JPH02306145A

JPH02306145A - レチクル検査法

Info

Publication number: JPH02306145A
Application number: JP12725189A
Authority: JP
Inventors: Noriko Ohashi; 大橋　則子
Original assignee: Matsushita Electronics Corp
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1989-05-20
Filing date: 1989-05-20
Publication date: 1990-12-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、半導体集積回路の製造に用いられるレチクル
検査法に関するものである。

（従来の技術）半導体集積回路の製造に際して、マスク基板上や半導体
基板上に所定の素子構成パターンを露光するために、上
記の素子構成パターンを、クロム（Ｃｒ）等の金属膜が
蒸着されたガラス基板上に５〜１０倍に拡大して形成し
た。レチクルと呼ぶマスクが使用される。従来のデータ
ベースによるレチクル検査法は、光電変換系を介して得
られたレチクルパターンの電気的信号のデータと、レチ
クルを製造する際の原パターンデータとを比較照合する
方法である。

この種の従来のレチクル検査法について、第４図の経路
図により説明する。磁気テープ１には。

レチクルを作製するために使用されたデータと同等の原
パターンデータ（以下設計データと称す）Ｄｌが蓄積さ
れている。設計データＤ１は、所定の集積回路を形成す
るパターン（以下本体パターンと称す）と、プロセス管
理制御用のプロセスコントロールモジュールパターン（
以下ＰＣＭパターンと称す）と、縮小投影露光に必要な
アライメントマークのパターンおよび、本体パターン、
ＰＣＭパターンを囲むフレームパターン（以下周辺パタ
ーンと称す）を構成するデータとから構成される装置第４図において、磁気テープ１の設計データＤ４は、デ
ータ変換部２により比較信号Ｄ２に変換される。一方、
検査するレチクル３のパターンは、レチクル３を搭載し
たｘＹステージ４をステージコントローラ５によって、
Ｘ方向には連続送りで、また、Ｙ方向にはステップ送り
で等速に移動し、まず、光学系６で読み取られて光信号
Ｄ３となり、次に光電変換部７で電気信号に変換されて
現パターン信号Ｄ４となる。現パターン信号Ｄ４は、比
較部８で比較信号Ｄ２と比較され、その結果が外部に出
力される。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら、上記の検査法では、本体パターンが複数
個あって、これらの複数個の本体パターンとＰＣＭパタ
ーンを分割して検査する場合、分割した検査領域のＹ方
向の長さが、Ｘ方向に比べて長い場合には、Ｙ方向のス
テップ送りの回数が増え走査時間が長くなるという問題
があった。また、その対策として、ＸＹステージ上のレ
チクルを、９０”回転して搭載し直せば、走査時間は短
縮されるが、手間が掛るという問題があった。

本発明は上記の問題を解決するもので、従来の検出精度
のままで検査時間を短縮できるレチクル検査法を提供す
るものである。

（課題を解決するための手段）上記の課題を解決するため、本発明は、検査領域のＸ−
Ｙ方向に長さ比によりｘＹステージの送り動作をＸ連続
Ｙステップ送りあるいはＹ連続Ｘステップ送りに切り換
えるものである。

（作　用）従来のステージの送り方法は、レチクルの左上から右に
Ｘ方向に連続に走査させ、右端で一両面下へＹ方向にス
テップ送りをした後、右から左に連続に走査させ左端で
再びＹ方向にステップ送りするという動作を繰り返して
全領域を検査するので、検査領域のＹ方向の長さがＸ方
向より長いとき、ステップ送りの動作回数が多いため、
同面積の検査領域でＸ方向の長さがＹ方向より長いもの
に比べ走査時間が長くなる。上記の構成により、この場
合Ｙ連続Ｘステップ送りに変えられるので走査時間がＸ
方向の長い検査領域と同じになる。

（実施例）本発明の一実施例について、第１図ないし第３図により
説明する。第１図は本発明によるレチクル検査法の経路
図である。

本発明の実施例が第３図に示した従来例と異なる点は、
設計データＤ１を構成する本体パターン、ＰＣＭパター
ンおよび周辺パターンをそれぞれ３本の磁気テープｌａ
、ｌｂおよび１ｃに蓄積した点と、磁気テープｌａ、ｌ
ｂおよび１ｃとステージコントローラ５を接続し、各パ
ターンデータの相当する検査領域と、その時のＸＹステ
ージ４の送り方法がＸ連続Ｙステップ送りか、Ｙ連続Ｘ
ステップ送りかの情報信号Ｄｓをステージコントローラ
５に与える点である。その他は従来例と変らないので、
同じ構成部品および信号には同一符号を付して説明を進
める。

このように構成されたレチクル検査法について説明する
。

設計データＤ工は、データ変換部２において走査送り方
法により分けられた形で比較信号Ｄ２に変換される。一
方、磁気テープｌａ、ｌｂおよびＩＣに蓄えられた各パ
ターンデータがどの領域に相当するか、また、その時の
ＸＹステージ４の送り方法をＸ連続Ｙステップ送りかＹ
連続Ｘステップ送りかという情報信号Ｄ５をステージコ
ントローラ５に与える。検査が開始されると、被検査レ
チクル３を載せたＸＹステージ４はパターン構成および
ステージ送りの情報信号り、に従って移動する。光学系
６により読み取られたレチクルパターンの光信号り、は
、光電変換部７により現パターン信号Ｄ４に変換され、
比較部８により現パターンの比較信号りよと比較され外部に出力される。

第２図は検査されるレチクル３のパターン構成を示す構
成図で、ＸＹステージ４の走査例を示す。

設計データＤ工は複数個の本体パターン９と、ＰＣＭパ
ターン１０．フレームパターン１１および周辺パターン
１２との２群に分けられている。

まず、レチクル３を搭載したＸＹステージ４は、光学系
６が、レチクル３の左上の点ａに位置する状態から、−
Ｘ方向に連続的に移動すると、光学系６は、レチクル３
をＸ方向に走査し、右端の点すに進む。次に、ＸＹステ
ージ４は、光学系６で得られるパターン幅だけ−Ｙ方向
に移動し、続いて、Ｘ方向に連続的に移動する。これを
繰り返し、点ｅ又は点ｆまで走査すると、横長の検査領
域ａｂｆｅが、Ｘ連続Ｙステップ送りで検査されたこと
になる。

次に、縦長の検査領域ｇｈｉｊを有する本体パターン９
は、点ｇからＹ方向に連続的に点ｉまで走査したのちパ
ターン幅だけＸ方向にステップした後、−Ｙ方向に戻る
動作を繰り返し、点り又は点ｊまで走査するＹ連続Ｘス
テップ送りで動く。

次に隣接する本体パターンのも同様にＹ連続Ｘステップ
送りで走査する。

本実施例の場合、本体パターン９でＸＹステージ４の送
り方法をＹ連続Ｘステップ送りに切り換えることにより
、検査時間は従来のようなＸ連続Ｙステップ送りのみに
比べ２／３に短縮された。

第３図は、Ｘ連続Ｙステップ送りの時に、走査領域のＸ
／Ｙ比と一定面積の走査時間との関係を示したものであ
る。本実施例には、辺ｇｈ／辺ｇｉ比が１７２の場合で
ある。

（発明の効果）以上説明したように、本発明によれば、検査時間が大幅
に短縮されるので、レチクル製造工程の生産性を大幅に
向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるレチクル検査法の経路図、第２図
はレチクルのパターン構成を示す平面図。第３図はＸ連続Ｙステップ送りで、走査領域のＸＺＹ比
と走査時間の関係を示す関係図、第４図は従来のレチク
ル検査法の経路図である。ｌａ、ｌｂ、ｌｃ・・・磁気テープ、　２　・・・デー
タ変換部、　３　・・・　レチクル、　４　・・・ＸＹ
ステージ、　５　・・・ステージコントローラ、　６・
・・光学系、　７・・・光電変換部、８　・・・比較部
、　Ｄ□・・・設計データ、　Ｄ２・・・比較信号、　
Ｄ、・・・光信号、　Ｄ４・・・現パターン信号、　Ｄ
５・・・情報信号。特許出願人　松下電子工業株式会社代　理　人　　　星　　野　　恒　　司　　１ｉ第２図第３図

Claims

【特許請求の範囲】

ＸＹステージに搭載したレチクルに形成されている複数
のパターンを順次電気信号に変換する一方で、上記のパ
ターンの設計パターンデータを比較信号に変換し、上記
両信号を比較するレチクル検査法において、上記のパタ
ーンの形状に応じ、上記のＸＹステージの送り方法を、
Ｘ連続Ｙステップ送り又はＹ連続Ｘステップ送りに切り
換えることを特徴とするレチクル検査法。