JPH02304854A - 同時検出型質量分析装置 - Google Patents
同時検出型質量分析装置Info
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- JPH02304854A JPH02304854A JP1125959A JP12595989A JPH02304854A JP H02304854 A JPH02304854 A JP H02304854A JP 1125959 A JP1125959 A JP 1125959A JP 12595989 A JP12595989 A JP 12595989A JP H02304854 A JPH02304854 A JP H02304854A
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- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- ion detector
- lens
- mass
- mass spectrometer
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/28—Static spectrometers
- H01J49/32—Static spectrometers using double focusing
- H01J49/322—Static spectrometers using double focusing with a magnetic sector of 90 degrees, e.g. Mattauch-Herzog type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/025—Detectors specially adapted to particle spectrometers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は質量分析装置に関し、特に2次元イオン検出器
を備えて同時検出を行う磁場型質量分析装置に関するも
のである。
を備えて同時検出を行う磁場型質量分析装置に関するも
のである。
[従来技術]
質量分散用磁場を有する磁場型質量分析装置は、単一の
イオン検出器を使用し磁場掃引によって質量スペクトル
を得る掃引型と、空間分解能を有する2次元イオン検出
器を使用し、磁場によって質量に応じて展開された被分
析イオンを別個に同時検出する同時検出型とに大別され
る。
イオン検出器を使用し磁場掃引によって質量スペクトル
を得る掃引型と、空間分解能を有する2次元イオン検出
器を使用し、磁場によって質量に応じて展開された被分
析イオンを別個に同時検出する同時検出型とに大別され
る。
従来、掃引型質量分析装置が開発の主流であったが、イ
オン検出器へ到達しているイオン以外のイオンは捨てら
れる掃引型に比べ、被分析イオンを全て同時に検出する
同時検出型の方が、原理的に感度の面で優れている。こ
れまでは、2次元イオン検出器として、感度の低い写真
乾板程度しか存在しなかったため、同時検出型質量分析
装置は余り普及していなかった。ところが、高度な半導
体製作技術を駆使した最近の2次元イオン検出器の分解
能及び感度面の性能向上により、もともと優れた素質を
持つ同時検出型質量分析装置が注目を集めており、最近
では、色々な質量分析装置に2次元イオン検出器を組み
合わせて同時検出を行うことが試みられている。
オン検出器へ到達しているイオン以外のイオンは捨てら
れる掃引型に比べ、被分析イオンを全て同時に検出する
同時検出型の方が、原理的に感度の面で優れている。こ
れまでは、2次元イオン検出器として、感度の低い写真
乾板程度しか存在しなかったため、同時検出型質量分析
装置は余り普及していなかった。ところが、高度な半導
体製作技術を駆使した最近の2次元イオン検出器の分解
能及び感度面の性能向上により、もともと優れた素質を
持つ同時検出型質量分析装置が注目を集めており、最近
では、色々な質量分析装置に2次元イオン検出器を組み
合わせて同時検出を行うことが試みられている。
[発明が解決しようとする課題]
通常、2次元イオン検出器の検出面は平面である。一方
、同時検出型質量分析装置において、被分析イオンが質
量に応じて展開されるスペクトル展開面は、特殊なイオ
ン光学系(例えばMattauch−Herzog型な
ど)を除き曲面である。第4図は磁場を含む質量分析系
1と2次元イオン検出器2とスペクトル展開面3との関
係を示している。図から分かるように、スペクトル展開
面3と検出器の検出面4が一致している質f1m2のイ
オンの場合には、2次元検出器を構成する1つの検出素
子にシャープにフォーカスされているが、スペクトル展
開面3と検出器の検出面4が一致していない質Qm1.
m3のイオンの場合には、デフォーカスの状態で検出面
に各イオンが入射する。このような場合、検出器2の端
部では分解能が劣化するため、中央の狭い部分のスペク
トルしか測定することが出来ず、測定質量範囲が狭くな
ることは避けられなかフた。
、同時検出型質量分析装置において、被分析イオンが質
量に応じて展開されるスペクトル展開面は、特殊なイオ
ン光学系(例えばMattauch−Herzog型な
ど)を除き曲面である。第4図は磁場を含む質量分析系
1と2次元イオン検出器2とスペクトル展開面3との関
係を示している。図から分かるように、スペクトル展開
面3と検出器の検出面4が一致している質f1m2のイ
オンの場合には、2次元検出器を構成する1つの検出素
子にシャープにフォーカスされているが、スペクトル展
開面3と検出器の検出面4が一致していない質Qm1.
m3のイオンの場合には、デフォーカスの状態で検出面
に各イオンが入射する。このような場合、検出器2の端
部では分解能が劣化するため、中央の狭い部分のスペク
トルしか測定することが出来ず、測定質量範囲が狭くな
ることは避けられなかフた。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、2
次元イオン検出器を用いて同時検出を行う磁場型質量分
析装置の測定質量範囲を広くすることを目的としている
。
次元イオン検出器を用いて同時検出を行う磁場型質量分
析装置の測定質量範囲を広くすることを目的としている
。
[課題を解決するための手段]
この目的を達成するため、本発明の磁場型質量分析装置
は、磁場によって質量に応じて展開収束された被分析イ
オンをその収束展開面に沿って配置された2次元イオン
検出器によって同時検出するようにした磁場型質量分析
装置において、前記磁場と2次元イオン検出器との間の
イオン通路上に8重極以上の多重極基を発生する静電又
は磁界型レンズを配置したことを特徴としている。
は、磁場によって質量に応じて展開収束された被分析イ
オンをその収束展開面に沿って配置された2次元イオン
検出器によって同時検出するようにした磁場型質量分析
装置において、前記磁場と2次元イオン検出器との間の
イオン通路上に8重極以上の多重極基を発生する静電又
は磁界型レンズを配置したことを特徴としている。
[作用コ
今、第5図に示すように、光軸2を中心とする同一円周
上に8本の電極P1〜P8を等間隔で光軸に平行に配置
した8極静電レンズLの内部に形成される8電極場を考
える。
上に8本の電極P1〜P8を等間隔で光軸に平行に配置
した8極静電レンズLの内部に形成される8電極場を考
える。
この8電極場において、光軸に垂直な面(X −y平面
)上の任意な点(x、 y)に於けるポテンシャルV
s (X、y)は、次式で表わされる。
)上の任意な点(x、 y)に於けるポテンシャルV
s (X、y)は、次式で表わされる。
Va (x、y)−g (x’ −0x2y2+y’
)・・・(1) (1)式において、gは電極に印加した電位に比例した
係数である。
)・・・(1) (1)式において、gは電極に印加した電位に比例した
係数である。
質量分析装置ではy−oの軌道平面内を取扱うので、軌
道平面内(y−0)では、 V、(x)−gx’ ・・・(2)と
なる。(2)式で表わされる軌道平面内で、荷電粒子は
8電極場から下式で表わされる力F (x)を受ける。
道平面内(y−0)では、 V、(x)−gx’ ・・・(2)と
なる。(2)式で表わされる軌道平面内で、荷電粒子は
8電極場から下式で表わされる力F (x)を受ける。
F (x)=−e (dVs (x)/dx)=−4
gx’ ・・・(3)ここで、eは粒
子の持つ電荷である。今、X −0を中心とするビーム
に対するレンズ効果を考えると、レンズ効果は、力F
(x)の位置による変化率に比例する。したがって、X
””Xo近傍のレンズ効果は、 dF (X)/dx 1x−xo−12gx02− (
4)で表わされる。(4)式より、レンズ効果の強さは
、中心軸からの距離の2乗に比例することが分かる。第
6図(a)、(b)、(c)は、(4)式に基づくレン
ズ効果の様子をgの強さに応じて表わした図である。g
−0即ちレンズ無しと等価の状態で第6図(b)に示す
様に検出面平面3上に収束していた3本のイオンビーム
I。、11゜I2は、8極静電レンズLにより、g<0
.g>0では第6図(a)、(C)にそれぞれ示すよう
に二次曲線(曲面)4に沿って収束するようになる。
gx’ ・・・(3)ここで、eは粒
子の持つ電荷である。今、X −0を中心とするビーム
に対するレンズ効果を考えると、レンズ効果は、力F
(x)の位置による変化率に比例する。したがって、X
””Xo近傍のレンズ効果は、 dF (X)/dx 1x−xo−12gx02− (
4)で表わされる。(4)式より、レンズ効果の強さは
、中心軸からの距離の2乗に比例することが分かる。第
6図(a)、(b)、(c)は、(4)式に基づくレン
ズ効果の様子をgの強さに応じて表わした図である。g
−0即ちレンズ無しと等価の状態で第6図(b)に示す
様に検出面平面3上に収束していた3本のイオンビーム
I。、11゜I2は、8極静電レンズLにより、g<0
.g>0では第6図(a)、(C)にそれぞれ示すよう
に二次曲線(曲面)4に沿って収束するようになる。
従って、例えば、第7図(a)に示すように8極静電レ
ンズLが無い状態で第6図(c)と同様な二次曲線4に
沿って収束するようになっていた場合、第7図(b)に
示すように8極静電レンズLを配置し、第4図(a)の
ような作用を示すようにレンズをg<Qに付勢すれば、
3本のイオンビームは平面である検出面3上に収束する
ように補正される。
ンズLが無い状態で第6図(c)と同様な二次曲線4に
沿って収束するようになっていた場合、第7図(b)に
示すように8極静電レンズLを配置し、第4図(a)の
ような作用を示すようにレンズをg<Qに付勢すれば、
3本のイオンビームは平面である検出面3上に収束する
ように補正される。
同様に、10極静電レンズ及び12極静電レンズの場合
は、光軸に垂直な面(x−y平面)上の任意な点(x、
y)に於けるポテンシャルV1゜(x、y)+ VI2
(X、y)は、次式で表わされる。
は、光軸に垂直な面(x−y平面)上の任意な点(x、
y)に於けるポテンシャルV1゜(x、y)+ VI2
(X、y)は、次式で表わされる。
V+o(X、V)
−g (x5−10x3y2+ 5xy’ )−(1°
)V12(X、 y) −g (x6−15x’ y2+15x2y’ −y’
)・・・(1”) 従って、軌道平面内(y−0)では、 V+o (x)−gx5 ・・−
(2’)V12 (X)−gx6
、、、(2”)となる。(2’)、 (2”)式で
表わされる軌道平面内で、荷電粒子は10.12重電極
から下式で表わされる力F+o (X)+ F12
(X)を受ける。
)V12(X、 y) −g (x6−15x’ y2+15x2y’ −y’
)・・・(1”) 従って、軌道平面内(y−0)では、 V+o (x)−gx5 ・・−
(2’)V12 (X)−gx6
、、、(2”)となる。(2’)、 (2”)式で
表わされる軌道平面内で、荷電粒子は10.12重電極
から下式で表わされる力F+o (X)+ F12
(X)を受ける。
F+o (x)= e (dV+o (x)/dx)
=−5gx’ ・・・(3°)F、□
(x)=−e (dV1□(x)/dx)=−8gx5
・・・(3”)従って、X=X、近傍
のレンズ効果は、dF+o (X)/dx 1x−xo
−20gxo 3− (4’)dF+z (x)/dx
lx−xo−−30gx。’・・・(4”)で表わさ
れる。
=−5gx’ ・・・(3°)F、□
(x)=−e (dV1□(x)/dx)=−8gx5
・・・(3”)従って、X=X、近傍
のレンズ効果は、dF+o (X)/dx 1x−xo
−20gxo 3− (4’)dF+z (x)/dx
lx−xo−−30gx。’・・・(4”)で表わさ
れる。
(4゛)式より、10極静電レンズに於けるレンズ効果
の強さは、中心軸からの距離の3乗に比例することが分
かる。従って、10極静電レンズを用いた場合、スペク
トル展開面の歪みが3次関数である場合についてその歪
みを補正することができる。
の強さは、中心軸からの距離の3乗に比例することが分
かる。従って、10極静電レンズを用いた場合、スペク
トル展開面の歪みが3次関数である場合についてその歪
みを補正することができる。
一方(4”)式より、12極静電レンズに於けるレンズ
効果の強さは中心軸からの距離の4乗に比例することが
分り、12極静電レンズを用いた場合、スペクトル展開
面の歪みが4次関数である場合についてその歪みを補正
することができる。
効果の強さは中心軸からの距離の4乗に比例することが
分り、12極静電レンズを用いた場合、スペクトル展開
面の歪みが4次関数である場合についてその歪みを補正
することができる。
尚、上記は静電型レンズについての検討であるが、磁界
型レンズによって発生される多重極基についても全く同
様で、同様の補正を磁界型多重極レンズで行うことがで
きる。
型レンズによって発生される多重極基についても全く同
様で、同様の補正を磁界型多重極レンズで行うことがで
きる。
[実施例]
第1図はこのような基本思想に基づく本発明の一実施例
の構成を示す。第1図において、イオン源11から発生
した被分析イオンIは、例えば特公昭57−31261
号公報に開示されているような円筒電場12,4極静電
レンズ13.扇形磁場14を組み合わせた二重収束質量
分析系15へ導入され、質量に応じてスペクトルとして
展開される。2次元イオン検出器16はそのスペクトル
展開面に沿うように配置される。扇形磁場14と2次元
イオン検出器16との間のイオン通路上には、8電極場
を発生する8極静電レンズ17が配置される。18はレ
ンズ電源である。
の構成を示す。第1図において、イオン源11から発生
した被分析イオンIは、例えば特公昭57−31261
号公報に開示されているような円筒電場12,4極静電
レンズ13.扇形磁場14を組み合わせた二重収束質量
分析系15へ導入され、質量に応じてスペクトルとして
展開される。2次元イオン検出器16はそのスペクトル
展開面に沿うように配置される。扇形磁場14と2次元
イオン検出器16との間のイオン通路上には、8電極場
を発生する8極静電レンズ17が配置される。18はレ
ンズ電源である。
第2図はイオン通路に直交する方向の8極静電レンズ1
7の断面図である。レンズは、第4図と同様に同一円周
上に等間隔に配置される8本の電極P1〜P8から構成
され、各電極には電源18から+V、 −Vの電圧が交
互に印加される。電源18は、出力電圧の極性を切換ス
イッチ19により反転させることができると共に、その
絶対値も変化させることができる。
7の断面図である。レンズは、第4図と同様に同一円周
上に等間隔に配置される8本の電極P1〜P8から構成
され、各電極には電源18から+V、 −Vの電圧が交
互に印加される。電源18は、出力電圧の極性を切換ス
イッチ19により反転させることができると共に、その
絶対値も変化させることができる。
上記構成において、レンズ17無し−7:はN7図(a
)と同様なスペクトル展開面の歪みが発生している場合
でも、電源18を調節することにより8極静電レンズ1
7が発生する8電極場のgの値を適宜設定することによ
り、第7図(b)に示すようにスペクトル展開面の歪み
が打ち消され、2次元イオン検出器の検出面にスペクト
ル展開面を一致させることができる。そのため、検出器
の端部であっても正確にフォーカスされたイオンビーム
が到達することになり、検出できるスペクトルの質量範
囲が大幅に拡大される。
)と同様なスペクトル展開面の歪みが発生している場合
でも、電源18を調節することにより8極静電レンズ1
7が発生する8電極場のgの値を適宜設定することによ
り、第7図(b)に示すようにスペクトル展開面の歪み
が打ち消され、2次元イオン検出器の検出面にスペクト
ル展開面を一致させることができる。そのため、検出器
の端部であっても正確にフォーカスされたイオンビーム
が到達することになり、検出できるスペクトルの質量範
囲が大幅に拡大される。
もし、スペクトル展開面の歪みが第7図(a)において
破線で示すように逆の極性である場合には、レンズ17
の極性も逆にして適切な強度に設定することにより、全
く同様に2次元イオン検出器の検出面にスペクトル展開
面を一致させることができる。
破線で示すように逆の極性である場合には、レンズ17
の極性も逆にして適切な強度に設定することにより、全
く同様に2次元イオン検出器の検出面にスペクトル展開
面を一致させることができる。
第3図は本発明の他の実施例を示し、本実施例では磁場
14と2次元イオン検出器16の間に2つの4極子レン
ズ20.21が挿入されると共に、2次元イオン検出器
16が回転可能に構成される。
14と2次元イオン検出器16の間に2つの4極子レン
ズ20.21が挿入されると共に、2次元イオン検出器
16が回転可能に構成される。
この方式の質量分析装置は特願昭63−176092号
として出願されており、4極子レンズによりイオン光学
系の質量分散を変化させ、2次元イオン検出器の検出面
に展開されるイオンの質量範囲を変化させることができ
、いわば質量範囲のズーミングが可能である。
として出願されており、4極子レンズによりイオン光学
系の質量分散を変化させ、2次元イオン検出器の検出面
に展開されるイオンの質量範囲を変化させることができ
、いわば質量範囲のズーミングが可能である。
第3図において、4極子レンズによりイオン光学系の質
量分散を変化させると、同じ質量mAからmBの範囲の
イオンが実線から破線まで縮まるため、破線の場合には
2次元イオン検出器16の検出面に展開されるイオンの
質量範囲が広がることになる。この時、スペクトル展開
面の傾きが同時に変化するため、検出器16も展開面の
傾きに合わせて回転させるようにしている。
量分散を変化させると、同じ質量mAからmBの範囲の
イオンが実線から破線まで縮まるため、破線の場合には
2次元イオン検出器16の検出面に展開されるイオンの
質量範囲が広がることになる。この時、スペクトル展開
面の傾きが同時に変化するため、検出器16も展開面の
傾きに合わせて回転させるようにしている。
ところで、この様に4極子レンズの強度を変化させて検
出器16の検出面に展開されるイオンの質量範囲を変化
させると、それに応じてスペクトル展開面の傾きが変化
するばかりでなく、展開面の歪みの曲率も変化する。そ
のため、傾きについては検出器16を回転させて対処す
ると共に、曲率の変化については、電源18を調節する
ことにより8極静電レンズ17が発生する8電極場のg
の値を適宜設定して補正すれば、質量範囲を変化させて
も常に2次元イオン検出器16の検出面にスペクトル展
開面を一致させることができる。
出器16の検出面に展開されるイオンの質量範囲を変化
させると、それに応じてスペクトル展開面の傾きが変化
するばかりでなく、展開面の歪みの曲率も変化する。そ
のため、傾きについては検出器16を回転させて対処す
ると共に、曲率の変化については、電源18を調節する
ことにより8極静電レンズ17が発生する8電極場のg
の値を適宜設定して補正すれば、質量範囲を変化させて
も常に2次元イオン検出器16の検出面にスペクトル展
開面を一致させることができる。
この様なgの値の設定は、オペレータが手動で適宜行っ
ても良いが、予め4極子レンズの強度(あるいは質量分
散の値)に応じた最適なg値(あるいは電源18の出力
電圧)を関数あるいはテーブルとして求めておき、この
関数あるいはテーブルに基づいて電源18を操作して最
適なg値を設定するようにしても良い。さらには、その
関数あるいはテーブルをメモリに記憶させ、4極子レン
ズ強度に基づいてメモリから最適なg値(あるいは電源
18の出力電圧)を読み出して電源18を制御し最適な
g値に設定する連動制御回路を設けるようにすれば、操
作が容易になり、オペレータの負担が軽減される。
ても良いが、予め4極子レンズの強度(あるいは質量分
散の値)に応じた最適なg値(あるいは電源18の出力
電圧)を関数あるいはテーブルとして求めておき、この
関数あるいはテーブルに基づいて電源18を操作して最
適なg値を設定するようにしても良い。さらには、その
関数あるいはテーブルをメモリに記憶させ、4極子レン
ズ強度に基づいてメモリから最適なg値(あるいは電源
18の出力電圧)を読み出して電源18を制御し最適な
g値に設定する連動制御回路を設けるようにすれば、操
作が容易になり、オペレータの負担が軽減される。
尚、上記実施例では8極静電レンズを用いたが、10極
あるいは12極の静電レンズを用いれば、同様に3次あ
るいは4次の補正を行うことができるし、8極、10極
、12極の磁界型レンズを用いても全く同様に2次、3
次、4次の補正を行うことができる。この多重極場を発
生するレンズは、被分析イオンが磁場による質量分散を
受けた後即ち磁場の後方に配置する必要がある。
あるいは12極の静電レンズを用いれば、同様に3次あ
るいは4次の補正を行うことができるし、8極、10極
、12極の磁界型レンズを用いても全く同様に2次、3
次、4次の補正を行うことができる。この多重極場を発
生するレンズは、被分析イオンが磁場による質量分散を
受けた後即ち磁場の後方に配置する必要がある。
又、第1図において破線で示すように、多重極場を発生
するレンズをその軸がイオンビーム通路と成す角度を変
化させることができるように設ければ、更に高次の補正
を行うことができる。
するレンズをその軸がイオンビーム通路と成す角度を変
化させることができるように設ければ、更に高次の補正
を行うことができる。
更に、上記実施例では2次元イオン検出器の検出面が平
面で、その平面にスペクトル展開面を一致させる様に補
正したが、検出面が曲面で、その曲面にスペクトル展開
面を一致させる様に補正する場合にも同様に適用するこ
とができる。
面で、その平面にスペクトル展開面を一致させる様に補
正したが、検出面が曲面で、その曲面にスペクトル展開
面を一致させる様に補正する場合にも同様に適用するこ
とができる。
更に、本発明は単収束あるいは二重収束の別を問わず磁
場を有する同時検出型質量分析装置全てに適用すること
ができ、二重収束型においても、電場が先行する正配置
型、磁場が先行する逆配置型のいずれでも適用できる。
場を有する同時検出型質量分析装置全てに適用すること
ができ、二重収束型においても、電場が先行する正配置
型、磁場が先行する逆配置型のいずれでも適用できる。
その場合、先に述べたように多重極レンズは磁場の後方
に配置する必要があることは言うまでもない。
に配置する必要があることは言うまでもない。
[効果]
以上詳述した如く、本発明によれば、磁場によって質量
に応じて展開された被分析イオンをその展開面に沿って
配置された2次元イオン検出器によって同時検出するよ
うにした磁場型質量分析装置において、前記磁場と2次
元イオン検出器との間のイオン通路上に8重極以上の多
重極場を発生する静電又は磁界型レンズを配置したため
、スベクトル展開面を2次元イオン検出器の検出面に一
致するような補正が可能になり、従って、同時検出型質
量分析装置の測定質量範囲を従来よりも拡大させること
が可能となる。
に応じて展開された被分析イオンをその展開面に沿って
配置された2次元イオン検出器によって同時検出するよ
うにした磁場型質量分析装置において、前記磁場と2次
元イオン検出器との間のイオン通路上に8重極以上の多
重極場を発生する静電又は磁界型レンズを配置したため
、スベクトル展開面を2次元イオン検出器の検出面に一
致するような補正が可能になり、従って、同時検出型質
量分析装置の測定質量範囲を従来よりも拡大させること
が可能となる。
第1図及び第3図はそれぞれ本発明の一実施例を示す概
略図、第2図は8極静電レンズの断面図、第4図は磁場
を含む質量分析系と2次元イオン検出器とスペクトル展
開収束面との関係を示す図、第5図は8極静電レンズの
内部に形成される8電極場とx−y−z座標系を示す図
、第6図は(4)式に基づくレンズ効果の様子をgの強
さに応じて表わした図、第7図は8極静電レンズによる
補正の様子を示す図である。 11:イオン源 15:二重収束質量分析系16:2
次元イオン検出器
略図、第2図は8極静電レンズの断面図、第4図は磁場
を含む質量分析系と2次元イオン検出器とスペクトル展
開収束面との関係を示す図、第5図は8極静電レンズの
内部に形成される8電極場とx−y−z座標系を示す図
、第6図は(4)式に基づくレンズ効果の様子をgの強
さに応じて表わした図、第7図は8極静電レンズによる
補正の様子を示す図である。 11:イオン源 15:二重収束質量分析系16:2
次元イオン検出器
Claims (3)
- (1)磁場によって質量に応じて展開収束された被分析
イオンをその収束展開面に沿って配置された2次元イオ
ン検出器によって同時検出するようにした磁場型質量分
析装置において、前記磁場と2次元イオン検出器との間
のイオン通路上に8重極以上の多重極場を発生する静電
又は磁界型レンズを配置したことを特徴とする同時検出
型質量分析装置。 - (2)磁場によって質量に応じて展開収束された被分析
イオンをその収束展開面に沿って配置された2次元イオ
ン検出器によって同時検出するようにした磁場型質量分
析装置において、質量分散を変化させる手段を設けると
共に、前記磁場と2次元イオン検出器との間のイオン通
路上に8重極以上の多重極場を発生する静電又は磁界型
レンズを配置したことを特徴とする同時検出型質量分析
装置。 - (3)前記8重極以上の多重極場を発生する静電又は磁
界型レンズの強さを前記質量分散変化手段によって設定
された質量分散に応じて変化させる手段を設けたことを
特徴とする請求項2記載の同時検出型質量分析装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125959A JPH02304854A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 同時検出型質量分析装置 |
| GB9010758A GB2232813B (en) | 1989-05-19 | 1990-05-14 | Simultaneous detection type mass spectrometer |
| DE4016138A DE4016138A1 (de) | 1989-05-19 | 1990-05-18 | Gleichzeitig erfassendes massenspektrometer |
| US07/708,073 US5118939A (en) | 1989-05-19 | 1991-05-23 | Simultaneous detection type mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125959A JPH02304854A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 同時検出型質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02304854A true JPH02304854A (ja) | 1990-12-18 |
Family
ID=14923207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125959A Pending JPH02304854A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 同時検出型質量分析装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
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| GB2232813B (en) | 1993-09-29 |
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