JPH02304400A - X線分光装置 - Google Patents
X線分光装置Info
- Publication number
- JPH02304400A JPH02304400A JP1124894A JP12489489A JPH02304400A JP H02304400 A JPH02304400 A JP H02304400A JP 1124894 A JP1124894 A JP 1124894A JP 12489489 A JP12489489 A JP 12489489A JP H02304400 A JPH02304400 A JP H02304400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- spectroscopic crystal
- rays
- crystal
- arm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は分光結晶を用いたX線分光装置に関する。
(従来の技術)
分光結晶を用いたX線分光装置は従来、使用時だけ分光
結晶はX線の照射を受けると云う使い方がなされていた
。所が分光結晶はX &’it照射を受けることにより
格子面間隔および反射X線強度が変化して徐々に一定に
近づいて行く。従って測定を開始してから、分光結晶の
変化が落着(までの間は頻繁に分光器の波畏の合せ直し
およびX線検出感度の確認を行わねばならず、大へん面
倒でしかも精度の良い測定を行うのが困難であった。
結晶はX線の照射を受けると云う使い方がなされていた
。所が分光結晶はX &’it照射を受けることにより
格子面間隔および反射X線強度が変化して徐々に一定に
近づいて行く。従って測定を開始してから、分光結晶の
変化が落着(までの間は頻繁に分光器の波畏の合せ直し
およびX線検出感度の確認を行わねばならず、大へん面
倒でしかも精度の良い測定を行うのが困難であった。
(発明が解決しようとする課題)
分光結晶を用いたX線分光装置で毎回測定開始から直ち
に安定した状態で測定を行い得るようにしようとするも
のである (課題を解決するための手段) X線分光装置において、X線分光用結晶に常にX線を照
射してお(ようにした。
に安定した状態で測定を行い得るようにしようとするも
のである (課題を解決するための手段) X線分光装置において、X線分光用結晶に常にX線を照
射してお(ようにした。
(作用)
分光結晶を用いたX線分光装置の不安定の原因は前述し
たように分光結晶がX線の照射を受けることにより格子
面間隔が徐々に変化する所にある。従って予め分光結晶
にX線を照射して分光結晶を終着状態まで変化させてお
けば直ちに安定した状態で測定を開始することができる
。X線照射を中断すると分光結晶が元に戻るが、常時X
線を照射しておけば、分光結晶はX線照射による安定状
態に落着いているので、何時でも測定を行うことができ
る。
たように分光結晶がX線の照射を受けることにより格子
面間隔が徐々に変化する所にある。従って予め分光結晶
にX線を照射して分光結晶を終着状態まで変化させてお
けば直ちに安定した状態で測定を開始することができる
。X線照射を中断すると分光結晶が元に戻るが、常時X
線を照射しておけば、分光結晶はX線照射による安定状
態に落着いているので、何時でも測定を行うことができ
る。
(実施例)
図面に本発明の一実施例を示す。この実施例はX線マイ
クロアナライザに本発明を適用した例である。図でeは
電子ビームで試料表面に収束せしめられている。Cは分
光結晶で、試料面の電子ビーム照射点を通る固定直線り
に沿って移動するようになっている。DはX線検出器で
、その前面に置かれた分光用スリットDsと一体化され
ており、このスリブ!・が試料Sの電子ビーム照射点と
分光結晶Cの中心を通る一定半径の円周(1コ一ランド
円)上に常に位置しているように分光結晶Cと機構的に
連結されている。GはX線源で上記機構上に取付けられ
ており、分光結晶Cに軟X線を照射している。
クロアナライザに本発明を適用した例である。図でeは
電子ビームで試料表面に収束せしめられている。Cは分
光結晶で、試料面の電子ビーム照射点を通る固定直線り
に沿って移動するようになっている。DはX線検出器で
、その前面に置かれた分光用スリットDsと一体化され
ており、このスリブ!・が試料Sの電子ビーム照射点と
分光結晶Cの中心を通る一定半径の円周(1コ一ランド
円)上に常に位置しているように分光結晶Cと機構的に
連結されている。GはX線源で上記機構上に取付けられ
ており、分光結晶Cに軟X線を照射している。
この実施例では上述した機構は、直線りに沿って固定さ
れた分光結晶ガイド1と、このガイドに沿って摺動する
分光結晶台2と台2から一体的に延出された腕3と、同
じく台2に対し回動可能な腕4と、ガイド1および腕4
に一端が枢支され、夫々の他端が互いに連結されたリン
ク6.7と、腕3の端とスリットDsとを結ぶリンクと
よりなっており、X!l!i1検出器りとスリットDs
の一体物は腕4上を摺動可能であり、腕3とリンク8と
は夫々長さがローランド円の半径に等しくしてあり、リ
ンク6.7の結合ビンpを腕3の摺動溝内に摺動させる
ことで分光結晶Cの中心法線が常にローランド円の中心
に向っているようにしである。この構成により、分光結
晶Cを送りねじによってガイド1に沿い移動させること
によって波長走査が行われる。X線源Gは腕3に固定さ
れているので、分光結晶Cとの位置関係は常に一定とな
っている。かつX線源Gは腕3の中心線上よりや\腕4
に近い側に片寄せて取付けである。このようにしておく
と、X線源Gから放射されたX線が分光結晶で反射され
ても検出器とは反対側に反射されるので、測定中のバッ
クグラウンド上昇を低く抑えることができる。X線源G
から放射されるX線は実際のX線分光測定におけるX線
の波長範囲よりも長波長側に選定しである。X線検出器
に比例計数管のようなエネルギー分析機能を有する検出
器を用いることにより、測定時にもX線源Gから放射さ
れているX線によるバックグラウンド上昇は更に低(抑
えられる。測定中はX線源Gの作動を停止させておいて
もよい。
れた分光結晶ガイド1と、このガイドに沿って摺動する
分光結晶台2と台2から一体的に延出された腕3と、同
じく台2に対し回動可能な腕4と、ガイド1および腕4
に一端が枢支され、夫々の他端が互いに連結されたリン
ク6.7と、腕3の端とスリットDsとを結ぶリンクと
よりなっており、X!l!i1検出器りとスリットDs
の一体物は腕4上を摺動可能であり、腕3とリンク8と
は夫々長さがローランド円の半径に等しくしてあり、リ
ンク6.7の結合ビンpを腕3の摺動溝内に摺動させる
ことで分光結晶Cの中心法線が常にローランド円の中心
に向っているようにしである。この構成により、分光結
晶Cを送りねじによってガイド1に沿い移動させること
によって波長走査が行われる。X線源Gは腕3に固定さ
れているので、分光結晶Cとの位置関係は常に一定とな
っている。かつX線源Gは腕3の中心線上よりや\腕4
に近い側に片寄せて取付けである。このようにしておく
と、X線源Gから放射されたX線が分光結晶で反射され
ても検出器とは反対側に反射されるので、測定中のバッ
クグラウンド上昇を低く抑えることができる。X線源G
から放射されるX線は実際のX線分光測定におけるX線
の波長範囲よりも長波長側に選定しである。X線検出器
に比例計数管のようなエネルギー分析機能を有する検出
器を用いることにより、測定時にもX線源Gから放射さ
れているX線によるバックグラウンド上昇は更に低(抑
えられる。測定中はX線源Gの作動を停止させておいて
もよい。
(発明の効果)
本発明によれば、測定前に分光結晶は既にX線照射を受
けていて変化が安定しているので、測定開始後更めで波
長合せや強度確認を繰返す必要がな(、測定操作が簡単
かつ能率的になり、また分光結晶が安定しているので高
精度の測定ができる。
けていて変化が安定しているので、測定開始後更めで波
長合せや強度確認を繰返す必要がな(、測定操作が簡単
かつ能率的になり、また分光結晶が安定しているので高
精度の測定ができる。
図面は本発明の一実施例装置の側面図である。
e・・・電子ビ、−ム、S・・・試料、C・・・分光結
晶、D・・・X線検出器、Ds・・・分光用スリット、
G・・・X線源。 代理人 弁理士 縣 浩 介 り固定1線
晶、D・・・X線検出器、Ds・・・分光用スリット、
G・・・X線源。 代理人 弁理士 縣 浩 介 り固定1線
Claims (1)
- X線分光用結晶に測定前に予めX線を照射しておくよう
にしたことを特徴とするX線分光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1124894A JPH02304400A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | X線分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1124894A JPH02304400A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | X線分光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02304400A true JPH02304400A (ja) | 1990-12-18 |
Family
ID=14896738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1124894A Pending JPH02304400A (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | X線分光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02304400A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337301A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
| JP2022553015A (ja) * | 2019-10-21 | 2022-12-21 | イージーザフス,エルエルシー | 分光器 |
-
1989
- 1989-05-18 JP JP1124894A patent/JPH02304400A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337301A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
| JP2022553015A (ja) * | 2019-10-21 | 2022-12-21 | イージーザフス,エルエルシー | 分光器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3488843B2 (ja) | X線分光装置及びxafs測定装置 | |
| US7600916B2 (en) | Target alignment for X-ray scattering measurements | |
| US6292532B1 (en) | Fluorescent X-ray analyzer useable as wavelength dispersive type and energy dispersive type | |
| US6885726B2 (en) | Fluorescent X-ray analysis apparatus | |
| US2898469A (en) | X-ray diffraction apparatus | |
| JPS6040943A (ja) | X線分析装置 | |
| JP2002189004A (ja) | X線分析装置 | |
| Koirtyohann et al. | Effect of modulation wave form on the utility of emission background corrections obtained with an oscillating refractor plate | |
| JPH05113418A (ja) | 表面分析装置 | |
| JP2000504422A (ja) | 2つのコリメータマスクを有するx線分析装置 | |
| JP2000505907A (ja) | 部分的に変化し、部分的に一定の曲率半径を有するアナライザ結晶を有するx線スペクトロメータ | |
| DE69011053T2 (de) | System zur Reduktion des durch den Emissionsbereich der Lichtquelle bewirkten Wellenlängenfehlers bei Spektrometern. | |
| US6647090B2 (en) | X-ray fluorescence spectrometer | |
| JPH08136479A (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
| US3116415A (en) | Mechanical motion and spectrographic device including it | |
| Steinhaus et al. | Precision Computer Measurement of Spectra | |
| JP2674675B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
| JPH09257726A (ja) | X線分析装置および蛍光x線分析用アタッチメント | |
| US4172637A (en) | Common beam aperture for dual beam spectrophotometers | |
| JPS6315546B2 (ja) | ||
| JPS60194334A (ja) | 励起螢光モニタ装置 | |
| JPH06109662A (ja) | X線分析装置 | |
| JPH08193893A (ja) | ラマン応力測定装置 | |
| JP3740530B2 (ja) | 全反射局所蛍光x線分析用アライナー | |
| KR900005330B1 (ko) | 무기질 원소의 농도 측정방법 |