JPH02304991A - 高電圧パルス発生回路 - Google Patents
高電圧パルス発生回路Info
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- JPH02304991A JPH02304991A JP1126190A JP12619089A JPH02304991A JP H02304991 A JPH02304991 A JP H02304991A JP 1126190 A JP1126190 A JP 1126190A JP 12619089 A JP12619089 A JP 12619089A JP H02304991 A JPH02304991 A JP H02304991A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、銅蒸気レーザ、エキシマレーザ等の高繰り返
し動作放電励起レーザ等に用いられる高電圧パルス発生
回路に関するものである。
し動作放電励起レーザ等に用いられる高電圧パルス発生
回路に関するものである。
[従来の技術]
銅蒸気レーザあるいはエキシマレーザ等の放電励起レー
ザにおいては、高繰り返し化による平均出力の増大が強
く要求されている。例えば、原子力発電所で使用される
ウラン235の同位体分離方法の1つである原子法レー
ザウラン濃縮用レーザとして用いられている銅蒸気レー
ザにおいては、4〜l OkHzの高繰り返しで平均出
力100W程度以上が要求されている。この場合、同レ
ーザを発振させるための高電圧パルス発生回路として第
10図に示すようなインバータlによるコマンド充電方
式が用いられる場合もある。同図において1はインバー
タ、2,3はインバータ1の出力端、4は変圧器、5は
変圧器4の1次巻線、6は変圧器4の2次巻線、8はダ
イオード、9はサイラトロン、10は主コンデンサ、1
1はピーキングコンデンサ、12はレーザ主放電電極、
13は充電用インダクタンスあるいは抵抗である。また
。
ザにおいては、高繰り返し化による平均出力の増大が強
く要求されている。例えば、原子力発電所で使用される
ウラン235の同位体分離方法の1つである原子法レー
ザウラン濃縮用レーザとして用いられている銅蒸気レー
ザにおいては、4〜l OkHzの高繰り返しで平均出
力100W程度以上が要求されている。この場合、同レ
ーザを発振させるための高電圧パルス発生回路として第
10図に示すようなインバータlによるコマンド充電方
式が用いられる場合もある。同図において1はインバー
タ、2,3はインバータ1の出力端、4は変圧器、5は
変圧器4の1次巻線、6は変圧器4の2次巻線、8はダ
イオード、9はサイラトロン、10は主コンデンサ、1
1はピーキングコンデンサ、12はレーザ主放電電極、
13は充電用インダクタンスあるいは抵抗である。また
。
同図におけるインバータ1の回路構成例を第13図に示
す。ここで22は直流電源、23はコンデンサ27の充
電抵抗、24はサイリスタ、25はダイオード、26は
抵抗、27はコンデンサである。第11図は第10図の
高電圧パルス発生回路におけるダイオード8をながれる
電流ilと主コンデンサ10の充電電圧V、の波形を示
したものである。同図においてI、mはダイオード8を
流れる電流11の波高値、V、mは主コンデンサ10の
電圧V、の波高値、V、’ mはサイラトロン9がター
ンオンする直前における主コンデンサ10の電圧V、の
値、tlは前記電流i、が流れ始めてから主コンデンサ
10の電流V、が波高値に達するまでの期間、t8は同
様にしてサイラトロン9がターンオンするまでの期間、
t3は繰り返し周期である。ここでも、からし、までの
期間はサイラトロン9がターンオフするのに十分な期間
に選定されている。
す。ここで22は直流電源、23はコンデンサ27の充
電抵抗、24はサイリスタ、25はダイオード、26は
抵抗、27はコンデンサである。第11図は第10図の
高電圧パルス発生回路におけるダイオード8をながれる
電流ilと主コンデンサ10の充電電圧V、の波形を示
したものである。同図においてI、mはダイオード8を
流れる電流11の波高値、V、mは主コンデンサ10の
電圧V、の波高値、V、’ mはサイラトロン9がター
ンオンする直前における主コンデンサ10の電圧V、の
値、tlは前記電流i、が流れ始めてから主コンデンサ
10の電流V、が波高値に達するまでの期間、t8は同
様にしてサイラトロン9がターンオンするまでの期間、
t3は繰り返し周期である。ここでも、からし、までの
期間はサイラトロン9がターンオフするのに十分な期間
に選定されている。
このようにサイラトロン9がターンオフするのに十分な
期間を与えることにより、サイラトロンの暴走を生じる
のを防ぎながら高繰り返し動作を行うことができる。
期間を与えることにより、サイラトロンの暴走を生じる
のを防ぎながら高繰り返し動作を行うことができる。
なお、レーザウラン濃縮については例えば、井澤端和:
゛レーザ同位体分離”、レーザ研究、第15巻第6号p
p、 101〜106、昭和62年6月、またインバー
タによるコマンド充電方式を用いた励起回路については
、山中龍彦、山中千博、藤原閲夫、山中千代衛: “銅
蒸気レーザのバッファガス効果”、電気学会研究会資料
、光・量子デバイス研究会、0QD−87−3、昭和6
2年参照。
゛レーザ同位体分離”、レーザ研究、第15巻第6号p
p、 101〜106、昭和62年6月、またインバー
タによるコマンド充電方式を用いた励起回路については
、山中龍彦、山中千博、藤原閲夫、山中千代衛: “銅
蒸気レーザのバッファガス効果”、電気学会研究会資料
、光・量子デバイス研究会、0QD−87−3、昭和6
2年参照。
[発明が解決しようとする問題点]
上記従来技術によるインバータ1を用いた高電圧パルス
発生回路においては、ダイオード8の内部容量により、
ダイオード8を流れる電流i、には第11図WLM内に
示すようなリバース・リカバリ電流と呼ばれる逆方向電
流が生じる。第12図は第11図におけるi、の破線内
の拡大図である。
発生回路においては、ダイオード8の内部容量により、
ダイオード8を流れる電流i、には第11図WLM内に
示すようなリバース・リカバリ電流と呼ばれる逆方向電
流が生じる。第12図は第11図におけるi、の破線内
の拡大図である。
同図において、I、rはリバース・リカバリ電流波高値
である。このリバース・リカバリ電流により主コンデン
サ10の電圧v1はi、が零となる時間t、における波
高値V、mより時間とともに低下し、サイラトロン9が
ターンオンするも、の直前にはV、’mとなってしまう
。
である。このリバース・リカバリ電流により主コンデン
サ10の電圧v1はi、が零となる時間t、における波
高値V、mより時間とともに低下し、サイラトロン9が
ターンオンするも、の直前にはV、’mとなってしまう
。
このためインバータ1より主コンデンサ10へのエネル
ギ転送効率(インバータ1の出力エネルギとサイラトロ
ン9がターンオンする直前の主コンデンサ1oの入力エ
ネルギの比)が低下するという問題があった。
ギ転送効率(インバータ1の出力エネルギとサイラトロ
ン9がターンオンする直前の主コンデンサ1oの入力エ
ネルギの比)が低下するという問題があった。
また、前記リバース・リカバリ電流により、ダイオ−、
ド8にはリバース・リカバリ損失が発生し、同ダイオー
ドの接合温度が上昇するとともに極端な場合には破壊に
至る問題もある。
ド8にはリバース・リカバリ損失が発生し、同ダイオー
ドの接合温度が上昇するとともに極端な場合には破壊に
至る問題もある。
前記リバース・リカバリ電流は温度とともに増加する特
性をもつため前記リバース・リカバリ損失により生ずる
温度上昇により、リバース・リカバリ電流はさらに増加
し、サイラトロン9がターンオンする直前の主コンデン
サ10の電圧V、1mは時間の経過とともに低下する。
性をもつため前記リバース・リカバリ損失により生ずる
温度上昇により、リバース・リカバリ電流はさらに増加
し、サイラトロン9がターンオンする直前の主コンデン
サ10の電圧V、1mは時間の経過とともに低下する。
このため本高電圧パルス発生回路の出力、本例ではレー
ザ主放電電極に入力されるエネルギが時間の経過ととも
に変化する問題もある。このため本例のように放電励起
レーザに用いる場合にはレーザ出力の変動の原因となり
、レーザのライフ・タイム(一般にレーザ出力が半分に
なるまでの時間)も大幅に低下してしまう。
ザ主放電電極に入力されるエネルギが時間の経過ととも
に変化する問題もある。このため本例のように放電励起
レーザに用いる場合にはレーザ出力の変動の原因となり
、レーザのライフ・タイム(一般にレーザ出力が半分に
なるまでの時間)も大幅に低下してしまう。
特に前記銅蒸気レーザ、あるいはエキシマレーザ等の放
電励起レーザにおいて前記ダイオードの逆耐圧としては
少なくとも40kV程度以上必要となるとともに、大出
力、かつ高繰り返し動作を実現するために整流電流定格
大でリバース・リカバリ特性も良好なことが要求される
。これらの条件を単一のダイオードで実現することは困
難であり、第14図に示すように複数のダイオードを直
並列に接続することが一般に用いられている。この場合
、各ダイオードの特性バラツキによる逆方向電圧の分担
がアンバランスになることを防止するために同図に示す
ようにコンデンサを外部に付加することが行われる。こ
の結果、ダイオードの接合容量に前記コンデンサの容量
が加わるためリーバース・リカバリ特性は大きく劣化し
てしまい、前記リバース・リカバリ電流に起因する問題
は、増々問題となることが知られている。
電励起レーザにおいて前記ダイオードの逆耐圧としては
少なくとも40kV程度以上必要となるとともに、大出
力、かつ高繰り返し動作を実現するために整流電流定格
大でリバース・リカバリ特性も良好なことが要求される
。これらの条件を単一のダイオードで実現することは困
難であり、第14図に示すように複数のダイオードを直
並列に接続することが一般に用いられている。この場合
、各ダイオードの特性バラツキによる逆方向電圧の分担
がアンバランスになることを防止するために同図に示す
ようにコンデンサを外部に付加することが行われる。こ
の結果、ダイオードの接合容量に前記コンデンサの容量
が加わるためリーバース・リカバリ特性は大きく劣化し
てしまい、前記リバース・リカバリ電流に起因する問題
は、増々問題となることが知られている。
本発明の目的は、前記ダイオードのリバース・リカバリ
電流に起因する主コンデンサの充電電圧の減少、リバー
ス・リカバリ損失、及びリバース・リカバリ損失により
生ずる同ダイオードの破壊あるいは本高電圧パルス発生
回路の出力変動の問題を対策した高電圧パルス発生回路
を提供することである。
電流に起因する主コンデンサの充電電圧の減少、リバー
ス・リカバリ損失、及びリバース・リカバリ損失により
生ずる同ダイオードの破壊あるいは本高電圧パルス発生
回路の出力変動の問題を対策した高電圧パルス発生回路
を提供することである。
[問題を解決するための手段]
本発明は変圧器の1次側に接続されたインバータを用い
て同変圧器の2次巻線と直列に接続されたダイオードを
介してコンデンサを充電するとともに、スイッチ素子を
用いて同コンデンサの電荷を放電させることにより高電
圧パルスを発生させる高電圧パルス発生回路において、
前記2次巻線と直列に接続されたダイオードと直列に非
晶質磁心を用いて構成した可飽和リアクトルを挿入する
ことを特徴とする高電圧パルス発生回路である。
て同変圧器の2次巻線と直列に接続されたダイオードを
介してコンデンサを充電するとともに、スイッチ素子を
用いて同コンデンサの電荷を放電させることにより高電
圧パルスを発生させる高電圧パルス発生回路において、
前記2次巻線と直列に接続されたダイオードと直列に非
晶質磁心を用いて構成した可飽和リアクトルを挿入する
ことを特徴とする高電圧パルス発生回路である。
前記変圧器の2次巻線と直列に接続されたダイオードと
直列に非晶質磁心を用いて構成した可飽和リアクトルを
挿入することにより、前記ダイオードのリバース・リカ
バリ電流の波高値I、rを低減することにより、前記ダ
イオードのリバース・リカバリ損失を低減するとともに
主コンデンサの充電電圧の低下を抑制することができる
。また前記ダイオードのリバース・リカバリ損失による
同ダイオードの接合温度の上昇に伴い生ずる高電圧パル
ス発生回路出ノJ変動を抑制することもできる。
直列に非晶質磁心を用いて構成した可飽和リアクトルを
挿入することにより、前記ダイオードのリバース・リカ
バリ電流の波高値I、rを低減することにより、前記ダ
イオードのリバース・リカバリ損失を低減するとともに
主コンデンサの充電電圧の低下を抑制することができる
。また前記ダイオードのリバース・リカバリ損失による
同ダイオードの接合温度の上昇に伴い生ずる高電圧パル
ス発生回路出ノJ変動を抑制することもできる。
前記ダイオードと直列に接続される可飽和リアクトルに
非晶質磁心を用いることにより、従来用いられていたフ
ェライト磁心、あるいはパーマロイ磁心に比べて磁心損
失が小、リバース・リカバリ電流波高値の抑制が可能で
あり、同磁心も小形化することができ好ましい。
非晶質磁心を用いることにより、従来用いられていたフ
ェライト磁心、あるいはパーマロイ磁心に比べて磁心損
失が小、リバース・リカバリ電流波高値の抑制が可能で
あり、同磁心も小形化することができ好ましい。
また、前記非晶質磁心として非晶質磁性薄帯を用いて層
間をポリイミド・フィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト・フィルム等の高分子フィルムあるいは、MgO1S
in、等のセラミック粒子等により絶縁して構成した巻
磁心、もしくは積層磁心を用いることにより、うず電流
損失の増加を抑制することが好ましい。
間をポリイミド・フィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト・フィルム等の高分子フィルムあるいは、MgO1S
in、等のセラミック粒子等により絶縁して構成した巻
磁心、もしくは積層磁心を用いることにより、うず電流
損失の増加を抑制することが好ましい。
前記非晶質磁心として、非晶質磁性材料の組成は、
(Go、0M。) II@−aXl
ここでMはFe、Mn%Ni、Cr、Nd、Mo、■、
Ta、Wよりなる群より選ばれた一種以上の元素、Xは
B、又はBおよびSLであり、0くα≦0.24、及び
12≦β≦26を構たすように規定することにより、角
形が良好で、がっ磁心損失も小さな磁心を得ることがで
き、前記リバース・リカバリ電流波高値を抑制する意味
から好ましい。
Ta、Wよりなる群より選ばれた一種以上の元素、Xは
B、又はBおよびSLであり、0くα≦0.24、及び
12≦β≦26を構たすように規定することにより、角
形が良好で、がっ磁心損失も小さな磁心を得ることがで
き、前記リバース・リカバリ電流波高値を抑制する意味
から好ましい。
また同組成範囲に選定することにより、磁歪を10−l
オーダー、もしくはそれ以下とすることができるため、
同可飽和リアクトルにパルス電流が流れる際に磁心に加
わる応力による磁気特性の劣化も低減することができ好
ましい。
オーダー、もしくはそれ以下とすることができるため、
同可飽和リアクトルにパルス電流が流れる際に磁心に加
わる応力による磁気特性の劣化も低減することができ好
ましい。
前記可飽和リアクトルに主コンデンサを充電するための
主巻線の他に、同可飽和リアクトルが主コンデンサの充
電電流により磁化される向きと同一方向に磁化し得るよ
うに第2の巻線を設け、同巻線に前記磁化力を加えるこ
とにより、前記主巻線を流れるリバース・リカバリ電流
に伴い同可飽和リアクトルがリセットされるために生ず
る前記主コンデンサ充電電流の遅れを減少させることが
できる。
主巻線の他に、同可飽和リアクトルが主コンデンサの充
電電流により磁化される向きと同一方向に磁化し得るよ
うに第2の巻線を設け、同巻線に前記磁化力を加えるこ
とにより、前記主巻線を流れるリバース・リカバリ電流
に伴い同可飽和リアクトルがリセットされるために生ず
る前記主コンデンサ充電電流の遅れを減少させることが
できる。
さらに前記可飽和リアクトルの第2の巻線に常時直流電
流を流すことにより、前記主巻線を流れるリバース・リ
カバリ電流に伴い同可飽和リアクトルがリセットされる
ために生ずる前記主コンデンサ充電電流のデッド・バン
ドを減少させることができる。
流を流すことにより、前記主巻線を流れるリバース・リ
カバリ電流に伴い同可飽和リアクトルがリセットされる
ために生ずる前記主コンデンサ充電電流のデッド・バン
ドを減少させることができる。
本高電圧パルス発生回路の負荷を銅蒸気レーザ、エキシ
マ・レーザ、TEA (工ransversely E
xci tedΔtmospheric Pressu
re) −Go、レーザ、TEMA (工ransve
rsely Excited Multi−Δtmos
pheric Pressure) −GO,レーザ等
の放電励起レーザとした場合、信頼性を損なうことなく
高繰り返し動作が可能となるとともに、高効率化を図る
ことができる。また、高電圧パルス出力変動も小とする
ことができるため、レーザの出力変動を防止することも
容易となる。
マ・レーザ、TEA (工ransversely E
xci tedΔtmospheric Pressu
re) −Go、レーザ、TEMA (工ransve
rsely Excited Multi−Δtmos
pheric Pressure) −GO,レーザ等
の放電励起レーザとした場合、信頼性を損なうことなく
高繰り返し動作が可能となるとともに、高効率化を図る
ことができる。また、高電圧パルス出力変動も小とする
ことができるため、レーザの出力変動を防止することも
容易となる。
以下図面を用いて本発明を説明する。
〔実施例]
(実施例1)
第1図は本発明をインバータ1を用いたコマンド充電方
式によるサイラトロン9を用いた容量移行型銅蒸気レー
ザに用いた場合の回路構成を示すものである。同図にお
いて、1はインバータ、2゜3はインバータ1の出力端
、4は昇圧変圧器、5は変圧器4の1次巻線、6は変圧
器4の2次巻線、7は非晶質磁心を用いた可飽和リアク
トル、8はダイオード、9はサイラトロン、10は主コ
ンデンサ、11はピーキングコンデンサ、12はレーザ
主放電電極、13は主コンデンサ10の充電用インダク
タンスである。第2図は、前記第1図の回路における可
飽和リアクトル7、及びダイオード8を流れる電流i、
と主コンデンサ電圧V、の各波形、第3@は、前記第2
図に示した電流11波形の拡大図、第4図は可飽和リア
クトル7の動作磁化曲線である。
式によるサイラトロン9を用いた容量移行型銅蒸気レー
ザに用いた場合の回路構成を示すものである。同図にお
いて、1はインバータ、2゜3はインバータ1の出力端
、4は昇圧変圧器、5は変圧器4の1次巻線、6は変圧
器4の2次巻線、7は非晶質磁心を用いた可飽和リアク
トル、8はダイオード、9はサイラトロン、10は主コ
ンデンサ、11はピーキングコンデンサ、12はレーザ
主放電電極、13は主コンデンサ10の充電用インダク
タンスである。第2図は、前記第1図の回路における可
飽和リアクトル7、及びダイオード8を流れる電流i、
と主コンデンサ電圧V、の各波形、第3@は、前記第2
図に示した電流11波形の拡大図、第4図は可飽和リア
クトル7の動作磁化曲線である。
以下、本回路の動作を前記第1図、第2図、及び第4図
を用いて説明する。
を用いて説明する。
インバータlにおけるサイリスタ24(第13図参照)
がターンオンする直前、即ち1=0のときに可飽和リア
クトル7の磁束密度はa点にある。
がターンオンする直前、即ち1=0のときに可飽和リア
クトル7の磁束密度はa点にある。
前記サイリスタ24がターンオンすると、変圧器4の2
次巻線6には図示黒丸と逆極性の電圧が誘起し、可飽和
リアクトル7に同電圧が印加される。
次巻線6には図示黒丸と逆極性の電圧が誘起し、可飽和
リアクトル7に同電圧が印加される。
このため可飽和リアクトル7の磁束密度はa点から図示
のように変化し、b点で飽和した後、ダイオード8を流
れる電流i、の波高値11mにより次式で定まるゲート
磁化力の波高値H,mに対応する磁束密度Bs0点Cを
経由してt=t、+tdの時間にてd点までΔB′だけ
変化する。
のように変化し、b点で飽和した後、ダイオード8を流
れる電流i、の波高値11mにより次式で定まるゲート
磁化力の波高値H,mに対応する磁束密度Bs0点Cを
経由してt=t、+tdの時間にてd点までΔB′だけ
変化する。
N:可飽和リアクトル7の巻数
Qe:可飽和リアクトル7の平均磁路長(m)このとき
、次式で定まるtdの時間、主コンデンサ1oの充電電
流ilを阻止する。
、次式で定まるtdの時間、主コンデンサ1oの充電電
流ilを阻止する。
5−E
Np:変圧器4の1次巻線5の巻線
NS:変圧器4の2次巻MA6の巻線
E :インバータ1の直流電源22の電圧(V)Ae:
可飽和リアクトル7の磁心有効断面積(rrl’) この結果主コンデンサ10の電圧v、が波高値■1mに
達する時間、即ち前記電流i、=Oとなる時間はt、+
tdとなる。
可飽和リアクトル7の磁心有効断面積(rrl’) この結果主コンデンサ10の電圧v、が波高値■1mに
達する時間、即ち前記電流i、=Oとなる時間はt、+
tdとなる。
t、十tdからt、までの期間に、可飽和リアクトル7
はダイオード7のリバース・リカバリ電流によりd点か
らe点までΔBだけリセットされる。
はダイオード7のリバース・リカバリ電流によりd点か
らe点までΔBだけリセットされる。
このとき、前記ダイオード7のリバース・リカバリ電流
波高値I、rは、可飽和リアクトル7を構成する非晶質
磁心の動特性(本特性については、例えば、中高、山内
、松本:パアモルファス可飽和磁心の磁心損失評価(1
)”、電気学会、マグネティックス研究会資料MAG8
8−71参照)から定まる磁化力Hrにより次式の値ま
で抑制される。
波高値I、rは、可飽和リアクトル7を構成する非晶質
磁心の動特性(本特性については、例えば、中高、山内
、松本:パアモルファス可飽和磁心の磁心損失評価(1
)”、電気学会、マグネティックス研究会資料MAG8
8−71参照)から定まる磁化力Hrにより次式の値ま
で抑制される。
このとき前記可飽和リアクトル7を構成する非晶質磁心
の有効断面積Aeは次式を満足するように定める必要が
ある。
の有効断面積Aeは次式を満足するように定める必要が
ある。
△Bmax=B s −(−B r) :動作磁束密度
全最大値(T) t2からt、までの期間に可飽和リアクトル7の磁束密
度はe点からa点まで自己セットされる(自己セットに
ついては、例えば、木脇、恩田:“DC−DCコンバー
タ用高周波磁気増幅器の磁心動作の実験的考案°“、電
気学会、マグネティックス研究会資料MAG−88−2
23参照)。
全最大値(T) t2からt、までの期間に可飽和リアクトル7の磁束密
度はe点からa点まで自己セットされる(自己セットに
ついては、例えば、木脇、恩田:“DC−DCコンバー
タ用高周波磁気増幅器の磁心動作の実験的考案°“、電
気学会、マグネティックス研究会資料MAG−88−2
23参照)。
t、において、以上説明した動作が繰り返される。
以上の動作原理からも明らかなように、可飽和アクトル
アにより、ダイオード8のリバース・リカバリ電流波高
値を減少させることができる。このため、同ダイオード
のリバース・リカバリ損失が減少し、同ダイオードの安
全動作を図ることができるとともに、第2図に示すよう
に同ダイオードのリバース・リカバリ電流により主コン
デンサ1oの充電電圧が波高値V、mから減少するのを
抑制することが可能である。さらに同ダイオードの発熱
により生ずるコンデンサ11に入力されるエネルギ変動
も抑制することができ、同レーザの出力安定性も向上す
る。また、インバータlにおけるサイリスタ24のター
ンオン時の電流の立上りを遅らせることができ、同サイ
リスタのターンオン損失を減少させることもできる。
アにより、ダイオード8のリバース・リカバリ電流波高
値を減少させることができる。このため、同ダイオード
のリバース・リカバリ損失が減少し、同ダイオードの安
全動作を図ることができるとともに、第2図に示すよう
に同ダイオードのリバース・リカバリ電流により主コン
デンサ1oの充電電圧が波高値V、mから減少するのを
抑制することが可能である。さらに同ダイオードの発熱
により生ずるコンデンサ11に入力されるエネルギ変動
も抑制することができ、同レーザの出力安定性も向上す
る。また、インバータlにおけるサイリスタ24のター
ンオン時の電流の立上りを遅らせることができ、同サイ
リスタのターンオン損失を減少させることもできる。
第1図において変圧器4の2次巻線6の端子電圧波高値
を23kV、ダイオード8にはl素子あたり耐電圧1.
5kVのファースト・リカバリダイオードを第14図に
示すように60ケ直列接続かつ3並列接続し、外部には
合成容量179Fのフィルム・コンデンサを付加したも
のを用い、コンデンサ10、及び11の容量を各々12
nF、及び6nFとした。また、第2図におけるし。
を23kV、ダイオード8にはl素子あたり耐電圧1.
5kVのファースト・リカバリダイオードを第14図に
示すように60ケ直列接続かつ3並列接続し、外部には
合成容量179Fのフィルム・コンデンサを付加したも
のを用い、コンデンサ10、及び11の容量を各々12
nF、及び6nFとした。また、第2図におけるし。
60ALs、t、 70μs、t、 200μsに
設定した。
設定した。
可飽和リアクトル7の磁心としては第1表に示すio種
類の非晶質巻磁心を用い、前記動作条件下で前記設計条
件を満足するように巻数を設定したものをシリコン・オ
イルで強制冷却して用いた。
類の非晶質巻磁心を用い、前記動作条件下で前記設計条
件を満足するように巻数を設定したものをシリコン・オ
イルで強制冷却して用いた。
いずれの場合も可飽和リアクトル7を挿入する前に比べ
て、前記リバース・リカバリ電流波高値を減少させるこ
とができたが、その効果はいずれの組成の磁心において
も層間絶縁を行ったもののほうが良好であった。また、
長時間動作時のコンデンサ11に入力されるエネルギ変
動の点がらも層間絶縁を行ったもののほうが良好であっ
た。さらに、動作停止後運転を繰り返し行った場合の磁
心の経時安定性の面では#5〜LIO1特に#6、#8
、及び#1oが優れていた。さらに組成の異なる他の非
晶質巻磁心についても同様の検討をした結果、同非晶質
磁心の組成が (Co+−−Mj Iam−aXz ここでMはFe、Mn、Ni、Cr、Nd、Mo。
て、前記リバース・リカバリ電流波高値を減少させるこ
とができたが、その効果はいずれの組成の磁心において
も層間絶縁を行ったもののほうが良好であった。また、
長時間動作時のコンデンサ11に入力されるエネルギ変
動の点がらも層間絶縁を行ったもののほうが良好であっ
た。さらに、動作停止後運転を繰り返し行った場合の磁
心の経時安定性の面では#5〜LIO1特に#6、#8
、及び#1oが優れていた。さらに組成の異なる他の非
晶質巻磁心についても同様の検討をした結果、同非晶質
磁心の組成が (Co+−−Mj Iam−aXz ここでMはFe、Mn、Ni、Cr、Nd、Mo。
v、Ta、Wよりなる群より選ばれた一種以上の元素、
XはB、又はB及びSiであり、oくα≦0.24、及
び12≦β≦26を溝たすものであるものを用いた場合
には、レーザ出力を連続3時間取り出した後、動作を停
止させ、レーザ管を常温まで冷却させた後、再稼働させ
る試験を5回行った場合の、コンデンサ11に入力され
るエネルギ変動は最初の動作時の3%以下とすることが
でき好適な結果を得ることができた。
XはB、又はB及びSiであり、oくα≦0.24、及
び12≦β≦26を溝たすものであるものを用いた場合
には、レーザ出力を連続3時間取り出した後、動作を停
止させ、レーザ管を常温まで冷却させた後、再稼働させ
る試験を5回行った場合の、コンデンサ11に入力され
るエネルギ変動は最初の動作時の3%以下とすることが
でき好適な結果を得ることができた。
(実施例2)
第5図は本発明をインバータ1を月いたコマンド充電方
式によるサイラトロン9を用いた容量移行型銅蒸気レー
ザに用いた場合の回路構成を示すものである0本実施例
では前記実施例1の回路構成を示す第1図において、可
飽和リアクトル7に主巻線14の他に第2の巻[15が
設けられている。また前記可飽和リアクトル7の第2の
巻!!15の巻線端17.18にはバイアス電源16が
接続されており、図示の極性で直流電流Icが流れるよ
うに構成されている。バイアス電源16は第6図のよう
に構成されており、同図において17゜18は出力端、
19は直流電源、20はバイアス電流Icの値を定める
ための抵抗、21は可飽和リアクトル7の第2の巻jd
ilL5に誘起するサージを阻止するためのチョークコ
イルである。
式によるサイラトロン9を用いた容量移行型銅蒸気レー
ザに用いた場合の回路構成を示すものである0本実施例
では前記実施例1の回路構成を示す第1図において、可
飽和リアクトル7に主巻線14の他に第2の巻[15が
設けられている。また前記可飽和リアクトル7の第2の
巻!!15の巻線端17.18にはバイアス電源16が
接続されており、図示の極性で直流電流Icが流れるよ
うに構成されている。バイアス電源16は第6図のよう
に構成されており、同図において17゜18は出力端、
19は直流電源、20はバイアス電流Icの値を定める
ための抵抗、21は可飽和リアクトル7の第2の巻jd
ilL5に誘起するサージを阻止するためのチョークコ
イルである。
本回路の動作を第5図の回路構成、第7図の可飽和リア
クトル7の主巻線14、及びダイオード8を流れる電流
i□と主コンデンサ電圧v、波形、第8図のiI波形拡
大図、及び第9図の可飽和リアクトル7の動作磁化曲線
を用いて説明する。
クトル7の主巻線14、及びダイオード8を流れる電流
i□と主コンデンサ電圧v、波形、第8図のiI波形拡
大図、及び第9図の可飽和リアクトル7の動作磁化曲線
を用いて説明する。
本回路においては、バイアス電源16により可飽和リア
クトル7の第2の巻′MA15を介して、可飽和リアク
トル7は図示黒丸の極性に常時次式に示すバイアス磁化
力Hrが与えられており、前記自己セットのみでなく強
制的にセットすることができる。
クトル7の第2の巻′MA15を介して、可飽和リアク
トル7は図示黒丸の極性に常時次式に示すバイアス磁化
力Hrが与えられており、前記自己セットのみでなく強
制的にセットすることができる。
e
このためインバータ1におけるサイリスタ24(第13
図参照)がターンオンする直前、即ち℃=Oのときに可
飽和リアクトル7の磁束密度a。
図参照)がターンオンする直前、即ち℃=Oのときに可
飽和リアクトル7の磁束密度a。
点にあり、前記実施例1の場合に比べて、主コンデンサ
10の充電電流立上り時間の送れtd’ を小さくする
ことができる。
10の充電電流立上り時間の送れtd’ を小さくする
ことができる。
したがって、前記実施例1の場合に比べて主コンデンサ
10の電圧が波高値に達するまでの時間の変動(前記実
施例1では自己セット作用に起因するものと思われる変
動が生じる。)を著しく減少させることができる。
10の電圧が波高値に達するまでの時間の変動(前記実
施例1では自己セット作用に起因するものと思われる変
動が生じる。)を著しく減少させることができる。
本実施例においても、前記実施例1と同一条件にて動作
試験を行ったが、第1表における#10を用いた場合に
は、前記実施例1の場合に比べてコンデンサ11に入力
される電圧変動を約30%低減することができた。
試験を行ったが、第1表における#10を用いた場合に
は、前記実施例1の場合に比べてコンデンサ11に入力
される電圧変動を約30%低減することができた。
なお、以上の実施例では銅蒸気レーザへの適用例を示し
たが、エキシマ・レーザ、TEA−C08レーザ、TE
MA−Go、レーザ等の他の放電励起レーザ、あるいは
インダクション・アクセラレータ等の加速器等への適用
が可能であることは言うまでもない。
たが、エキシマ・レーザ、TEA−C08レーザ、TE
MA−Go、レーザ等の他の放電励起レーザ、あるいは
インダクション・アクセラレータ等の加速器等への適用
が可能であることは言うまでもない。
[発明の効果コ
以上説明したような本発明によれば、変圧器の1次側に
接続されたインバータを用いて同変圧器の2次巻線と直
列に接続されたダイオードを介してコンデンサを充電す
るとともに、スイッチ素子を用いて同コンデンサの電荷
を放電させることにより高電圧パルスを発生させる高電
圧パルス発生回路において、前記ダイオードのリバース
・リカバリ電流に起因する同ダイオードのリバース・リ
カバリ損失、及び前記コンデンサ充飽電圧の低下を防止
することができる。また前記ダイオードのリバース・リ
カバリ損失に伴う同高電圧パルス発生回路の出力変動を
防止できるとともに、同ダイオードの安全動作も図るこ
とができる。また、出力変動を防止することが可能なた
め、本高電圧発生回路を用いた負荷の並列運転(例えば
本高電圧発生回路を用いた銅蒸気レーザの並列運転等)
において、各負荷の同期運転を容易に行うことができる
。
接続されたインバータを用いて同変圧器の2次巻線と直
列に接続されたダイオードを介してコンデンサを充電す
るとともに、スイッチ素子を用いて同コンデンサの電荷
を放電させることにより高電圧パルスを発生させる高電
圧パルス発生回路において、前記ダイオードのリバース
・リカバリ電流に起因する同ダイオードのリバース・リ
カバリ損失、及び前記コンデンサ充飽電圧の低下を防止
することができる。また前記ダイオードのリバース・リ
カバリ損失に伴う同高電圧パルス発生回路の出力変動を
防止できるとともに、同ダイオードの安全動作も図るこ
とができる。また、出力変動を防止することが可能なた
め、本高電圧発生回路を用いた負荷の並列運転(例えば
本高電圧発生回路を用いた銅蒸気レーザの並列運転等)
において、各負荷の同期運転を容易に行うことができる
。
第1図は本発明による高電圧パルス発生回路の一実施例
を示す回路構成図、第2図は第1図に示す回路の可飽和
リアクトル、及びダイオードを流れる電流i、と主コン
デンサ電圧V、の波形を示した図、第3図は第2図にお
ける電流11の拡大図、第4図は第1図の回路における
可飽和リアクトルの動作磁化曲線を示した図、第5図は
本発明による別の実施例を示す回路構成図、第6図は第
5図で用いた可飽和リアクトルをバイアスするためのバ
イアス電源回路を示した図、第7図は第5図に示す回路
の可飽和リアクトルの主巻線を流れる電流11と主コン
デンサ電圧v1の波形、第8図は第7図における電流i
、の拡大図、第9図は第5図の回路における可飽和リア
クトルの動作磁化曲線、第10図は従来の高電圧パルス
発生回路の構成図、第11図は第10図に示す回路の可
飽和リアクトル、及びダイオードを流れる電流iIと主
コンデンサ電圧v1の波形、第12図は第11図におけ
る電流1□の拡大図、第13図は第1図、第5図、及び
第10図で用いたインバータ1の回路構成図、第14図
は第1図、第5図、及び第10図で用いたダイオード8
の構成図である。 第1図 第3図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 Ot+ h h
を第12図 第13図 第14図 手続ネ[口正書く自発)
を示す回路構成図、第2図は第1図に示す回路の可飽和
リアクトル、及びダイオードを流れる電流i、と主コン
デンサ電圧V、の波形を示した図、第3図は第2図にお
ける電流11の拡大図、第4図は第1図の回路における
可飽和リアクトルの動作磁化曲線を示した図、第5図は
本発明による別の実施例を示す回路構成図、第6図は第
5図で用いた可飽和リアクトルをバイアスするためのバ
イアス電源回路を示した図、第7図は第5図に示す回路
の可飽和リアクトルの主巻線を流れる電流11と主コン
デンサ電圧v1の波形、第8図は第7図における電流i
、の拡大図、第9図は第5図の回路における可飽和リア
クトルの動作磁化曲線、第10図は従来の高電圧パルス
発生回路の構成図、第11図は第10図に示す回路の可
飽和リアクトル、及びダイオードを流れる電流iIと主
コンデンサ電圧v1の波形、第12図は第11図におけ
る電流1□の拡大図、第13図は第1図、第5図、及び
第10図で用いたインバータ1の回路構成図、第14図
は第1図、第5図、及び第10図で用いたダイオード8
の構成図である。 第1図 第3図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 Ot+ h h
を第12図 第13図 第14図 手続ネ[口正書く自発)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)変圧器の1次側に接続されたインバータを用いて同
変圧器の2次巻線と直列に接続されたダイオードを介し
てコンデンサを充電することにより、高電圧パルスを発
生させる高電圧パルス発生回路において、前記2次巻線
と前記2次巻線に直列に接続されたダイオード間に非晶
質磁心を用いて構成した可飽和リアクトルを挿入するこ
とを特徴とする高電圧パルス発生回路。 2)請求項1に記載の高電圧パルス発生回路において、
前記コンデンサに充電された電荷をスイッチ素子を用い
て放電させることにより高電圧パルスを発生させること
を特徴とする高電圧パルス発生回路。 3)請求項1に記載の高電圧パルス発生回路において、
前記非晶質磁心は非晶質磁性薄帯を用い、高分子フィル
ム、もしくは絶縁コーティング等により層間絶縁を施し
て構成した巻磁心もしくは積層磁心であることを特徴と
する高電圧パルス発生回路。 4)請求項1に記載の高電圧パルス発生回路において、
前記非晶質磁心の組成は (Co_1_−_αM_α)_1_0_0_−_βX_
βここでMはFe、Mn、Ni、Cr、Nb、Mo、V
、Ta、Wよりなる群より選ばれた一種以上の元素、X
はB、又はSiであり、0<α≦0.24、及び12≦
β≦26を満たすものであることを特徴とする高電圧パ
ルス発生回路。 5)請求項1に記載の高電圧パルス発生回路において、
前記可飽和リアクトルには主コンデンサを充電するため
の主巻線の他に、同可飽和リアクトルが主コンデンサの
充電電流により磁化される向きと同一方向に磁化し得る
ように第2の巻線が設けられていることを特徴とする高
電圧パルス発生回路。 6)請求項5に記載の高電圧パルス発生回路において、
前記第2の巻線には常時直流電流が流れていることを特
徴とする高電圧パルス発生回路。 7)請求項1に記載の高電圧パルス発生回路において、
その負荷は放電励起レーザであることを特徴とする高電
圧パルス発生回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1126190A JP2828107B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 高電圧パルス発生回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1126190A JP2828107B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 高電圧パルス発生回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02304991A true JPH02304991A (ja) | 1990-12-18 |
| JP2828107B2 JP2828107B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=14928928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1126190A Expired - Fee Related JP2828107B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 高電圧パルス発生回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2828107B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080231337A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-09-25 | University Of Southern California | Compact subnanosecond high voltage pulse generation system for cell electro-manipulation |
| DE102010002231A1 (de) | 2010-02-23 | 2011-08-25 | TRUMPF Laser GmbH + Co. KG, 78713 | Verfahren und Schaltung zur Erzeugung eines Spannungspulses > 500V. |
| US9927638B2 (en) | 2012-12-10 | 2018-03-27 | Trumpf Laser Gmbh | Operating a pockels cell |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1126190A patent/JP2828107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080231337A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-09-25 | University Of Southern California | Compact subnanosecond high voltage pulse generation system for cell electro-manipulation |
| US9493765B2 (en) * | 2007-03-23 | 2016-11-15 | University Of Southern California | Compact subnanosecond high voltage pulse generation system for cell electro-manipulation |
| US10301587B2 (en) | 2007-03-23 | 2019-05-28 | University Of Southern California | Compact subnanosecond high voltage pulse generation system for cell electro-manipulation |
| DE102010002231A1 (de) | 2010-02-23 | 2011-08-25 | TRUMPF Laser GmbH + Co. KG, 78713 | Verfahren und Schaltung zur Erzeugung eines Spannungspulses > 500V. |
| US9927638B2 (en) | 2012-12-10 | 2018-03-27 | Trumpf Laser Gmbh | Operating a pockels cell |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2828107B2 (ja) | 1998-11-25 |
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