JPH02312005A - 薄膜磁気ヘッドにおけるパルス状ノイズ防止方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドにおけるパルス状ノイズ防止方法Info
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- JPH02312005A JPH02312005A JP13335589A JP13335589A JPH02312005A JP H02312005 A JPH02312005 A JP H02312005A JP 13335589 A JP13335589 A JP 13335589A JP 13335589 A JP13335589 A JP 13335589A JP H02312005 A JPH02312005 A JP H02312005A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、面内記録再生用または垂直記録再生用の薄膜
磁気ヘッドの製造方法に関し、薄膜磁気回路を形成した
後、保護膜形成前に、２７０〜４００℃の温度条件で熱
処理を行なうことにより、ポツプコーンノイズまたはイ
クセスノイズを劇的に減少させ得る薄１Ｉｌｌｉｉｌ気
ヘッドが得られるようにしたものである。
磁気ヘッドの製造方法に関し、薄膜磁気回路を形成した
後、保護膜形成前に、２７０〜４００℃の温度条件で熱
処理を行なうことにより、ポツプコーンノイズまたはイ
クセスノイズを劇的に減少させ得る薄１Ｉｌｌｉｉｌ気
ヘッドが得られるようにしたものである。
〈従来の技術〉
薄膜磁気ヘッドとしては、面内記録再生用と垂直記録再
生用の２種類の方式のものが知られている。第１図は特
開昭５５−８４０１９号公報等により知られた面内記録
再生用薄膜磁気ヘッドの要部の斜視図、第２図は同じく
要部の断面図である。１は基体、２は下部の磁性膜、３
はアルミナ等でなるギャップ膜、４は上部の磁性膜、５
は導体コイル膜、６１〜６３はノボラック樹脂等の有機
絶縁樹脂で構成された絶縁膜、フ、８は引出リード部、
９は絶縁膜、１０はアルミナ等の保護膜である。
生用の２種類の方式のものが知られている。第１図は特
開昭５５−８４０１９号公報等により知られた面内記録
再生用薄膜磁気ヘッドの要部の斜視図、第２図は同じく
要部の断面図である。１は基体、２は下部の磁性膜、３
はアルミナ等でなるギャップ膜、４は上部の磁性膜、５
は導体コイル膜、６１〜６３はノボラック樹脂等の有機
絶縁樹脂で構成された絶縁膜、フ、８は引出リード部、
９は絶縁膜、１０はアルミナ等の保護膜である。
基体１は、ＡＩ、Ｏ，・ＴＩＣ等のセラミック構造体１
０１の上に＾１２０５等の絶縁ｌｌ！１０２を被着させ
た構造となっている。この種の薄膜磁気ヘッドは、ウェ
ハー上に多数の薄膜磁気ヘッド素子を形成した後に、切
断して、各薄膜磁気ヘッド素子を取世オ製造工程を経る
から、基体１はウェハーとなるのが一般的である。
０１の上に＾１２０５等の絶縁ｌｌ！１０２を被着させ
た構造となっている。この種の薄膜磁気ヘッドは、ウェ
ハー上に多数の薄膜磁気ヘッド素子を形成した後に、切
断して、各薄膜磁気ヘッド素子を取世オ製造工程を経る
から、基体１はウェハーとなるのが一般的である。
磁性膜２及び磁性膜４の先端部はアルミナ等でなるギャ
ップ膜３を隔てて対向するポール部２１．４１となって
おり、このポール部２１．４１において読み書きを行な
う。
ップ膜３を隔てて対向するポール部２１．４１となって
おり、このポール部２１．４１において読み書きを行な
う。
導体コイル膜５は、磁性ｌＩ！２．４及びギャップ膜３
と共に薄膜磁気回路を構成している。この導体コイル膜
５は、Ｃｕ／Ｔｉのスパッタ膜でなる下地導体膜５Ａの
上にＣｕメッキでなる導体１ｉ５Ｂを積層して設けた構
造となっており、磁性膜２．４のヨーク部２２．４２の
結合部のまわりに渦巻状に形成されている。
と共に薄膜磁気回路を構成している。この導体コイル膜
５は、Ｃｕ／Ｔｉのスパッタ膜でなる下地導体膜５Ａの
上にＣｕメッキでなる導体１ｉ５Ｂを積層して設けた構
造となっており、磁性膜２．４のヨーク部２２．４２の
結合部のまわりに渦巻状に形成されている。
保護１ｌ１１１０は、磁性膜２．４、ギャップ膜３、導
体コイル膜５及び眉間絶縁膜６１〜６３によって構成さ
れる薄膜磁気ヘッド素子を保護するために設けられたも
ので、アルミナ等のスパッタ膜として形成される。第１
図の斜視図は、この保護膜１０を設ける前の状態を示し
ている。
体コイル膜５及び眉間絶縁膜６１〜６３によって構成さ
れる薄膜磁気ヘッド素子を保護するために設けられたも
ので、アルミナ等のスパッタ膜として形成される。第１
図の斜視図は、この保護膜１０を設ける前の状態を示し
ている。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところが、従来の薄膜磁気ヘッドにおいては、書込信号
を与えた後に、例えば１０μｓ〜２０μＳ程度の時間を
おいて、読出動作を行なった場合、読出信号に、通常の
ホワイトノイズよりも、著しく高いピーク値を持つポツ
プコーンノイズが発生する。第３図はホワイトノイズ中
のポツプコーンノイズを示すオシロスコープ波形図で、
横軸に単位目盛当り０．５μｓで表される時間目盛を取
り、縦軸に単位目盛当り３０μＶで表される電圧目盛を
取っである。波形図の下には、書込動作と読出動作との
タイムチャートを、時間軸を合せて表示しである。書込
動作を停止した後、七〇時に読出動作を開始した場合、
七〇時を基準にして、１．５μｓ〜２．５μｓを経過し
たときに、ホワイトノイズＰｗのレベルよりも著しくピ
ーク値の高いパルス状のノイズＰＰが生じている。この
ようなノイズＰＰは当業者間ではポツプコーンノイズと
呼ばれている。
を与えた後に、例えば１０μｓ〜２０μＳ程度の時間を
おいて、読出動作を行なった場合、読出信号に、通常の
ホワイトノイズよりも、著しく高いピーク値を持つポツ
プコーンノイズが発生する。第３図はホワイトノイズ中
のポツプコーンノイズを示すオシロスコープ波形図で、
横軸に単位目盛当り０．５μｓで表される時間目盛を取
り、縦軸に単位目盛当り３０μＶで表される電圧目盛を
取っである。波形図の下には、書込動作と読出動作との
タイムチャートを、時間軸を合せて表示しである。書込
動作を停止した後、七〇時に読出動作を開始した場合、
七〇時を基準にして、１．５μｓ〜２．５μｓを経過し
たときに、ホワイトノイズＰｗのレベルよりも著しくピ
ーク値の高いパルス状のノイズＰＰが生じている。この
ようなノイズＰＰは当業者間ではポツプコーンノイズと
呼ばれている。
ポツプコーンノイズＰＰの発生メカニズムは、必ずしも
明確ではないけれども、書込動作状態から静止状態にＢ
る際の磁性膜２．４における磁区形成の遅れがその主要
な原因ではないかと推測される。磁性ｌ！！２．４は磁
気的異方性を有しており、書込動作時に、第４図に示す
ように、磁化困難軸方向Ｈ８を向いている磁区が、静止
状態では、第５図に示すように、磁化困難軸方向ＨＨか
ら９０度回転した磁化容易軸方向ＨＥに向きを変える。
明確ではないけれども、書込動作状態から静止状態にＢ
る際の磁性膜２．４における磁区形成の遅れがその主要
な原因ではないかと推測される。磁性ｌ！！２．４は磁
気的異方性を有しており、書込動作時に、第４図に示す
ように、磁化困難軸方向Ｈ８を向いている磁区が、静止
状態では、第５図に示すように、磁化困難軸方向ＨＨか
ら９０度回転した磁化容易軸方向ＨＥに向きを変える。
ポツプコーンノイズＰＰは、磁性＠２．４の磁区の方向
が磁化困難軸方向ＨＨから容易軸方向Ｈ，に回転すると
きの時間的な遅れに起因して発生するというものである
。
が磁化困難軸方向ＨＨから容易軸方向Ｈ，に回転すると
きの時間的な遅れに起因して発生するというものである
。
ポツプコーンノイズＰＰは、ピーク値ｖ０−２が大きな
ものでは１００μｖ０−２にも達し、正常な読出信号と
の区別ができず、磁気ディスクドライブでは読出しエラ
ーとなる。このことは、薄膜磁気ヘッドの実用性を否定
することにもなりかねない極めて重要な問題である。し
かしながら、現状では、その有効な解決手段がない０例
えば、書込動作後、読出動作を行なうまでの時間（ポス
ト。
ものでは１００μｖ０−２にも達し、正常な読出信号と
の区別ができず、磁気ディスクドライブでは読出しエラ
ーとなる。このことは、薄膜磁気ヘッドの実用性を否定
することにもなりかねない極めて重要な問題である。し
かしながら、現状では、その有効な解決手段がない０例
えば、書込動作後、読出動作を行なうまでの時間（ポス
ト。
ライト、リカバリ、タイム）を長くとる等の手段が考え
られるが、その適用に当っては、磁気ディスクドライブ
装置のシステム変更が不可欠であり、実際には不可能に
近い。しかも、ポスト、ライト、リカバリ、タイムを長
くとることは、高密度記録の要請に反する。
られるが、その適用に当っては、磁気ディスクドライブ
装置のシステム変更が不可欠であり、実際には不可能に
近い。しかも、ポスト、ライト、リカバリ、タイムを長
くとることは、高密度記録の要請に反する。
そこで、本発明の課題は、上述する従来の問題点を解決
し、ポツプコーンノイズを劇的に減少させ得る薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することである。
し、ポツプコーンノイズを劇的に減少させ得る薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することである。
く課題を解決するための手段〉
上述する課題を解決するため、本発明は、第１図及び第
２図に示した如く、基体１上に磁性膜２．４及び導体コ
イル膜５を含む薄ｌＮｌｌ１ｉｌ気回路２〜６を形成し
た後、薄膜磁気回路２〜６を覆う保護膜１０を形成する
前に、２７０℃〜４００℃の温度条件で熱処理を行なう
ことを特徴とする。
２図に示した如く、基体１上に磁性膜２．４及び導体コ
イル膜５を含む薄ｌＮｌｌ１ｉｌ気回路２〜６を形成し
た後、薄膜磁気回路２〜６を覆う保護膜１０を形成する
前に、２７０℃〜４００℃の温度条件で熱処理を行なう
ことを特徴とする。
く作用〉
薄膜磁気回路２〜６を形成した後、薄膜磁気回路を覆う
保護膜ｌＯを形成する前に、２フＯ℃〜４００℃の温度
条件で熱処理を行なうと、その理由は明確ではないが、
ポツプコーンノイズが著しく減少することが分った。
保護膜ｌＯを形成する前に、２フＯ℃〜４００℃の温度
条件で熱処理を行なうと、その理由は明確ではないが、
ポツプコーンノイズが著しく減少することが分った。
２７０℃以下の温度では、ポツプコーンノイズ減少に顕
著な作用が得られない。４００℃以上の温度では、パー
マロイ膜として形成される磁性膜２．４の特性が劣化す
る。従りて、２７０℃〜４００℃の温度範囲が適してい
る。
著な作用が得られない。４００℃以上の温度では、パー
マロイ膜として形成される磁性膜２．４の特性が劣化す
る。従りて、２７０℃〜４００℃の温度範囲が適してい
る。
保護膜１０を形成した後に熱処理すると、保護膜１０と
磁性膜４との間の熱的ストレス、界面剥離等の問題を生
じる。この問題点を回避するため、上述の熱処理は保護
ｌｌ１１０を形成する前に行なう。
磁性膜４との間の熱的ストレス、界面剥離等の問題を生
じる。この問題点を回避するため、上述の熱処理は保護
ｌｌ１１０を形成する前に行なう。
熱処理時間は温度条件によって異なる。上述の温度２７
０℃〜４００℃の範囲では、１０分〜１２０分の処理時
間が通している。熱処理時間が長過ぎると、絶縁膜６１
〜６３の膜減り等の問題を生じる。１例として、３２０
℃の温度では、６０分程度の熱処理時間が適し、９０分
を越えると膜減りが進み不適当である。
０℃〜４００℃の範囲では、１０分〜１２０分の処理時
間が通している。熱処理時間が長過ぎると、絶縁膜６１
〜６３の膜減り等の問題を生じる。１例として、３２０
℃の温度では、６０分程度の熱処理時間が適し、９０分
を越えると膜減りが進み不適当である。
上述の熱処理は真空度１０−２〜１０−’Ｔｏｒｒ程度
の真空中で行なうのが望ましい。真空中雰囲気処理は、
絶縁９６１〜６３の炭化防止のためである。
の真空中で行なうのが望ましい。真空中雰囲気処理は、
絶縁９６１〜６３の炭化防止のためである。
〈実施例〉
第１図に示した如く、ウェハーである基板１の上に薄膜
磁気回路２〜６を形成した後、保護膜１０を設ける前の
状態で、３２０℃の温度で６０分の熱処理を行なった。
磁気回路２〜６を形成した後、保護膜１０を設ける前の
状態で、３２０℃の温度で６０分の熱処理を行なった。
上述の熱処理は真空度１０″′３〜１０−’Ｔｏｒｒ程
度の真空中で行なった。この後、保護＠１０をスパッタ
成膜して、第２図に示すような構造を有する薄ｌｌ１ｌ
ｉｆｌ気ヘッドを得た。
度の真空中で行なった。この後、保護＠１０をスパッタ
成膜して、第２図に示すような構造を有する薄ｌｌ１ｌ
ｉｆｌ気ヘッドを得た。
得られた薄膜磁気ヘッドは、導体コイル膜５のターン数
が３２ターンで、抵抗値は３０Ωである。
が３２ターンで、抵抗値は３０Ωである。
第６図は上述の磁気ヘッドの熱処理の前後におけるポツ
プコーンノイズ数をグラフ化して示す図である０図示す
るように、熱処理前に１０００個以上もあったポツプコ
ーンノイズが、熱処理後は殆ど零になっており、劇的に
減少している。第６図中、Ｑ印はポツプコーンノイズ検
出のためのノイズしきい値電圧を４０μＶＯ−ｐに設定
した場合を示し、Δ印は５０μｖｏ−ｐに設定した場合
のポツプコーンノイズ数である。ポツプコーンノイズ減
少効果は、ウェハー上の薄膜磁気ヘッドでも、ウェハー
にピース加工を施した後の個々の薄膜磁気ヘッドでも同
様であった。
プコーンノイズ数をグラフ化して示す図である０図示す
るように、熱処理前に１０００個以上もあったポツプコ
ーンノイズが、熱処理後は殆ど零になっており、劇的に
減少している。第６図中、Ｑ印はポツプコーンノイズ検
出のためのノイズしきい値電圧を４０μＶＯ−ｐに設定
した場合を示し、Δ印は５０μｖｏ−ｐに設定した場合
のポツプコーンノイズ数である。ポツプコーンノイズ減
少効果は、ウェハー上の薄膜磁気ヘッドでも、ウェハー
にピース加工を施した後の個々の薄膜磁気ヘッドでも同
様であった。
次に、第６図のデータを得るために設定された条件につ
いて説明する。
いて説明する。
第７図は第６図のデータを得るための書込及び読出動作
のタイムチャートである。書込動作は、書込電流４０ｍ
Ａ。−２、書込時間１ｍＳとした。書込動作終了後、１
０μｓのポスト、ライト、リカバリ、タイムを取り、読
出動作を行なった。読出時間は１６１１Ｓである。上述
を１サイクルとして２分間の試験を行なった。ホワイト
ノイズのレベルを３０μＶ、、と仮定し、ポツプコーン
ノイズ検出のためのノイズしきい値電圧を４０μｖ０−
２．５０μＶＯ＋ｐにそれぞれ設定して試験を行なった
。
のタイムチャートである。書込動作は、書込電流４０ｍ
Ａ。−２、書込時間１ｍＳとした。書込動作終了後、１
０μｓのポスト、ライト、リカバリ、タイムを取り、読
出動作を行なった。読出時間は１６１１Ｓである。上述
を１サイクルとして２分間の試験を行なった。ホワイト
ノイズのレベルを３０μＶ、、と仮定し、ポツプコーン
ノイズ検出のためのノイズしきい値電圧を４０μｖ０−
２．５０μＶＯ＋ｐにそれぞれ設定して試験を行なった
。
第８図は第６図のデータを得るために供された測定回路
のブロック図である０図において、１１は薄膜磁気ヘッ
ド、１２．１３は増幅器、１４はフィルタ、１５はオペ
アンプ、１６は比較器、１７は論理ゲート、１８は゛読
出／書込の切替制御器、１９はゲート制御器、２０はゲ
ート、タイマー、２１は論理ゲート、２２はポツプコー
ンカウンタである。
のブロック図である０図において、１１は薄膜磁気ヘッ
ド、１２．１３は増幅器、１４はフィルタ、１５はオペ
アンプ、１６は比較器、１７は論理ゲート、１８は゛読
出／書込の切替制御器、１９はゲート制御器、２０はゲ
ート、タイマー、２１は論理ゲート、２２はポツプコー
ンカウンタである。
切替制御器１８から増幅器１２に与えられる切替信号に
より、第７図に示すタイムチャートに従って読出／書込
の切替えを行なう、読出動作において、薄膜磁気ヘッド
１１から出力される信号を増幅器１２．１３で増幅し、
フィルタ１４により必要な周波数成分を抽出し、オペア
ンプ１５を通して比較器１６に入力する。比較器１６は
、オペアンプ１５より供給される信号を、ツェナーダイ
オード２３によって設定されたポツプコーンノイズ検出
のためのノイズしきい値と比較し、前者が後者よりも大
きいときに、論理１の出力を生じる。この論理１の比較
出力を、論理ゲート１７を通してポツプコーンノイズ、
カウンタ２２に与えて１数する。ポツプコーンノイズ、
カウンタ２２における計数タイミングは、ゲート制御器
１９及びゲートタイマ２０から論理ゲート２１を通して
与えられるタイミング信号によって定められる。
より、第７図に示すタイムチャートに従って読出／書込
の切替えを行なう、読出動作において、薄膜磁気ヘッド
１１から出力される信号を増幅器１２．１３で増幅し、
フィルタ１４により必要な周波数成分を抽出し、オペア
ンプ１５を通して比較器１６に入力する。比較器１６は
、オペアンプ１５より供給される信号を、ツェナーダイ
オード２３によって設定されたポツプコーンノイズ検出
のためのノイズしきい値と比較し、前者が後者よりも大
きいときに、論理１の出力を生じる。この論理１の比較
出力を、論理ゲート１７を通してポツプコーンノイズ、
カウンタ２２に与えて１数する。ポツプコーンノイズ、
カウンタ２２における計数タイミングは、ゲート制御器
１９及びゲートタイマ２０から論理ゲート２１を通して
与えられるタイミング信号によって定められる。
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法は、基体上に磁性膜及び導体コイル膜を含む薄膜磁
気回路を形成した後、前記薄膜磁気回路を覆う保護膜を
形成する前に、２７０℃〜４００℃の温度条件で熱処理
を行なうようにしたから、ポツプコーンノイズを殆ど生
じることのない薄膜磁気ヘッドを得ることができる。
方法は、基体上に磁性膜及び導体コイル膜を含む薄膜磁
気回路を形成した後、前記薄膜磁気回路を覆う保護膜を
形成する前に、２７０℃〜４００℃の温度条件で熱処理
を行なうようにしたから、ポツプコーンノイズを殆ど生
じることのない薄膜磁気ヘッドを得ることができる。
第１図は薄膜磁気ヘッドの要部の斜視図、第２図は薄膜
磁気ヘッドの要部の断面図、第３図はホワイトノイズ中
のポツプコーンノイズを示すオシロスコープ波形図、第
４図は書込動作時の磁区の構造を示す図、第５図は読出
動作時の磁区の構造を示す図、第６図は薄膜磁気ヘッド
の熱処理の前後におけるポツプコーンノイズ数をグラフ
化して示す図、第７図は第６図のデータを得るための書
込及び読出動作のタイムチャート、第８図は第６図のデ
ータを得るために供された測定回路のブロック図である
。 １・・・基体 ２．４・・・磁性膜５・・・導体コ
イル膜 １０・・・保護膜 特許出願人 ティーディーケイ株式会社第３図 第６図
磁気ヘッドの要部の断面図、第３図はホワイトノイズ中
のポツプコーンノイズを示すオシロスコープ波形図、第
４図は書込動作時の磁区の構造を示す図、第５図は読出
動作時の磁区の構造を示す図、第６図は薄膜磁気ヘッド
の熱処理の前後におけるポツプコーンノイズ数をグラフ
化して示す図、第７図は第６図のデータを得るための書
込及び読出動作のタイムチャート、第８図は第６図のデ
ータを得るために供された測定回路のブロック図である
。 １・・・基体 ２．４・・・磁性膜５・・・導体コ
イル膜 １０・・・保護膜 特許出願人 ティーディーケイ株式会社第３図 第６図
Claims (2)
- （１）基体上に磁性膜及び導体コイル膜を含む薄膜磁気
回路を形成した後、前記薄膜磁気回路を覆う保護膜を形
成する前に、２７０℃〜４００℃の温度条件で熱処理を
行なうことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - （２）前記熱処理は、１０分〜１２０分間行なうことを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1133355A JPH063644B2 (ja) | 1989-05-27 | 1989-05-27 | 薄膜磁気ヘッドにおけるパルス状ノイズ防止方法 |
| US07/715,012 US5236735A (en) | 1989-05-27 | 1991-06-13 | Method of producing a thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1133355A JPH063644B2 (ja) | 1989-05-27 | 1989-05-27 | 薄膜磁気ヘッドにおけるパルス状ノイズ防止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02312005A true JPH02312005A (ja) | 1990-12-27 |
| JPH063644B2 JPH063644B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=15102782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1133355A Expired - Lifetime JPH063644B2 (ja) | 1989-05-27 | 1989-05-27 | 薄膜磁気ヘッドにおけるパルス状ノイズ防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063644B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05266423A (ja) * | 1990-10-12 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| US6571729B2 (en) * | 1999-07-28 | 2003-06-03 | Anelva Corporation | Apparatus for depositing a thin film on a data recording disk |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP5693711B2 (ja) * | 2011-04-12 | 2015-04-01 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 電圧発生回路 |
| KR102313156B1 (ko) * | 2020-06-25 | 2021-10-14 | 전훈 | 마스크 끈용 튜블러 편기의 헤드 |
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| JPS609098A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-18 | 三菱電機株式会社 | 多灯用放電ランプ点灯装置 |
| JPH0283809A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-23 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製法 |
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1989
- 1989-05-27 JP JP1133355A patent/JPH063644B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US6571729B2 (en) * | 1999-07-28 | 2003-06-03 | Anelva Corporation | Apparatus for depositing a thin film on a data recording disk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH063644B2 (ja) | 1994-01-12 |
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