JPH0236996Y2 - - Google Patents
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- JPH0236996Y2 JPH0236996Y2 JP11322086U JP11322086U JPH0236996Y2 JP H0236996 Y2 JPH0236996 Y2 JP H0236996Y2 JP 11322086 U JP11322086 U JP 11322086U JP 11322086 U JP11322086 U JP 11322086U JP H0236996 Y2 JPH0236996 Y2 JP H0236996Y2
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- valve
- valve seat
- liquefied gas
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Landscapes
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は低温液化ガスの移送弁に関し、特に大
気圧下における沸点が−100℃以下の低温液化ガ
スが充填された断熱容器の底部からの低温液化ガ
スの取出しまたは断熱容器の内部が上下2室に分
割された2段式容器の上室から下室への低温液化
ガスの移動に適した低温液化ガス用アクチユエー
ター弁に関する。
気圧下における沸点が−100℃以下の低温液化ガ
スが充填された断熱容器の底部からの低温液化ガ
スの取出しまたは断熱容器の内部が上下2室に分
割された2段式容器の上室から下室への低温液化
ガスの移動に適した低温液化ガス用アクチユエー
ター弁に関する。
断熱容器の内部が中央部で水平に分割された2
段式低温液化ガス容器について、上室に貯蔵され
た低温液化ガスを下室に移動する従来技術の例を
第3図に示す。
段式低温液化ガス容器について、上室に貯蔵され
た低温液化ガスを下室に移動する従来技術の例を
第3図に示す。
第3図において、断熱容器1は外槽3と内槽2
により形成され、その間は断熱層となつて居り、
内槽2の中央部に水平に設置された分割板6で上
室4と下室4′に分割されている。上室4への低
温液化ガスは例えば低温液化ガス受入配管7より
供給・貯蔵される。この低温液化ガスを上室4に
おいて気液分離を充分におこない安定化させたの
ち下室4′に移動する場合、断熱容器1の外部に
上室4と下室4′を連結する断熱配管9および低
温用の弁10〔またはアクチユエーター弁〕が設
けられ、上室4に貯蔵された低温液化ガス5は弁
10の開閉により上記管路を通じて下室4′に上
室4と下室4′の圧力差または落差を利用して移
動され下室の液化ガス5′となる。尚8は液化ガ
ス5′の取出用配管である。
により形成され、その間は断熱層となつて居り、
内槽2の中央部に水平に設置された分割板6で上
室4と下室4′に分割されている。上室4への低
温液化ガスは例えば低温液化ガス受入配管7より
供給・貯蔵される。この低温液化ガスを上室4に
おいて気液分離を充分におこない安定化させたの
ち下室4′に移動する場合、断熱容器1の外部に
上室4と下室4′を連結する断熱配管9および低
温用の弁10〔またはアクチユエーター弁〕が設
けられ、上室4に貯蔵された低温液化ガス5は弁
10の開閉により上記管路を通じて下室4′に上
室4と下室4′の圧力差または落差を利用して移
動され下室の液化ガス5′となる。尚8は液化ガ
ス5′の取出用配管である。
この様な場合、外部に設置される断熱配管9及
び弁10は大気よりの熱侵入をうけ低温液化ガス
に相当の熱損失または気化によるバブリングが発
生する欠陥があり、弁10の故障に際して断熱配
管の断熱部の解体の必要性が生じるなど保守管理
上にも問題があつた。
び弁10は大気よりの熱侵入をうけ低温液化ガス
に相当の熱損失または気化によるバブリングが発
生する欠陥があり、弁10の故障に際して断熱配
管の断熱部の解体の必要性が生じるなど保守管理
上にも問題があつた。
本考案は、この様な事実にかんがみなされたも
ので、断熱容器に貯蔵された低温液化ガスの移
送、移動について、外部熱エネルギーの影響をな
るべく少なくし、かつ、保守管理性に優れた低温
液化ガス用アクチユエーター弁を提供することを
目的とする。
ので、断熱容器に貯蔵された低温液化ガスの移
送、移動について、外部熱エネルギーの影響をな
るべく少なくし、かつ、保守管理性に優れた低温
液化ガス用アクチユエーター弁を提供することを
目的とする。
本考案の上記目的は第3図に示す断熱配管9、
弁10の如き断熱容器の外部に取付ける如き手段
の代りに、断熱容器そのものを弁箱として内部に
弁の開閉部を設けこれを断熱容器の外部から操作
可能とすることにより達成される。以下図面を参
照して本考案を説明する。
弁10の如き断熱容器の外部に取付ける如き手段
の代りに、断熱容器そのものを弁箱として内部に
弁の開閉部を設けこれを断熱容器の外部から操作
可能とすることにより達成される。以下図面を参
照して本考案を説明する。
第1図に示す如く、本考案による外部から操作
可能なアクチユエーター弁11が断熱容器1の上
方から容器1の上室4に挿入され、弁11の操作
により上室4、下室4′との間の流通が制御され
る様になされている。この場合弁操作のためのア
クチユエーター操作部A(第2図)は断熱容器の
外部上方に位置し、上下室の流通を制御する弁機
能部B(第2図)は上下室間を水平方向に分割す
る分割板6の中央部付近に位置し操作部Aにより
操作される様になつている。アクチユエーター弁
11の一実施例の断面図が弁箱でもある断熱容器
1の関連部分と共に第2図に示されている。
可能なアクチユエーター弁11が断熱容器1の上
方から容器1の上室4に挿入され、弁11の操作
により上室4、下室4′との間の流通が制御され
る様になされている。この場合弁操作のためのア
クチユエーター操作部A(第2図)は断熱容器の
外部上方に位置し、上下室の流通を制御する弁機
能部B(第2図)は上下室間を水平方向に分割す
る分割板6の中央部付近に位置し操作部Aにより
操作される様になつている。アクチユエーター弁
11の一実施例の断面図が弁箱でもある断熱容器
1の関連部分と共に第2図に示されている。
アクチユエーター弁の弁座13は概ね筒状で分
割板6の中央にあけた穴に取付けた弁座受け12
に受けられている。弁座13に当接する弁デイス
ク14は上部のアクチユエーター部Aより下方に
伸長する弁棒15の先端にねじ止めされていて、
弁棒15の上下により弁デイスク14が上下して
弁座13と協働して上下室の間を開閉する。弁座
受け12は中心に貫通孔を有し、下部はスリーブ
を形成して、薄肉出口管32を接続し、上部は前
記の弁座13を嵌合固定する形状例えば異径段付
きに形成されている。弁座受け12、出口管32
は共にステンレス等の材料で形成され、ロー付
け、溶接等で接続されれる。出口管32は下室
4′の低温液化ガス5′の通常の操作時に想定され
る液面下に達する様に垂直下方に延びる。弁座1
3は弁座受け12に嵌合された時に弁座受け12
との間に気密を保つ如き形状、寸度を嵌合面に有
する様に形成されて居り、低温特性が良好で適度
な硬度を有する材例、例えば商品名ダイフロンの
如き弗素系樹脂が用いられる。
割板6の中央にあけた穴に取付けた弁座受け12
に受けられている。弁座13に当接する弁デイス
ク14は上部のアクチユエーター部Aより下方に
伸長する弁棒15の先端にねじ止めされていて、
弁棒15の上下により弁デイスク14が上下して
弁座13と協働して上下室の間を開閉する。弁座
受け12は中心に貫通孔を有し、下部はスリーブ
を形成して、薄肉出口管32を接続し、上部は前
記の弁座13を嵌合固定する形状例えば異径段付
きに形成されている。弁座受け12、出口管32
は共にステンレス等の材料で形成され、ロー付
け、溶接等で接続されれる。出口管32は下室
4′の低温液化ガス5′の通常の操作時に想定され
る液面下に達する様に垂直下方に延びる。弁座1
3は弁座受け12に嵌合された時に弁座受け12
との間に気密を保つ如き形状、寸度を嵌合面に有
する様に形成されて居り、低温特性が良好で適度
な硬度を有する材例、例えば商品名ダイフロンの
如き弗素系樹脂が用いられる。
操作部Aと、弁機能作動部Bとを接続し、断熱
容器1の機能を保持するために、弁取付突起部C
が断熱容器1の上部に設けられている。この弁取
付部Cを貫通して弁棒15と、弁棒15を包囲す
る仕切りチユーブ17とが上方の操作部Aと、弁
機能部Bとを接続している。仕切りチユーブ17
は弁棒15と低温液化ガス5及びその気相部とを
陥離すると共に弁座13を所定位置に保持する機
能を有している。弁座13は仕切りチユーブ17
とほぼ同径の筒状で下方に弁デイスク14と接触
して密閉作用を行う小径孔段部を有し、側壁に複
数の細孔30が設けられている。又上部外周に雄
ねじを設け、仕切りチユーブ17下端に設けた雌
ねじと係合せしめ、この仕切りチユーブ17を下
方に圧することにより弁座受け12に対して気密
的に弁座13が保持される。仕切りチユーブ17
の上端は操作部Aの作動用シリンダー33に接続
され、又弁棒15の上端はこのシリンダー33内
を摺動するピストン34に接続されている。
容器1の機能を保持するために、弁取付突起部C
が断熱容器1の上部に設けられている。この弁取
付部Cを貫通して弁棒15と、弁棒15を包囲す
る仕切りチユーブ17とが上方の操作部Aと、弁
機能部Bとを接続している。仕切りチユーブ17
は弁棒15と低温液化ガス5及びその気相部とを
陥離すると共に弁座13を所定位置に保持する機
能を有している。弁座13は仕切りチユーブ17
とほぼ同径の筒状で下方に弁デイスク14と接触
して密閉作用を行う小径孔段部を有し、側壁に複
数の細孔30が設けられている。又上部外周に雄
ねじを設け、仕切りチユーブ17下端に設けた雌
ねじと係合せしめ、この仕切りチユーブ17を下
方に圧することにより弁座受け12に対して気密
的に弁座13が保持される。仕切りチユーブ17
の上端は操作部Aの作動用シリンダー33に接続
され、又弁棒15の上端はこのシリンダー33内
を摺動するピストン34に接続されている。
上室4の内槽2部には弁棒15仕切りチユーブ
17と同芯に円型の穴加工が施され、該穴部には
平板リング状のシールパイプ受け29が設けられ
その外側部は内槽2に、またその内面には真空シ
ールパイプ27の下端が溶接により固定され、垂
直に固定された真空シールパイプの上端は突起部
Cに設けた筒状スペーサー25の内面に同様な手
段で固定される。
17と同芯に円型の穴加工が施され、該穴部には
平板リング状のシールパイプ受け29が設けられ
その外側部は内槽2に、またその内面には真空シ
ールパイプ27の下端が溶接により固定され、垂
直に固定された真空シールパイプの上端は突起部
Cに設けた筒状スペーサー25の内面に同様な手
段で固定される。
また、断熱容器1の外槽3には真空シールパイ
プ27と同芯の更に大径の穴あけ加工が施され、
該穴の内面には外管28の下部が溶接により固定
され、その上端は前記スペーサー25の外周に嵌
合されて溶接等により固定される。
プ27と同芯の更に大径の穴あけ加工が施され、
該穴の内面には外管28の下部が溶接により固定
され、その上端は前記スペーサー25の外周に嵌
合されて溶接等により固定される。
前記仕切り棒17を介して前記弁座13を弁座
受け12に対して気密嵌合を保持するため突起部
Cに於てスプリングを使用して仕切りチユーブ1
7を下方に偏倚する様になされている。この様に
仕切りチユーブ17を取付けるためのスプリング
箱18がスペーサー25に嵌合し、溶接等により
固着されている。尚スペーサー25とスプリング
箱18とは一体のものとすることも可能である。
受け12に対して気密嵌合を保持するため突起部
Cに於てスプリングを使用して仕切りチユーブ1
7を下方に偏倚する様になされている。この様に
仕切りチユーブ17を取付けるためのスプリング
箱18がスペーサー25に嵌合し、溶接等により
固着されている。尚スペーサー25とスプリング
箱18とは一体のものとすることも可能である。
スプリング箱18の内面に対応する仕切りチユ
ーブ17の外面には溶接または段付けによりスプ
リング受け20が固着されている。仕切りチユー
ブ17のスプリング受け上方に於てスプリング2
2、スプリング抑え21、アダプター24、をチ
ユーブの囲りに挿入し、気密保持用のパツキング
23を介してグランドナツト19によりスプリン
グ箱に固定する。ナツト19とスプリング箱18
との間にはガスケツト26を配置する。スプリン
グ22は圧縮ばねで、チユーブ17を下方に押圧
し、弁座13を弁座受け12に対して保持すると
共に、チユーブ17の温度変化による膨張、収縮
を吸収する。仕切りチユーブ17、スプリング受
け20、スプリング22、スプリング抑え21及
びグランドナツト19は低温特性に優れたステン
レス材が好適であり、アダプター24およびパツ
キング23は弗化樹脂、例えば商品名テフロン材
のものが用いられる。
ーブ17の外面には溶接または段付けによりスプ
リング受け20が固着されている。仕切りチユー
ブ17のスプリング受け上方に於てスプリング2
2、スプリング抑え21、アダプター24、をチ
ユーブの囲りに挿入し、気密保持用のパツキング
23を介してグランドナツト19によりスプリン
グ箱に固定する。ナツト19とスプリング箱18
との間にはガスケツト26を配置する。スプリン
グ22は圧縮ばねで、チユーブ17を下方に押圧
し、弁座13を弁座受け12に対して保持すると
共に、チユーブ17の温度変化による膨張、収縮
を吸収する。仕切りチユーブ17、スプリング受
け20、スプリング22、スプリング抑え21及
びグランドナツト19は低温特性に優れたステン
レス材が好適であり、アダプター24およびパツ
キング23は弗化樹脂、例えば商品名テフロン材
のものが用いられる。
前述の構成により仕切りチユーブ17と真空シ
ールパイプ27との間に形成された空間41は上
室4の気相雰囲気のもとにあり、アダプター2
4、パツキング23、グランドナツト19および
スプリング箱18、ガスケツト26により外気と
遮断される。一方、真空シールパイプ27、外管
28およびスペーサー25にて形成された断熱空
間42は真空および/または他の断熱手段により
大気よりの熱侵入を防止する。
ールパイプ27との間に形成された空間41は上
室4の気相雰囲気のもとにあり、アダプター2
4、パツキング23、グランドナツト19および
スプリング箱18、ガスケツト26により外気と
遮断される。一方、真空シールパイプ27、外管
28およびスペーサー25にて形成された断熱空
間42は真空および/または他の断熱手段により
大気よりの熱侵入を防止する。
前記の空間41の上方に対応する仕切りチユー
ブ17にはガス抜きのため複数の孔31が設けら
れている。
ブ17にはガス抜きのため複数の孔31が設けら
れている。
弁機能部Bの弁デイスクを作動させるための操
作部Aは既述のシリンダ33、ピストン34を含
んで示されている。シリンダ33はシリンダーカ
バー36で端部が覆われカバー36とピストン3
4との間に圧縮スプリング35が挿入されてい
る。シリンダのポート38を介して空気圧が加え
られるとピストン34がスプリング35に抗して
弁棒15と共に上方に動き弁デイスク14を弁座
13から離して弁を開口する。空気圧を解除すれ
ば弁デイスク14はスプリング35により下方に
動き弁口を閉じる。空気圧の制御は電磁弁(図示
なし)等により行うことが可能である。
作部Aは既述のシリンダ33、ピストン34を含
んで示されている。シリンダ33はシリンダーカ
バー36で端部が覆われカバー36とピストン3
4との間に圧縮スプリング35が挿入されてい
る。シリンダのポート38を介して空気圧が加え
られるとピストン34がスプリング35に抗して
弁棒15と共に上方に動き弁デイスク14を弁座
13から離して弁を開口する。空気圧を解除すれ
ば弁デイスク14はスプリング35により下方に
動き弁口を閉じる。空気圧の制御は電磁弁(図示
なし)等により行うことが可能である。
弁開閉に関与する弁デイスク14は弁座13内
を摺動可能であり、その下部が上部に対して短径
に段付き加工され、更に下端部はテーパー加工さ
れ、弁座13の段付き下部の短径突出部に対して
弁端を形成する。上室4に貯蔵され出口側に対し
て圧力差または落差を保有する低温液化ガス5は
弁デイスク14の上下動により例えば弁デイスク
14が引き上げられた場合、細穴30より弁座1
3の内面の上部長径部と弁デイスク下部の短径部
により形成される空間を通り、弁座13の弁端部
外周に沿つて出口管32へ移動する。なお、弁デ
イスク14の周辺で気化した低温ガスは弁デイス
ク14と弁座13の間隙より空間41を上昇し仕
切りチユーブ17に設けられた複数の穴31より
空間42を経て上室4の気相部に還流される。空
間41の外気に対する遮断は弁棒15の上部に設
けられたOリング37により達成される。
を摺動可能であり、その下部が上部に対して短径
に段付き加工され、更に下端部はテーパー加工さ
れ、弁座13の段付き下部の短径突出部に対して
弁端を形成する。上室4に貯蔵され出口側に対し
て圧力差または落差を保有する低温液化ガス5は
弁デイスク14の上下動により例えば弁デイスク
14が引き上げられた場合、細穴30より弁座1
3の内面の上部長径部と弁デイスク下部の短径部
により形成される空間を通り、弁座13の弁端部
外周に沿つて出口管32へ移動する。なお、弁デ
イスク14の周辺で気化した低温ガスは弁デイス
ク14と弁座13の間隙より空間41を上昇し仕
切りチユーブ17に設けられた複数の穴31より
空間42を経て上室4の気相部に還流される。空
間41の外気に対する遮断は弁棒15の上部に設
けられたOリング37により達成される。
弁デイスク14、弁棒15の上下動操作は断熱
容器1の突起部上に設けられた前述のアクチユエ
ーター機構によりおこなわれる。この機構にポジ
シヨナーを取付けることにより移動させるべき低
温液化ガスの流量コントロールもまた可能であ
る。
容器1の突起部上に設けられた前述のアクチユエ
ーター機構によりおこなわれる。この機構にポジ
シヨナーを取付けることにより移動させるべき低
温液化ガスの流量コントロールもまた可能であ
る。
なお、弁棒15は断熱効率をはかるため出来る
限り細径のものが望ましく、同様の理由から仕切
りチユーブ17、真空シールパイプ27も薄肉の
ステンレス管を用いることが望ましい。
限り細径のものが望ましく、同様の理由から仕切
りチユーブ17、真空シールパイプ27も薄肉の
ステンレス管を用いることが望ましい。
本考案に於ては、前記の如き構成となつて居る
ので、弁デイスク14弁座13等を交換する場合
等には仕切りチユーブ17の上端部とシリンダー
33とのねじ係合を分離することにより弁棒1
5、弁デイスク14を上方に引き抜くことが可能
であり、又グランドナツト19をスプリング箱1
8からはずせば上記部分を含めて、仕切りチユー
ブ17、弁座13を上方に引き抜くことが簡単に
出来、保守管理、部品交換等が容易に行える。尚
これらの分解時に於て容器の断熱層への影響はな
い。
ので、弁デイスク14弁座13等を交換する場合
等には仕切りチユーブ17の上端部とシリンダー
33とのねじ係合を分離することにより弁棒1
5、弁デイスク14を上方に引き抜くことが可能
であり、又グランドナツト19をスプリング箱1
8からはずせば上記部分を含めて、仕切りチユー
ブ17、弁座13を上方に引き抜くことが簡単に
出来、保守管理、部品交換等が容易に行える。尚
これらの分解時に於て容器の断熱層への影響はな
い。
本考案を図示の実施例により説明したが、その
構成は図示説明のものに限られず、種々の変形、
変化が考えられる。
構成は図示説明のものに限られず、種々の変形、
変化が考えられる。
例えばアクチユエーター操作は図示例以外にも
ラツク、ピニオンの組合わせによる弁棒移動、或
いは回転ねじの軸方向移動を利用する等も可能で
ある。
ラツク、ピニオンの組合わせによる弁棒移動、或
いは回転ねじの軸方向移動を利用する等も可能で
ある。
又実施例に於ては低温液化ガスの上室から下室
への移動について説明したが上室、下室の区別の
ない単室の断熱容器の場合に、弁座と弁デイスク
の組合わせ部分から内部の液化ガスを取出すため
の構成とすることも可能である。この場合、図示
の分割板6が容器の底部となりその下面を断熱層
とすればよい。
への移動について説明したが上室、下室の区別の
ない単室の断熱容器の場合に、弁座と弁デイスク
の組合わせ部分から内部の液化ガスを取出すため
の構成とすることも可能である。この場合、図示
の分割板6が容器の底部となりその下面を断熱層
とすればよい。
本考案は、以上説明したように、低温液化ガス
を収蔵した容器そのものを弁箱とし、その内部に
アクチユエーター操作部を除いたすべての機構を
内蔵するため、外部より侵入する熱エネルギーの
影響をうけることが少なく、低温液化ガスを安定
した状態で移動することができ、断熱層に関係な
く分解、組立ができるので保守、管理性が極めて
優れている。
を収蔵した容器そのものを弁箱とし、その内部に
アクチユエーター操作部を除いたすべての機構を
内蔵するため、外部より侵入する熱エネルギーの
影響をうけることが少なく、低温液化ガスを安定
した状態で移動することができ、断熱層に関係な
く分解、組立ができるので保守、管理性が極めて
優れている。
第1図は本考案によるアクチユエーター弁を組
み込んだ低温液化ガス用の断熱容器を示す概略断
面図、第2図は前記第1図の弁機構を示す部分的
断面図、第3図は従来技術を示す概略図である。 図面に於て、1:断熱容器、4:上室、4′:
下室、5.5′:低温液化ガス、6:分割板(底
部)、12:弁座受け、13:弁座、14:弁デ
イスク、15:弁棒、17:仕切りチユーブ、2
2:スプリング(弾性手段)、A:操作部、B:
弁機能部、C:弁取付突起部。
み込んだ低温液化ガス用の断熱容器を示す概略断
面図、第2図は前記第1図の弁機構を示す部分的
断面図、第3図は従来技術を示す概略図である。 図面に於て、1:断熱容器、4:上室、4′:
下室、5.5′:低温液化ガス、6:分割板(底
部)、12:弁座受け、13:弁座、14:弁デ
イスク、15:弁棒、17:仕切りチユーブ、2
2:スプリング(弾性手段)、A:操作部、B:
弁機能部、C:弁取付突起部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 〔1〕 低温液化ガスを収納する室を有する断熱
容器と; 前記室の底部に設けられ、貫通孔を有する弁
座受けと; 前記容器の上方外部より前記室内に延在する
上下可動の弁棒と; 前記弁棒の先端にとりつけられた弁デイスク
と; 前記弁座受けに嵌合された筒状の弁座でその
内孔に於て前記弁デイスクが摺動可能で弁デイ
スクと共に開閉可能な弁口を形成する弁座と; 前記弁棒の上下動を制御するため前記弁棒上
部に於て弁棒に接続する操作部と; 前記弁座に接続され、弁座と前記操作部との
間に前記弁棒を包囲して延在する仕切りチユー
ブと; 前記弁座を前記弁座受けに前記仕切りチユー
ブを介して弾性的に押圧する弾性手段と; を含む低温液化ガス用アクチユエーター弁。 〔2〕 前記室が水平の分割板で上下二室に分割
され、前記底部が上室の底部である前記第1項
に記載の低温液化ガス用アクチユエーター弁。 〔3〕 前記弾性手段が前記容器の外部で、前記
仕切りチユーブが容器を貫通する部分にとりつ
けられている前記第1項又は第2項に記載の低
温液化ガス用アクチユエーター弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11322086U JPH0236996Y2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11322086U JPH0236996Y2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318678U JPS6318678U (ja) | 1988-02-06 |
| JPH0236996Y2 true JPH0236996Y2 (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=30994815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11322086U Expired JPH0236996Y2 (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0236996Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-07-23 JP JP11322086U patent/JPH0236996Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6318678U (ja) | 1988-02-06 |
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