JPH0232580A - レーザビーム絞り装置 - Google Patents

レーザビーム絞り装置

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JPH0232580A
JPH0232580A JP1122998A JP12299889A JPH0232580A JP H0232580 A JPH0232580 A JP H0232580A JP 1122998 A JP1122998 A JP 1122998A JP 12299889 A JP12299889 A JP 12299889A JP H0232580 A JPH0232580 A JP H0232580A
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JP
Japan
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laser beam
diaphragm
reflected
constrictions
aperture
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JP1122998A
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English (en)
Inventor
Bernd Mehmke
ベルンド・メムケ
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Lambda Physik Forschungs & Entwickl GmbH
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Lambda Physik Forschungs & Entwickl GmbH
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    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0988Diaphragms, spatial filters, masks for removing or filtering a part of the beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
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    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザビームを細くする絞りを用いて中間出
力及び高出力のレーザビームを絞るレーザビーム絞り装
置に関するものである。
種々の理由により、レーザビームを幾何学的に細くした
り制限することがしばしば必要になっている。例えば、
レーザビームの寸法を所定の光学系に適合させたり、特
定の断面形状のレーザビームを発生させたり、シャープ
なビーム境界を発生させたり、或はビームの開口角を小
さくする必要がある。
従来のレーザビーム絞り装置にお−いては、レーザビー
ムの不所望な部分を吸収する絞りが通常用いられていた
。この絞りは、絞られるべき又は制限されるべきレーザ
ビームの所望の寸法に依存する種々の形態を有している
。通常、レーザビームの寸法が1次元又は2次元的に制
限されるか否かに応じて円形のピンホール絞り又は矩形
のスリット絞りが用いられていた。絞りはレーザ装置の
外側のレーデビーム中(エクストラキャビィティ)又は
レーザ発振器中(イントラキャビィティ)に配置するこ
とができる。
しかしながら、レーザ出力が中間又は高出力領域にある
場合、すなわち数ワット又はそれ以上の出力の場合、従
来の絞り装置は種々の問題を含んでいる。既知の絞りは
ビーム成分の吸収によりレーザビームを制限しているた
め、絞りが極めて高温になり100℃以上の温度になっ
てしまう。絞りが加熱されることにより周囲の空気も加
熱され、この結果絞りの端部においてシュレーリンの密
度勾配が生じてしまう。空気の密度が絞りの端部におい
て直接変化するため、この付近において屈折率が不均一
になりこの結果不規則な密度勾配(schliere 
formation)  が生じてしまう。
このような不規則な密度勾配や流れによってレーザビー
ムの直線的な伝播性が乱されてしまう。
この不規則な密度勾配によってレーザビームの品質が害
されてしまい、このような条件下においてはレーザビー
ムをシャープに規定し又はビームの開口角を絞るための
I又はそれ以上の絞りの効果が部分的に減殺されるおそ
れがある。不規則な密度勾配によってレーザビームの縁
部が不規則に回折されるので、シャープな縁部境界が不
鮮明になると共に、ビームの一部が、絞りによって阻止
されるべき方向に回折されてしまう。
本発明は上述した欠点を解消し、簡単な構成で干渉が生
ずることなく鮮明なビーム境界を形成し得る中間出力及
び高出力のレーザビーム絞り装置を提供するものである
本発明によれば、レーザビームに対して少なくとも部分
的に適合されると共に絞りによって反射されたビーム部
分がレーザビーム軸から離れるようにレーデビームに対
して配置されている絞りによってレーザビームを絞るこ
とにより、上述した問題点が解消される。
「離れるように向く」という文言は、反射されたビーム
部分がレーザビームから遠ざかることを意味する。この
ように構成すれば、反射したビーム部分は前もってビー
ム軸と交差する。
本発明のように絞りを反射体とすることにより絞りは無
視できる程度に加熱されるにすぎず或はほとんど加熱さ
れることはない。シャットアウトされたビーム部分のエ
ネルギーはほぼ反射される。
すなわち、絞りから遠く離れることになる。絞りは、レ
ーザビームの波長において吸収が生じないか或は吸収が
無視される程度に、すなわち数%の吸収しか生じない程
度の反射性とする。
レーザビームの良好な指向性により絞りによって反射し
たビーム部分は比較的シャープな方向性を有するので、
レーザビームの光路外へ完全に反射されると共にレーザ
ビームから十分な距離だけ離れて配置されている光吸収
体に入射させることができ、光吸収体の加熱によってレ
ーザビームが乱されることがほとんどなくなる。
従って、本発明においては、反射性の絞りを、ビーム軸
に対して反射面が90°以上の角度をなすようにレーザ
ビーム軸に対して配置する。
以下、図面に基き本発明の詳細な説明する。
第1図〜第3図は中間出力及び高出力のレーザビーム絞
り装置の種々の実施例を示す。
第1図において、絞り1,1′をレーザビーム2の光路
中に配置する。第1図は絞りを通る水平面を示し、絞り
は例えばスリット状又は円形のものとすることができる
。円形の絞りを用いれば、第1図は垂直断面も示すこと
になる。
絞り1,1′で反射されたレーザビーム2のビーム部分
3.3′はレーザビーム軸から離れる方向に反射すると
共にレーザビーム2から離れ適当な光吸収体く図示せず
)に吸収される。
絞り1.1′は、少なくともレーザビーム2が入射する
区域において反射性とされる。この絞りは研磨した金属
、特にコーティングされたガラスや他の型式のミラーと
することができる。
第2図及び第3図は第1図に示す絞り装置の変形例を示
し、それらの構成は容易に理解される。
第3図に示す変形例は、反射したビーム部分3゜3′が
同一の方向に進むので単一の光吸収体によって吸収でき
る利点がある。また、反射したビーム部分3.3′が選
択的に特定の目標物に入射するように絞り1,1′の反
射面を構成することもできる。さらに、反射したビーム
部分3.3′ 自身を補助ビームとして用いることもで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明による中間出力及び高出力のレ
ーザビーム絞り装置の実施例を示す線図である。 1.1′・・・絞り    2・・・レーザビーム3.
3′・・・ビーム部分

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、レーザビームを細くする絞りを用いて中間出力及び
    高出力のレーザビームを絞るレーザビーム絞り装置にお
    いて、絞り(1、1′)を反射体とし、この絞りを、絞
    りによって反射されたビーム部分(3、3′)がレーザ
    ビーム軸(A)から遠ざかるように配置したことを特徴
    とするレーザビーム絞り装置。
JP1122998A 1988-05-27 1989-05-18 レーザビーム絞り装置 Pending JPH0232580A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3818129A DE3818129C2 (de) 1988-05-27 1988-05-27 Vorrichtung zum Begrenzen von Laserstrahlen
DE3818129.0 1988-05-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0232580A true JPH0232580A (ja) 1990-02-02

Family

ID=6355298

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JP1122998A Pending JPH0232580A (ja) 1988-05-27 1989-05-18 レーザビーム絞り装置

Country Status (3)

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US (1) US5161238A (ja)
JP (1) JPH0232580A (ja)
DE (1) DE3818129C2 (ja)

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