の間に存在す
る低温の圧媒ガスと熱交換を行なうガス冷却流路１４を
設ける。
示したように断熱層４下部と遮蔽板１２との間に流路７
−１を設は断熱層４下部より積極的にガスを吹き出させ
る。更に該流路７−１より吹きでるガスが圧力容器２内
面および圧力容器２内面と断熱層４外側面の間に存在す
る低温の圧媒ガスと熱交換を行なうガス冷却流路１４を
設ける。
これにより、低温ガス滞留空間１５→断熱層４内上部→
ガス冷却流路１４→低温ガス滞留空間１５というガスル
ープが形成され、低温ガス滞留空間１５には、低温の圧
媒ガスが次々と供給され、該低温ガス滞留空間１５のガ
ス温度は、はとんど上昇せず、急速冷却を連続的に行な
うことができる。
ガス冷却流路１４→低温ガス滞留空間１５というガスル
ープが形成され、低温ガス滞留空間１５には、低温の圧
媒ガスが次々と供給され、該低温ガス滞留空間１５のガ
ス温度は、はとんど上昇せず、急速冷却を連続的に行な
うことができる。
この結果、第４図の方法においてφ４６０ Ｘ １００
０ ｈ 。
０ ｈ 。
２０００℃対応の生産用大型ＨＩＰで、３００ｋｇの処
理品を本発明の冷却装置で冷却した場合、冷却装置を使
用しない通常冷却時間に比べ１／３に時間短縮ができる
。
理品を本発明の冷却装置で冷却した場合、冷却装置を使
用しない通常冷却時間に比べ１／３に時間短縮ができる
。
上記の構成により、下記の効果がある。
２０００℃に右よぶ高温処理に対し、十分な断熱性を有
したまま、標準のＨＩＰに絞りを有したノズノペ噴出ガ
ス誘導管を新たに付加するだけで、冷却能力を高めるこ
とができる。
したまま、標準のＨＩＰに絞りを有したノズノペ噴出ガ
ス誘導管を新たに付加するだけで、冷却能力を高めるこ
とができる。
その上、遮蔽板を設置することで、圧力容器下部を低温
に保つこともできる。
に保つこともできる。
更に、１個もしくは複数個のインジェクターを追加する
ことで、大幅に冷却能力を高めることができる。
ことで、大幅に冷却能力を高めることができる。
また、ガス冷却流路を付加することで、長時間にわたり
大幅に冷却能力を高めることができる。
大幅に冷却能力を高めることができる。
第１図は、本発明の１実施例を示す縦断面側面図、第２
図は、本発明の他の実施例を示す縦断面側面図、第３図
は、本発明の他の実施例の部分拡大断面側面図、第４図
は、本発明の他の実施例の部分拡大断面側面図、第５図
は、従来法の実施例を示す縦断面側面図である。 １・・・上蓋、 ２・・・圧力容器、３・・
・下蓋、 ４・・・断熱層、５・・・ヒー
ター、 ６・・・処理物、７・・・噴出ガス誘
導管、 ８・・・処理台、９・・・ノズノペ
１０・・・ガス圧縮機、１１・・・ガスボンベ、
１２・・・遮蔽板、１３・・・インジェクター、１４
・・・ガス冷却流路、１５・・・低温圧媒ガス滞留空間
、 １６・・・ファン、 １７・・・流通孔。 第１図 ６・・・処理物 １７・・・流通孔 第２図
図は、本発明の他の実施例を示す縦断面側面図、第３図
は、本発明の他の実施例の部分拡大断面側面図、第４図
は、本発明の他の実施例の部分拡大断面側面図、第５図
は、従来法の実施例を示す縦断面側面図である。 １・・・上蓋、 ２・・・圧力容器、３・・
・下蓋、 ４・・・断熱層、５・・・ヒー
ター、 ６・・・処理物、７・・・噴出ガス誘
導管、 ８・・・処理台、９・・・ノズノペ
１０・・・ガス圧縮機、１１・・・ガスボンベ、
１２・・・遮蔽板、１３・・・インジェクター、１４
・・・ガス冷却流路、１５・・・低温圧媒ガス滞留空間
、 １６・・・ファン、 １７・・・流通孔。 第１図 ６・・・処理物 １７・・・流通孔 第２図
Claims (4)
- １．高圧ガスを封入する圧力容器に倒立コップ状の断熱
層を配置し、該断熱層内側に加熱装置および処理物を収
設してなる熱間静水圧加圧装置に於て、圧力容器内下部
に少なくとも１つの圧媒ガス噴出用ノズルを設け、該ノ
ズルに圧力容器の下蓋の流通孔を接続し、該流通孔にガ
ス圧縮機を連通するとともに、該ノズル噴出口より断熱
層空間内上部に連通する噴出ガス誘導管を設けたことを
特徴とする熱間静水圧加圧装置の冷却装置。 - ２．圧力容器下部空間と断熱層下部との間に、遮蔽板を
設けた請求項１記載の熱間静水圧加圧装置の冷却装置。 - ３．前記ノズルの噴出側でかつ低温圧媒ガス滞留空間内
に、少なくとも１つのインジェクターを配設した請求項
１又は２記載の熱間静水圧加圧装置の冷却装置。 - ４．前記断熱層下部と前記遮蔽板との間に流路を形成し
かつ前記断熱層の外側面と圧力容器内面との間にガス冷
却流路を設けた請求項３記載の熱間静水圧加圧装置の冷
却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121486A JPH02302587A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 熱間静水圧加圧装置の冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121486A JPH02302587A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 熱間静水圧加圧装置の冷却装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02302587A true JPH02302587A (ja) | 1990-12-14 |
| JPH0579907B2 JPH0579907B2 (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14812353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1121486A Granted JPH02302587A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 熱間静水圧加圧装置の冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02302587A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6514066B1 (en) * | 1997-06-13 | 2003-02-04 | Flow Holdings Gmbh (Sagl) Limited Liability Company | Device for hot isostatic pressing |
| WO2010057670A1 (de) * | 2008-11-23 | 2010-05-27 | Dieffenbacher Gmbh + Co. Kg | Verfahren zur temperierung einer heiss isostatischen presse und eine heiss isostatische presse |
| JP2012509191A (ja) * | 2008-11-23 | 2012-04-19 | ディーフェンバッハー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 熱間等方圧プレスにおける温度制御のための方法並びに熱間等方圧プレス |
| CN103057150A (zh) * | 2013-01-28 | 2013-04-24 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 用于温等静压工作缸的流体介质分流结构 |
| JP2013178070A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-09-09 | Kobe Steel Ltd | 熱間等方圧加圧装置 |
| US8695494B2 (en) | 2007-05-22 | 2014-04-15 | Cremer Thermoprozessanlagen Gmbh | Method for rapid cooling of a hot isostatic press and a hot isostatic press |
| JP2018126790A (ja) * | 2013-03-13 | 2018-08-16 | キンタス・テクノロジーズ・エービーＱｕｉｎｔｕｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＡＢ | ファンおよびエジェクタを組み合わせた冷却を用いた加圧装置、ならびに加圧の方法 |
| US11214857B2 (en) | 2018-03-15 | 2022-01-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
| CN120557929A (zh) * | 2025-07-30 | 2025-08-29 | 四川三帝新材料有限公司 | 一种用于瓷砖生产的隧道窑 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63188498U (ja) * | 1987-05-25 | 1988-12-02 |
-
1989
- 1989-05-17 JP JP1121486A patent/JPH02302587A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63188498U (ja) * | 1987-05-25 | 1988-12-02 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6514066B1 (en) * | 1997-06-13 | 2003-02-04 | Flow Holdings Gmbh (Sagl) Limited Liability Company | Device for hot isostatic pressing |
| US8695494B2 (en) | 2007-05-22 | 2014-04-15 | Cremer Thermoprozessanlagen Gmbh | Method for rapid cooling of a hot isostatic press and a hot isostatic press |
| WO2010057670A1 (de) * | 2008-11-23 | 2010-05-27 | Dieffenbacher Gmbh + Co. Kg | Verfahren zur temperierung einer heiss isostatischen presse und eine heiss isostatische presse |
| JP2012509191A (ja) * | 2008-11-23 | 2012-04-19 | ディーフェンバッハー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 熱間等方圧プレスにおける温度制御のための方法並びに熱間等方圧プレス |
| JP2013178070A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-09-09 | Kobe Steel Ltd | 熱間等方圧加圧装置 |
| CN103057150A (zh) * | 2013-01-28 | 2013-04-24 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 用于温等静压工作缸的流体介质分流结构 |
| JP2018126790A (ja) * | 2013-03-13 | 2018-08-16 | キンタス・テクノロジーズ・エービーＱｕｉｎｔｕｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＡＢ | ファンおよびエジェクタを組み合わせた冷却を用いた加圧装置、ならびに加圧の方法 |
| US10458711B2 (en) | 2013-03-13 | 2019-10-29 | Quintus Technologies Ab | Combined fan and ejector cooling |
| US11214857B2 (en) | 2018-03-15 | 2022-01-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
| US11761070B2 (en) | 2018-03-15 | 2023-09-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
| CN120557929A (zh) * | 2025-07-30 | 2025-08-29 | 四川三帝新材料有限公司 | 一种用于瓷砖生产的隧道窑 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0579907B2 (ja) | 1993-11-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101392005B1 (ko) | 열간 등방압 가압 장치 | |
| JPH02302587A (ja) | 熱間静水圧加圧装置の冷却装置 | |
| US4448747A (en) | High density sintering method for powder molded products | |
| JP5615019B2 (ja) | 熱間等方圧加圧装置 | |
| US4693211A (en) | Surface treatment apparatus | |
| US20080006294A1 (en) | Solder cooling system | |
| US6936793B1 (en) | Oven apparatus and method of use thereof | |
| EP0395884B1 (en) | Pressure vessel for hot isostatic pressing with means for cooling | |
| JPH03216259A (ja) | 重力に逆らった金属鋳造方法および鋳造装置 | |
| EP0427656A3 (en) | Improved apparatus for cooling electronics components | |
| ES2054357T3 (es) | Aparato y metodo para tratar substratos planos bajo una presion reducida. | |
| EP0829904A3 (en) | Improved substrate cooldown chamber | |
| US4359336A (en) | Isostatic method for treating articles with heat and pressure | |
| KR20010030007A (ko) | 기판처리방법 및 기판처리장치 | |
| US7402778B2 (en) | Oven for controlled heating of compounds at varying temperatures | |
| KR100524390B1 (ko) | 가열로와 반도체기판홀딩 지그의 조립체, 및 반도체장치의제조방법 | |
| JP2015017782A (ja) | 熱間等方圧加圧装置 | |
| EP0397315A3 (en) | Method and apparatus for heating and cooling semiconductor wafers in semiconductor wafer processing equipment | |
| AU1787699A (en) | Method and apparatus for forming granulate from a melt of chemical products | |
| US4059429A (en) | Glass pressing plunger cooling | |
| JPS57128940A (en) | Heat treating method for substrate | |
| US20020062790A1 (en) | Processing apparatus and processing system | |
| US5524810A (en) | Solder reflow processor | |
| SE2050886A1 (en) | A method and a system for brazing a plate heat exchanger | |
| US4320865A (en) | Apparatus for attachment of die to heat sink |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |